专利名称：单片基底清洁装置和基底背面清洁方法
技术领域：
此处公开的本发明涉及基底处理装置和方法，更具体地说，涉及使 用单片基底清洁方式对基底背面进行清洁的装置以及基底背面清洁方 法。
背景技术：
在半导体器件的制造中，首先清洁基底(半导体基底、LCD等)的正 面，然后再对基底进行复杂的处理。因此，在各个制造过程之前，或者 在这些过程之间，需要进行用于除去留在基底表面上的杂质的清洁过程。 例如，在光刻过程中，在涂敷光刻胶之前，在旋转洗涤器中对基底的正 面进行刷洗清洁。
一种众所周知的清洁方法涉及使用机械手(输送机械手)来夹紧基 底，将基底引入到用于清洁的清洁装置中，并且一旦完成清洁就将基底 从清洁装置中移开。此外，在现今的常规操作中，不但要清洁正面(也指 装置形成表面或者上表面)，而且要清洁背面，因此，必须使用基底翻转 装置来翻转基底，从而清洁与基底正面相对的表面(或者背面)，这样就实 现了基底的清洁。
发明内容
本发明提供了一种单片基底清洁装置和一种基底背面清洁方法，能 够通过简化基底背面清洁装置和处理步骤而降低成本，并能使在输送基 底过程中产生的颗粒对基底的污染最小。
本发明的目的不限于此，并且本领域技术人员可以从下面的说明中明显看出这里未具体提到的其它目的。
本发明的实施例提供了单片基底清洁装置，所述装置包括处理室， 在所述处理室中进行基底清洁过程；基底支撑部件，其安装在所述处理 室内部，待处理的基底放置在所述基底支撑部件上；以及基底翻转装置， 其安装在所述处理室内部的所述基底支撑部件的一侧，其中，所述基底 翻转装置包括用于固持基底的固持单元、用于翻转所述固持单元的翻转 单元和用于使所述翻转单元作垂直运动的升降单元。
在一些实施例中，所述固持单元可以包括夹紧部件，它们设置在 所述基底支撑部件上方并且沿基底翻转的转动轴线在彼此相反的方向上 运动，从而夹持/松开基底；以及驱动部件，其用于驱动所述夹紧部件。
在其它实施例中，所述夹紧部件可以包括第一夹紧部件，其用于 夹持靠近所述翻转单元的基底边缘；以及第二夹紧部件，其用于夹持与 所述翻转单元相对的基底边缘。
在其它实施例中，所述驱动部件可以包括基座；第一杆件，其安 装在所述基座的上表面上，能够沿所述转动轴线运动，并且与所述第一 夹紧部件连接；第二杆件，其安装在所述基座的下表面上，能够沿所述 转动轴线运动，并与所述第二夹紧部件连接；汽缸，其使所述第一杆件 和所述第二杆件中的一个杆件作线性往复运动；以及动力传递部件，其 用于传递所述汽缸的驱动力，使得所述第一杆件和所述第二杆件中的另 一个杆件沿与所述第一杆件和所述第二杆件中的所述一个杆件相反的方 向运动。
在其它实施例中，所述汽缸可以安装在所述基座的上表面上，使所 述第一杆件作线性往复运动。
在其它实施例中，所述动力传递部件可以包括第一带轮和第二带 轮，它们安装得穿过所述基座的上表面和下表面；传动带，其缠绕在所 述第一带轮和所述第二带轮上；以及第一连接部件和第二连接部件，它 们使所述第一杆件和所述第二杆件分别与所述传动带相连。
在其它实施例中，所述第一夹紧部件可以包括至少一个第一夹紧 件；以及安装有所述第一夹紧件并与所述第一杆件相连的第一支架。在其它实施例中，所述第二夹紧部件可以包括至少两个第二夹紧 件；以及安装有所述第二夹紧件并与所述第二杆件相连的第二支架。
在其它实施例中，所述固持单元还可以包括支承部件，要被所述第 一夹紧件和所述第二夹紧部件夹持/松开的基底放置在所述支承部件上。
在其它实施例中，所述支承部件可以包括环状支撑环；以及多个 支撑销，它们安装在所述支撑环上以支撑基底。
在其它实施例中，所述第二支架可以设置在由所述支承部件的支撑 销支撑的基底下方。
在其它实施例中，所述第二支架可以被设置在与所述支承部件的支 撑环相同的高度处。
