]转轴定位机构100的一种改进方案，定位装置3的两个定位珠301的弹性抵顶端3011相贴触，可以使定位珠301的弹性抵顶端3011嵌入定位孔4011的部位更多，使定位更稳固。
[0032]转轴定位机构100的一种改进方案，座体2的外侧设有定位凸起活动槽202，凸起活动槽202上设有第一定位珠安装孔203，定位装置3的一个定位珠301安装在第一定位珠安装孔203上；座体2的外侧设有座盖6，座盖6上设有供转轴I端部穿过的座盖轴孔601，以及第二定位珠安装孔602，定位装置3的另一个定位珠301安装在第二定位珠安装孔602上。通过上述结构的改进，定位装置3的安装和拆卸更方便，从而使产品的结构更简单。
[0033]转轴定位机构100的一种改进方案，凸起活动槽202由设于座体2侧部的四个对称设置的连接凸起2031和2032之间的空间形成，座盖6安装在连接凸起2031和2032上，第一定位珠安装孔203关于座体轴孔201水平对称设置有两个，座盖6上对应地设有两个第二定位珠安装孔602，定位装置3设有两个，每个定位装置3的两个定位顶珠301对应地安装在相配对的第一定位珠安装孔203和第二定位珠安装孔602上；第一定位珠安装孔203的两个位置对应华夫炉盘体的上下盘面置换的定位位置。
[0034]转轴定位机构100的一种改进方案，第一定位珠安装孔203位于座体轴孔201 —侧的两个连接凸起2031和2032之间，并且位于上侧的连接凸起2031阻挡定位凸起401向上旋转；从而限制华夫炉的盘体的旋转范围只可从第一定位珠安装孔203的位置往下旋转，方便使用者确定华夫炉盘体的烤面切换情况，防止旋转过度，导致无法使华夫炉盘体定位到需要的位置。
[0035]转轴定位机构100的一种改进方案，定位件4为定位套，定位套4中部设有与转轴I套接的套孔402，定位凸起401为设于定位套4外侧的凸耳，采用这种结构，产品的结构更简单。
[0036]转轴定位机构100的一种改进方案，套孔402内壁上设有连接键4021，转轴I上设有与连接键4021配合的键槽。
[0037]转轴定位机构100的一种改进方案，转轴I与座体轴孔201通过轴承或轴套5配合，使转轴I旋转更顺畅，转轴I与座体轴孔201磨损更小。
[0038]转轴定位机构100的一种改进方案，转轴I的外端设有转轴连接座1011，以方便转轴I安装到华夫炉上。
[0039]实施例二:
[0040]参见图8和图9，本实施例提供了一种应用本实用新型转轴定位机构100的华夫炉，其包括机座7和盘体8，盘体8包括叠置的第一盘体801和第二盘体802 ;盘体8的一侧设有支承轴803，盘体8的另一侧设有盘体连接座804，支承轴803的末端设有旋转手柄8031，转轴定位机构100的转轴连接座1011与盘体连接座804连接，机座7设有支撑支承轴803的第一支承部701以及安装转轴定位机构100的第二支承部702，转轴定位机构100的座体2安装在第二支承部702上。本实用新型提供的华夫炉，其盘体采用本实用新型的转轴定位机构100与机座7进行连接和定位，具有结构简单、安装方便、定位准确和旋转顺畅的优点。
[0041]根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面揭示和描述的【具体实施方式】，对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制。
【主权项】
1.一种转轴定位机构，其特征在于:包括转轴、座体、定位件和设置在座体上的定位装置，所述座体上设有与所述转轴配合的座体轴孔，所述定位件安装在所述转轴上；所述定位件的外侧设有定位凸起，所述定位凸起上设有定位孔；所述定位装置设有两个以上并布置在定位件的外侧，所述定位装置包括两个定位珠，所述两个定位珠的弹性抵顶端相对设置，所述两个定位珠分布在定位凸起沿转轴轴向的两侧，所述两个定位珠设在定位孔随转轴旋转形成的圆形轨迹上，两个定位珠的弹性抵顶端的相对距离小于所述定位凸起沿定位孔轴向的厚度。2.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于:所述定位装置的两个定位珠的弹性抵顶端相贴触。3.根据权利要求1或2所述的转轴定位机构，其特征在于:所述座体的外侧设有定位凸起活动槽，所述凸起活动槽上设有第一定位珠安装孔，所述定位装置的一个定位珠安装在第一定位珠安装孔上；所述座体的外侧设有座盖，所述座盖上设有第二定位珠安装孔，所述定位装置的另一个定位珠安装在第二定位珠安装孔上。4.根据权利要求3所述的转轴定位机构，其特征在于:所述凸起活动槽由设于座体侧部的四个对称设置的连接凸起之间的空间形成，所述座盖安装在所述连接凸起上，所述第一定位珠安装孔关于座体轴孔水平对称设置有两个，所述座盖上对应地设有两个第二定位珠安装孔，所述定位装置设有两个，每个定位装置的两个定位顶珠对应地安装在相配对的第一定位珠安装孔和第二定位珠安装孔上。5.根据权利要求4所述的转轴定位机构，其特征在于:所述第一定位珠安装孔位于座体轴孔一侧的两个连接凸起之间，并且位于上侧的连接凸起阻挡定位凸起向上旋转。6.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于:所述定位件为定位套，所述定位套中部设有与所述转轴套接的套孔，所述定位凸起为设于定位套外侧的凸耳。7.根据权利要求6所述的转轴定位机构，其特征在于:所述套孔内壁上设有连接键，所述转轴上设有与所述连接键配合的键槽。8.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于:所述转轴与座体轴孔通过轴承或轴套配合。9.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于:所述转轴的外端设有转轴连接座。10.一种应用权利要求1所述转轴定位机构的华夫炉，其特征在于:包括机座和盘体，所述盘体包括叠置的第一盘体和第二盘体；所述盘体的一侧设有支承轴，所述盘体的另一侧设有盘体连接座，所述支承轴的末端设有旋转手柄，所述转轴定位机构的转轴的外端与所述盘体连接座连接，所述机座设有支承所述支承轴的第一支承部以及安装所述转轴定位机构的第二支承部。
【专利摘要】本实用新型提供了一种转轴定位机构和应用该定位机构的华夫炉，该转轴定位机构包括转轴、座体、定位件和设置在座体上的定位装置，座体上设有与转轴配合的座体轴孔，定位件安装在转轴上；定位件的外侧设有定位凸起，定位凸起上设有定位孔；定位装置设有两个以上并布置在定位件的外侧，定位装置包括两个定位珠，两个定位珠的弹性抵顶端相对设置，两个定位珠分布在定位凸起沿转轴轴向的两侧，两个定位珠设在定位孔随转轴旋转形成的圆形轨迹上，两个定位珠的弹性抵顶端的相对距离小于定位凸起沿定位孔轴向的厚度。与现有技术相比，本实用新型的转轴定位机构和华夫炉，具有结构简单、安装方便、盘体定位准确和旋转顺畅的优点。
【IPC分类】A21B3/00, F16C11/10
【公开号】CN204716736
【申请号】CN201520406243
【发明人】徐国仪
【申请人】徐国仪
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年6月12日