1.一种OGS触摸屏，其特征在于OGS触摸屏由上至下依次为保护层、透明层、BM油墨层、强化玻璃基板和柔性电路板组成，所述BM油墨层电镀在强化玻璃基板外周边缘表面上，所述透明层涂覆在强化玻璃基板及BM油墨层表面，且保证透明层上表面平整。
2.根据权利要求1所述的一种OGS触摸屏，其特征在于所述的保护层为PET保护膜。
3.根据权利要求1所述的一种OGS触摸屏，其特征在于所述BM油墨层的厚度为0.3μm~1.5μm。
4.根据权利要求1所述的一种OGS触摸屏，其特征在于在BM油墨层上透明层的厚度为0.1μm~0.3μm。
5.根据权利要求1所述的一种OGS触摸屏，其特征在于所述的强化玻璃基板是按以下步骤制备的：
①、采用阳离子交换法对玻璃基材进行一次强化处理，然后采用超纯水进行清洗，得到第一强化后玻璃基材，阳离子交换法采用的阳离子交换剂为硝酸钾熔融液；
②、对第一强化后玻璃基材外周边缘部分进行抛光处理，在未抛光处理的第一强化后玻璃基材表面贴附防酸膜，然后置于氢氟酸的水溶液进行二次强化处理，得到二次强化处理后玻璃基材；所述氢氟酸的水溶液中氢氟酸的质量分数为10%~20%；
③、采用超纯水对二次强化处理后玻璃基材进行喷淋清洗，然后除去防酸膜，再采用超纯水进行超声清洗，烘干后，即得到强化玻璃基板。
6.如权利要求1所述的一种OGS触摸屏的制备方法，其特征在于它是按以下步骤完成的：
一、制备强化玻璃基板：
①、采用阳离子交换法对玻璃基材进行一次强化处理，然后采用超纯水进行清洗，得到第一强化后玻璃基材，阳离子交换法采用的阳离子交换剂为硝酸钾熔融液；
②、对第一强化后玻璃基材外周边缘部分进行抛光处理，在未抛光处理的第一强化后玻璃基材表面贴附防酸膜，然后置于氢氟酸的水溶液进行二次强化处理，得到二次强化处理后玻璃基材；所述氢氟酸的水溶液中氢氟酸的质量分数为10%~20%；
③、采用超纯水对二次强化处理后玻璃基材进行喷淋清洗，然后除去防酸膜，再采用超纯水进行超声清洗，烘干后，即得到强化玻璃基板；
二、激光蚀刻：将强化玻璃基板一侧表面需要蚀刻的图案转化成激光路径，并将该激光路径导入激光设备，用激光设备对强化玻璃基板进行蚀刻，得到激光蚀刻后强化玻璃基板；
三、电镀BM油墨层：在激光蚀刻后强化玻璃基板未激光蚀刻的一侧表面除外周边缘外贴附保护膜，然后在激光蚀刻后强化玻璃基板未激光蚀刻的一侧表面上电镀BM油墨层，至激光蚀刻后强化玻璃基板外周边缘表面上电镀BM油墨层厚度为0.3μm~1.5μm为止，去掉贴附的保护膜，得到BM油墨层/强化玻璃基板；
四、涂覆透明层：在电镀BM油墨层强化玻璃基板的BM油墨层一侧涂覆透明层，至BM油墨层上透明层的厚度为0.1μm~0.3μm为止，得到透明层/BM油墨层/强化玻璃基板；
五、粘接保护层：利用光学胶在透明层/BM油墨层/强化玻璃基板的透明层表面粘接保护层，得到保护层/透明层/BM油墨层/强化玻璃基板；
六、热压柔性电路板：将柔性电路板热压连接至保护层/透明层/BM油墨层/强化玻璃基板的激光蚀刻的一侧表面上，即得到OGS触摸屏。
7.根据权利要求6所述的一种OGS触摸屏的制备方法，其特征在于步骤一①中在温度为400~450℃下将玻璃基材浸泡于硝酸钾熔融液中，处理6h~7h，取出后采用超纯水进行清洗，得到第一强化后玻璃基材。
8.根据权利要求7所述的一种OGS触摸屏的制备方法，其特征在于步骤一①中所述玻璃基材的厚度为0.2mm~1.1mm，所述第一强化后玻璃基材的强化深度为20μm。
9.根据权利要求6所述的一种OGS触摸屏的制备方法，其特征在步骤二中强化玻璃基板一侧表面需要蚀刻的图案中包含多个由激光路径围成的功能图案和非功能图案；其中，激光路径设在功能图案外侧，激光路径到功能图案边沿的距离为激光光柱的半径；激光路径设在非功能图案内侧，激光路径到非功能图案边沿的距离为激光光柱的半径；
步骤二中强化玻璃基板一侧表面需要蚀刻的图案中包含非功能区域，激光路径将非功能区域划分成多个小非功能区域。
10.根据权利要求6所述的一种OGS触摸屏的制备方法，其特征在于步骤三中所述的BM油墨层/强化玻璃基板的BM油墨层作定制化的颜色处理。