专利名称：双层配线结构的tft阵列基板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种液晶显示装置，尤其涉及一种双层配线结构的可修复线 缺陷的TFT阵列基板。
背景技术：
液晶显示器(LCD )是利用施加在液晶分子上电场强度的变化，改变液晶 分子的取向控制透过光的强弱来显示图像。 一般来讲， 一块完整的液晶显示 面板必须有背光模块、偏光片、TFT (薄膜晶体管)下基板和CF (彩色滤光 板)上基板以及由两块基板组成的盒中填充的液晶分子层构成。TFT基板上 设置有大量的像素电极，像素电极上的电压大小及通断由与横向扫描信号线 相连接的栅极、与纵向驱动信号线连接的源极信号控制。CF上基板上的ITO 公共电极与下基板上的ITO像素电极之间的电场强度变化控制着液晶分子的 取向。TFT基板上与扫描信号线平行并处于同一层的存储电容公共线和ITO 像素电极之间形成的存储电容用来维持下一个信号来临前液晶分子的状态。在TFT基板的制造过程中，工艺上的任何稍微偏差都可能对显示面板造 成缺陷，或者是导线的断路、短路、或者是像素电极上的污染，影响液晶显 示的画面质量，图1所示即为扫描线配线区因杂质颗粒发生断路的示意图， 因此，液晶面板在制作过程中会考虑对缺陷进行修复，以降低生产成本。大多数TFT基板缺陷均能通过激光切割和激光焊接相结合的方法得到有 效修复，但是位于配线区的断线， 一般常用的方法是利用Laser CVD法沿原 线生长修复线。图2所示为扫描线配线发生断线时的传统修复方案示意图，扫描信号线在某个位置因杂质颗粒出现断路缺陷，利用Laser CVD法沿原线 生长修复线，这种情况下在极其有限的空间内很难保证生长修复线能得到比 较好的电路特性，而且，这种结构在成盒后修复也无能为力。同样的情况也会发生在数据线配线区，信号配线(包括扫描线配线或数 据线配线)的断路及传统修复，降低了液晶显示装置的成品率，增加了生产 成本和加工工序。存在这样的设计，配线釆用两层不相邻的金属进行传输信号，该两层金 属通过在配线两端的接触孔和IT0层连接在一起并且在配线部分图样完全一 致，互相重叠，以达到降低配线电阻的目的。然后如图3所示，当其中一层 金属因杂质颗粒发生断线时，断开的金属分为了两个部分，分别与未断开的 另一层金属形成电容，影响了该配线的RC延迟和显示效果，有可能导致该条 配线与其他配线显示不同。尽管在影响液晶显示面板的画面质量当中，配线区的信号配线断路只是 其缺陷的一个方面，但到目前对其修复釆用的方法，或者工序繁杂，修复效 率和质量都有待提高，或者线路设计双层走线，其中一层断开影响响应时间， 无法满足生产要求。 发明内容本发明专利要解决的技术问题是提供一种具有新型的双层金属配线方式 的液晶显示用TFT阵列基板，在信号配线区发生断路时能自动修复缺陷，无 需进行繁复的CVD沉积修复，也不会产生的电容效应增大配线RC延迟。为了解决上述技术问题，本发明的双层配线结构的TFT阵列基板，包括焊盘、信号配线，在所述阵列基板像素电极层的配线区域，对应于每一根信 号配线旁不设置信号配线的区域还设置与信号配线一一对应的修复配线，在 修复配线的一侧设有至少两个与对应信号配线重叠的连接凸块，连接凸块与 对应信号配线通过接触孔连接导通，所述的连接凸块至少包括设置于修复配 线两端的连接凸块。所述的修复配线可以覆盖相邻两根信号配线的对应区域。所述的信号配 线可以为条状或曲折状。所述的修复配线可以为ITO或IZO配线。所述的两两连接的修复配线和对应的信号配线之间通过接触孔分段多点 连接。连接信号配线和修复配线的接触孔及凸块的间距最好为半个到一个像 素距离。基于上述构思，本发明的双层配线结构的液晶显示用TFT阵列基板由于 釆用了在像素电极层对应于不排设有信号配线的区域设置与原信号配线连接 导通的附加修复配线，在配线处某一层金属发生断路时，如图5所示，无需 增加任何工艺步骤，也无需在扫描信号线、存储公共线沉积中准备修复线， 无需进行修复动作，在很短的一段配线上由未断开的一层金属进行连接，信 号可以通过另一层配线绕过断线处传送到像素区域，使配线区断路引起的线 缺陷问题得到有效的解决。同时由于所述的修复配线与原信号配线是错开设 置的，避免影响配线的RC延迟和显示效果，不会导致该条配线与其他配线 显示不同，从而改善画面显示质量。其接触孔与原接触孔的相连方式完全一致，不存在生产制作困难。 总之本发明TFT阵列基板具有如下优点修复配线和原配线为两层不同金属，故同时发生断裂的几率大幅度降低；即使发生断裂，修复配线和原配线正对面积为零，产生的电容极小；修复配线和原配线之间的连接(接触孔) 与像素内的相同，故而制作没有太大困难，而且每段均有一个接触孔，可以 有效地避免其中一根断线造成相邻配线的电阻差别太大；另外，修复配线和 原配线形成双层配线结构，有利于减少配线电阻。