在本发明的另一些实施例中，提供了基底背面清洁方法，所述方法 包括如下步骤通过使用安装在室内的基底翻转装置使基底翻转，将引 入到该室内的基底装载到基底支撑部件上；以及在清洁完基底背面以后， 通过将基底从所述基底支撑部件卸载下来并翻转基底，将基底从该室中 移开。
在其它实施例中，所述基底翻转装置可以通过使各夹紧部件沿基底 翻转的转动轴线在相反方向上运动来夹持/松开基底。
在其它实施例中，可以利用一个驱动部件来使所述夹紧部件在相反 方向上运动，从而夹持/松开基底。
在其它实施例中，可以使所述夹紧部件在所述基底支撑部件上方作 垂直运动。
在其它实施例中，所述基底翻转装置可以使所述基底向下运动并翻 转基底，从而将基底装载到所述基底支撑部件上，还可以使基底向上运 动并翻转基底，从而将已清洁过的基底从所述基底支撑部件卸载下来且 进行提升。
附图提供了对本发明的进一步理解，并且被并入且构成本说明书的 一部分。附图显示出了本发明的示例性实施例，并与说明一起用于解释本发明的原理。在附图中-
图1是示出了本发明单片基底清洁装置的结构的视图2是示出了图1中处理室的内部结构的立体图3是图2中基底翻转装置的分解立体图4是图3中固持单元的分解立体图5和图6是图4中驱动部件的分解立体图7A和图7B是示出了固持单元的操作的视图8是图3中翻转单元的分解立体图9是图8中驱动部件的后视图IO和图11是图3中升降单元的立体图和前视图；以及
图12A和图12B是示出了翻转单元和升降单元的操作的视图。
具体实施例方式
下面参照附图更详细地说明本发明的单片基底清洁装置和基底背面 清洁方法的优选实施例。在各个附图中对元件进行附图标记的分配时， 当在不同附图中示出了相同的元件时，在任何可能的地方都把相同的附 图标记分配给相同的元件。此外，在本发明的说明中，当确信对相关及 共有结构或功能的具体说明会使本发明的主要目的不突显时，则不提供 对它们的详细说明。
第一实施例
图1是示出了本发明单片基底清洁装置的结构的视图。
参照图1,本发明的单片基底清洁装置用于清洁基底背面，并且包
括装卸部l、托架输送部2、托架台3、基底输送部4和清洁处理部5。
装卸部1具有出入口 1-1,用于容纳基底的托架(C)就放置在出入口 1-1上。托架输送部2被设置成与装卸部1相邻，并且基底输送部4被设 置在位于托架输送部2的另一侧的中央部处。基底输送部4具有通道4-l， 该通道4-1垂直于托架输送部2而形成并用于输送机械手4-3。在通道4-1内部沿纵向方向安装有输送导轨4-2，且输送机械手4-3在输送导轨4-2 的引导下沿通道4-1的长度方向运动。在通道4-1的两侧上都设置有托架 台3和清洁处理部5。清洁处理部5具有均匀布置在基底输送部4的通道 4-1两侧的多个处理室5a、 5b、 5c和5d。基底输送部4、托架台3和清 洁处理部5可以被构成为上层和下层堆叠的复式结构，并且托架输送部2 可以具有与托架台3的复式结构对应的复式结构。此外，托架输送部2、 托架台3、基底输送部4和清洁处理部5的顶部可以各自设有用于供应洁 净空气的风机过滤单元(未图示)。
例如前开式标准盒(front open unified pod)等气密容器可以用作容纳 基底的托架(C)。借助于诸如高架输送机、高架传送机或自动引导车等输 送部件(未图示)而将托架(C)放置在装卸部1的出入口 1-1上。通过托架 输送部2将放置在装卸部1的出入口 1-1上的托架(C)输送给托架台3。 基底输送部4的输送机械手4-3将待清洁基底从放置在托架台3上的托 架(C)输送给基底清洁处理部5的处理室5a、 5b、 5c和5d，然后在处理 室5a、 5b、 5c和5d中对基底进行清洁处理。借助于输送机械手4-3将已 经在清洁处理部5中经过清洁处理的基底输送给放置在托架台3上的托 架(C)，并通过输送部2将容纳有已经清洁处理过的基底的托架(C)放置在 装卸部1的出入口 1-1上。
图2是示出了图1中处理室的内部结构的立体图。
