专利名称：集成电路版图构造方法
技术领域：
本发明涉及一种集成电路版图构造方法。
背景技术：
集成电路的设计流程，可以分为前端设计和后端设计。其中，物理版 图设计属于后端设计，而自动布局布线又属于物理版图设计的一种。
在版图构造的过程中，需要对版图进行物理验证，看其是否满足设计 规则。现有的版图构造方法，具体可包括如下几个步骤
(1) 设定构造版图的设计规则；
(2) 调用单元库版(3) 将所调用的单元库版图进行组合，构造出版(4) 对构造出的版图进行检查，确定该版图是否符合先前设定的设计规 则，如果符合，版图构造步骤结束；如果不符合，回到第(1)步或者第(3) 步。
在版图构造的过程中，需要调用大量的已存在的单元库组成新的版图， 这些本身是已经满足设计规则的，但被调用后重新组合成新的版图的时候 就不一定满足物理设计规则(design rule) 了，如图1所示，这是一个符 合设计规则的单元库版图，但是如果以相对的形式进行组合，如图2所示， 组合之后的版图就不符合涉及规则了。对于这样的情况，就需要重新对其 进行设计规则检査。这就增加了版图工程师的工作量，并且使版图设计的
周期加长。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种集成电路版图构造方法，能 够使得单元库版图在组合之后仍旧会符合设计规则的要求，大大提高版图 设计的准确性，以及提高版图设计的效率。
为解决上述技术问题，本发明集成电路版图构造方法的技术方案是， 包括如下步骤
(1) 设定构造版图的设计规则；
(2) 调用单元库版(3) 将所调用的单元库版图进行组合，构造出版(4) 对构造出的版图进行检查，确定该版图是否符合先前设定的设计规 则，如果符合，版图构造步骤结束；如果不符合，回到第(1)步或者第(3) 步；
在调用单元库版图之前，还包括如下步骤在所述单元库版图的外围 设置作为标识层的单元库外边框，所述单元库外边框到所述单元库版图中 图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离的1/2。
本发明集成电路版图构造方法，其步骤简单，性能可靠，根据所调用 的单元库版图，能够准确的构造出符合设计规则的版图，大大提高了版图 构造的工作效率。
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明
图1为现有的单元库版图的示意图2为现有的单元库版图构造出不符合设计规则的版图的示意图； 图3为本发明带有外边框的单元库版图的示意图4为采用本发明的方法，用带有外边框的单元库版图构造集成电路
版图的示意图。
具体实施例方式
本发明集成电路版图构造方法，包括如下步骤
(1) 设定构造版图的设计规则；
(2) 调用单元库版(3) 将所调用的单元库版图进行组合，构造出版(4) 对构造出的版图进行检査，确定该版图是否符合先前设定的设计规 则，如果符合，版图构造步骤结束；如果不符合，回到第(1)步或者第(3) 步；
在调用单元库版图之前，还包括如下步骤在所述单元库版图的外围 设置作为标识层的单元库外边框，外边框仅仅是一个标识层，对芯片制造 过程和芯片的性能应该没有任何影响，所述单元库外边框到所述单元库版 图中图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离的1/2。该"单元库外 边框到所述单元库版图中图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离 的1/2"的规则可被称为"1/2 DRC规则"。
设置有外边框的单元库版图可参见图3所示，图3中的双向箭头标识 版图边界到所述外边框的距离，该距离中最小的要大于或等于该版图层间
最小距离的1/2。
例如Active(有源区氧化层)之间的最小距离为lum，那么其单元库版 图的图形距离外边框的最小间距L就要满足L>=0.5um。按照此种方式， 标准单元库中的每个层次的图形距离外边框的距离都需要满足这个要求， 这样就确保单元库在被调用时候自动满足物理设计规则的要求。
在设置外边框之后，还包括验证所述单元库外边框到所述单元库版图 中图形的最短距离是否大于或等于该版图层间最小距离的1/2的步骤。该 步骤的实现方法，可以是在设计软件中建立一个特殊的物理版图设计规则 验证文件。这个特殊的验证文件与常用的验证文件的区别在于，它只检査 每个层次到外边框的间距是否满足DRC规则"。
对所调用的单元库版图进行组合而构造版图的时候，各单元库版图的 位置以单元库版图的外边框为基准而对齐。如图4所示，各单元库版图的 位置以单元库版图的外边框为基准对齐之后，只要单元库版图满足"^DRC 规则"，就可以保证标构造出的版图也满足设计规则的要求。
本发明通过对单元库版图添加了满足"1/2 DRC规则"的外边框，使得 在集成电路版图构造的过程中，加入简单的步骤，就能够准确的构造出符 合设计规则的版图，大大提高了版图构造的工作效率。
权利要求
1.一种集成电路版图构造方法，包括如下步骤(1)设定构造版图的设计规则；(2)调用单元库版图；(3)将所调用的单元库版图进行组合，构造出版图；(4)对构造出的版图进行检查，确定该版图是否符合先前设定的设计规则，如果符合，版图构造步骤结束；如果不符合，回到第(1)步或者第(3)步；其特征在于，在调用单元库版图之前，还包括如下步骤在所述单元库版图的外围设置作为标识层的单元库外边框，所述单元库外边框到所述单元库版图中图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离的1/2。
2. 根据权利要求1所述的集成电路版图构造方法，其特征在于，在设 置外边框之后，还包括验证所述单元库外边框到所述单元库版图中图形的 最短距离是否大于或等于该版图层间最小距离的1/2的步骤。
3. 根据权利要求1所述的集成电路版图构造方法，其特征在于，对所 调用的单元库版图进行组合而构造版图的时候，各单元库版图的位置以单 元库版图的外边框为基准而对齐。
全文摘要
本发明公开了一种集成电路版图构造方法，在现有的方法中调用单元库版图的步骤之前，加入如下步骤在所述单元库版图的外围设置作为标识层的单元库外边框，所述单元库外边框到所述单元库版图中图形的最短距离大于或等于该版图层间最小距离的1/2。本发明集成电路版图构造方法，步骤简单，性能可靠，根据所调用的单元库版图，能够准确的构造出符合设计规则的版图，大大提高了版图构造的工作效率。
文档编号G06F17/50GK101201854SQ200610147330
公开日2008年6月18日 申请日期2006年12月15日 优先权日2006年12月15日
发明者裴建军 申请人:上海华虹Nec电子有限公司