图l是配线发生断路示意图；图2是配线发生断路时的传统修复方案示意图； 图3是本发明阵列基板的特殊双层配线的结构示意图； 图4是本发明特殊双层配线结构阵列基板的其中一层金属发生断路的示 意图。图中1.扫描线 2.凸块 3.接触孔4.扫描线断路处5.修复配线具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明作进 一 步说明。图3、 4示出了本发明的双层配线结构的TFT阵列基板，包括像素显示 区域和配线区域，配线区域的第一层金属层设置有与扫描线焊盘连接的扫描 信号线1,其另一端通向像素显示区域，为了解决在配线区域可能出现的断 路缺陷，在设置像素电极层(即ITO层或IZO层)时，在配线区域对应相邻 两根扫描线之间的区域与扫描线一一对应的覆盖设置有修复配线5 (即修复 配线5和原扫描线1的正对面积为零同时覆盖原两根扫描线的相邻空间)，在修复配线5的一侧设有至少两个与对应扫描线重叠的连接凸块2，连接凸块2与对应扫描线l通过接触孔3连接导通，所述的连接凸块2 (或连接接 触孔3)至少包括设置于修复配线两端的连接凸块2，两两连接的修复配线5 和对应的扫描线1之间通过接触孔3分段多点连接，其连接的接触孔3及凸 块2的间距为半个到 一个像素距离。第 一根修复配线5的凸块2搭在第 一根 扫描线l上，第二根修复配线5的凸块2搭在第二根扫描线1上，最后一根 扫描线1不与其它配线相邻处依然存在一根修复配线5、并且其凸块2搭在 最后一根扫描线1上，如图3。这样，当第一层金属层中的扫描线1某处4发生断路时，信号则还能从 与之连接的ITO修复配线5绕过断路处4传送；因为修复配线5和扫描线1 正对面积为零，故发生断路的第一金属层(或者ITO层)不会与未发生断 路的ITO层(或者第一金属层)形成较大的电容效应，影响RC延迟时间。同样的，在液晶面板的数据线金属配线，也可以釆用第二金属层和ITO 层作为双层配线，达到同样的效果。
权利要求
1.一种双层配线结构的TFT阵列基板，包括焊盘、信号配线，其特征在于在所述阵列基板像素电极层的配线区域，对应于每一根信号配线旁不设置信号配线的区域还设置与信号配线一一对应的修复配线，在修复配线的一侧设有至少两个与对应信号配线重叠的连接凸块，连接凸块与对应信号配线通过接触孔连接导通，所述的连接凸块至少包括设置于修复配线两端的连接凸块。
2. 根据权利要求1所述的双层配线结构的TFT阵列基板，其特征在于所述 的修复配线对应覆盖相邻两根信号配线之间的区域。
3. 根据权利要求1所述的双层配线结构的TFT阵列基板，其特征在于所述 的信号配线为条状或曲折状。
4. 根据权利要求1所述的双层配线结构的TFT阵列基板，其特征在于所述 的修复配线为ITO或IZO配线。
5. 根据权利要求1、 2、 3或4所述的双层配线结构的TFT阵列基板，其特征 在于所述的两两连接的修复配线和对应的信号配线之间通过接触孔分段 多点连接。
6. 根据权利要求5所述的双层配线结构的TFT阵列基板，其特征在于连接 信号配线和修复配线的接触孔及凸块的间距为半个到一个像素距离。
全文摘要
本发明公开了一种双层配线结构的TFT阵列基板，包括焊盘、信号配线，在所述阵列基板像素电极层的配线区域，对应于每一根信号配线旁不设置信号配线的区域还设置与信号配线一一对应的修复配线，在修复配线的一侧设有至少两个与对应信号配线重叠的连接凸块，连接凸块与对应信号配线通过接触孔连接导通，所述的连接凸块至少包括设置于修复配线两端的连接凸块。本发明的双层配线结构的TFT阵列基板在配线处某一层金属发生断路时，无需增加任何工艺步骤，信号可以通过另一层配线绕过断线处传送到像素区域，使配线区断路引起的线缺陷问题得到有效的解决，从而大大改善了画面显示质量。
文档编号H01L27/12GK101217155SQ20081003245
公开日2008年7月9日 申请日期2008年1月9日 优先权日2008年1月9日
发明者杨海鹏 申请人:上海广电光电子有限公司