参照图2，在处理室内部设置有基底支撑部件20、基底清洁部件30, 40, 50和基底(或晶片)翻转装置10。基底支撑部件20在晶片清洁处理过 程中支撑着晶片(W)，并且在进行处理的同时可以转动。基底翻转装置 10和用于清洁基底的基底清洁部件30, 40, 50被设置在基底支撑部件20 的周围上。
基底清洁部件30, 40, 50包括向基底供应液体化学品的第一处理流 体供应部件30、向基底供应冲洗流体或者干燥气体的第二处理流体供应 部件40以及超声波清洁部件50。
第一处理流体供应部件30通过以扫描方法进行线性往复运动从而 向基底供应液体化学品。在基底清洁处理中所使用的液体化学品可以是如下化学品中的至少一种氢氟酸(HF)、硫酸(H2S04)、硝酸(HN03)、磷 酸(H3P04)以及SC-1溶液(氢氧化铵(NH40H)、过氧化氢(11202)和水(1120) 的混合液)。第一处理流体供应部件30具有至少一个液体化学品供应喷 嘴32。根据要在基底处理中使用的液体化学品的类型而选择的液体化学 品供应喷嘴32将液体化学品供应到基底上。通过移动杆34和选取部件 36的操作来选择液体化学品供应喷嘴32。垂直安装的移动杆34可以借 助于驱动部(未图示)沿扫描方向作线性往复运动，或者可以作上下运动。 通过移动杆34的垂直运动，使连接至移动杆34顶端且水平设置的选取 部件36作垂直运动，并且选取部件36选取所选择的液体化学品供应喷 嘴32。带着由选取部件36选取的液体化学品供应喷嘴32，移动杆34沿 扫描方向运动，并且液体化学品供应喷嘴32将液体化学品供应到基底上。 这里，放置在基底支撑部件20上的基底随基底支撑部件20的转动而转 动。
第二处理流体供应部件40以摆臂的方式运动并将冲洗流体或干燥 气体供应到基底上。可以使用去离子水(DIW)作为冲洗流体，并且可以使 用异丙醇(IPA)气体作为干燥气体。第二处理流体供应部件40具有喷嘴 42，该喷嘴垂直设置并向基底支撑部件20供应冲洗流体或者干燥气体。 喷嘴42与喷嘴支撑件44的一端连接，并且喷嘴支撑件44沿水平方向布 置着从而保持与喷嘴42垂直。将移动杆46结合至喷嘴支撑件44的另一 端并且垂直布置，从而保持与喷嘴支撑件44垂直，并使喷嘴42在处理 期间或者在处理前和处理后运动。此外，移动杆46与驱动部(未图示)连 接。该驱动部(未图示)可以是用于使喷嘴42转动的电动机，或者选择性 地，可以是用于使喷嘴42作上下线性运动的组件。
超声波清洁部件50具有向供应到基底(W)上的液体化学品施加超声 波振动的超声波振荡器52。超声波振荡器52与水平布置的支撑件54的 一端连接。为了使超声波振荡器52在处理期间或者处理前和处理后移动， 将移动杆56结合至支撑件54的另一端并保持相对于支撑件54的垂直布 置。移动杆56也与驱动部(未图示)连接。该驱动部(未图示)可以是用于 使超声波振荡器52转动的电动机，或者选择性地，可以是用于使超声波 振荡器52作上下线性运动的组件。供应到基底上的液体化学品从基底上除去杂质或者使杂质变薄，这里，使用了超声波清洁部件50，并将超声
波振动施加给液体化学品。被施加了超声波振动的液体化学品引发了基
底(W)上的杂质的化学反应，从而提高除去基底(W)上的杂质的效率。 图3是图2中基底翻转装置的分解立体图。
参照图3，基底翻转装置包括固持单元100、翻转单元200和升降单 元300。固持单元100固持着基底。翻转单元200使固持单元100翻转 180°,从而把由固持单元IOO固持的基底翻转。升降单元300使翻转单 元200上下运动，从而把由固持单元100固持的基底装载到基底支撑部 件(图2中的附图标记20)上或从该基底支撑部件卸载下来。
图4是图3中固持单元的分解立体图，图5和图6是图4中驱动部 件的分解立体图。
参照图4~图6，固持单元IOO包括支承部件110、第一夹紧部件120、 第二夹紧部件130和驱动部件140。
作为用于放置待翻转的基底或者已翻转的基底的部件，支承部件110 由设置有多个支撑销112的支撑环114形成，基底的周边就放置在支撑 销112上从而防止基底移动。支撑环114固定安装在基座102上。支撑 环114的半径可以等于或者小于基底的半径。在支撑环114上安装有检 测传感器116，并且检测传感器116检测放置在支撑环114上的基底周边， 从而检查基底是否恰当地安置在支撑环114上。
第一夹紧部件120和第二夹紧部件130是当固持单元IOO翻转时用 于固持(夹紧)放置在支撑环114的支撑销112上的基底的部件。第一夹紧 部件120被设置在沿基底翻转的转动轴线靠近翻转单元200处，第二夹 紧部件130被设置在翻转单元200的相对侧。因而，在本发明中，由于 夹住基底的第一夹紧部件120和第二夹紧部件130分别安装在基底翻转 的转动轴线附近的位置上，因此当固持单元IOO转动时，所需的转动半 径不会带来空间限制。因此，本发明的基底翻转装置IO适用于要求带有 低顶板的空间的清洁设备。
第一夹紧部件120具有形成为"〕"状的第一夹紧件122，从而能 够在两个点上夹紧基底，并且第一夹紧件122利用结合在第一夹紧件122下方的"T"形连接块123与第一杆件142连接。
驱动部件140包括第一杆件142、第二杆件144、汽缸148和动力传 递部件150。第一杆件142安装在基座102的上表面上。具体地说，第一 杆件142安装在设在基座102上表面上的第一引导块143上，从而沿基 底转动轴线(S)前后运动。与第一夹紧件122连接的连接块123安装在第 一杆件142上。第一杆件142包括与汽缸148连接以获得线性动力的第 一部分142a以及与驱动力传递部件150的传动带154连接以获得线性动 力的第二部分142b。第二部分142b通过第一连接部件141a与传动带154 连接。第一杆件142与汽缸148连接，从而可以根据汽缸148的操作而 前后运动，并且第一杆件142与动力传递部件150的传动带154连接， 因此可以将汽缸148的线性驱动力传递给动力传递部件150。
第二杆件144安装在基座102的下表面上。具体地说，第二杆件144 安装在设在基座102下表面上的第二引导块145上，从而像第一杆件142 那样沿基底的转动轴线作前后运动。第二杆件144包括通过第二连接部 件141b与动力传递部件150的传动带154连接的第一部分144a以及与 第二夹紧部件130连接的第二部分144b。第一部分144a从动力传递部件 150获得线性驱动力，且第二部分144b将线性驱动力提供给第二夹紧部 件130。
将动力传递部件150安装到在基座102中限定的贯通部104内。动 力传递部件150将汽缸148的线性驱动力沿相反方向传递给第二杆件 144。动力传递部件150包括一对带轮152a和152b，并且传动带154缠 绕在带轮152a和152b上。第一杆件142连接至位于基座102上表面上 方的传动带154上部，并且第二杆件144连接至位于基座102下表面下 方的传动带154下部。因此，第一杆件142和第二杆件144利用传动带 154在相反方向上运动。
第二夹紧部件130包括第二支架134和两个第二夹紧件132。第二 支架134呈马蹄状，并且两个夹紧件132安装在第二支架134上并与第 二杆件144相对。第二支架134设置在基底下方。也就是说，第二支架 134以与支撑环114相同的高度设置在支撑环114外侧。如果将第二支架 134设成与支撑环114的高度相同，则当基底输送部(图1中的附图标记4)的输送机械手4-3将基底装载到支撑环114的支撑销112上或者从支撑 销112上卸载时，可以避免妨碍输送机械手4-3。此外，第二支架134的 一侧是开口的。形成该开口部的第二支架134的两个端部分别与连接块 135结合，并且连接块135通过板136进行连接。第二杆件144的第二部 分144b结合在板136上，从而能根据第二杆件144沿基底翻转的转动轴 线的线性运动，使第二夹紧部件130沿该转动轴线作前后运动。
图7A和图7B是示出了固持单元100的操作的视图。为了便于说明 第一夹紧部件120和第二夹紧部件130的操作，图7A和图7B中未示出 支承部件和基座，并且使用图4~图6的附图标记来说明未示出的部件。
当汽缸148沿方向a运动时，第一杆件142和第一夹紧部件120沿 方向a运动，而第二杆件144和第二夹紧部件130沿相反方向b运动。 也就是说，当汽缸148沿方向a运动时，第一夹紧部件120和第二夹紧 部件130从基底边缘向松开位置(图7A中)运动。相反，当汽缸沿方向b 运动时，第一杆件142和第一夹紧部件120沿方向b运动，并且第二杆 件144和第二夹紧部件130沿与方向b相反的方向a运动。也就是说， 当汽缸148沿方向b运动时，第一夹紧部件120和第二夹紧部件130运 动到夹持位置(图7B中)从而固持基底边缘。
因而，本发明的固持单元100不使用电动机来夹持/松开基底，而是 设有动力传递部件150，其使用一个汽缸148来使第一夹紧部件120和第 二夹紧部件130在彼此相反的方向上作线性运动，从而夹持/松开基底。
此外，由于不使用电动机，因而本发明不需要针对电动机的复杂控 制，而是需要简单的I/0(开/关)控制，因此可以降低产品制造成本，并且 也可以减少操作故障。
此外，由于在本发明中，第一夹紧部件120和第二夹紧部件130沿 基底转动轴线在彼此相反的方向上运动从而夹住基底的任一侧边缘，因 此这种装置可以用于要求具有较小转动半径的固持单元100和要求带有 低顶板的空间的清洁设备。
图8是图3中翻转单元的分解立体图，图9是图8中驱动部件的后 视图。参照图8和图9，用于翻转固持单元100的翻转单元200包括转轴 部件220和驱动部件230。转轴部件220与固持单元100结合，驱动部件 230将转动力施加给转轴部件220从而使固持单元100翻转。
转轴部件220可转动地支撑在支撑块210上，并且在转轴部件220 上设置有缠绕在转轴部件220周边上的带轮222。带轮222借助于来自驱 动部件230的转动力与转轴部件220 —起转动。此外，支架224与转轴 部件220的自由端结合，并且固持单元100的基座102与支架224连接。
驱动部件230具有驱动电动机232和用于传递来自驱动电动机232 的驱动力的动力传递部件234。如图8所示，驱动电动机232和动力传递 部件234平行设置。驱动电动机232的输出端和动力传递部件234的输 入端分别设置有带轮233和带轮235，并且传动带236缠绕在带轮233 和带轮235上。此外，在动力传递部件234的输出端上设置有带轮237， 并且驱动部件230插入并安装到在支撑块210底部中所限定的孔212中， 因此带轮237通过传动带240与围绕着转轴部件220设置的带轮222连 接。
图10和图11是图3中升降单元300的立体图和前视图。
升降单元300包括框架310以及安装在框架310上的第一引导部件 320和第二引导部件340。第一和第二引导部件320和340沿框架310的 长度方向对称地设置在任一侧上。沿框架310的长度方向在框架310的 左侧和右侧上安装有导轨322和342，并且将滑块324和344安装成能够 在导轨322和342上滑动。在导轨322的顶部和底部设有带轮325a和 325b，并且在导轨342的顶部和底部上设有带轮345a和345b。带轮325a 和325b通过传动带326相连，带轮345a和345b通过传动带346相连。 此外，滑块324和344分别与传动带326和346连接，从而将传动带326 和346的驱动与滑块324和344的垂直运动联结起来。也就是说，利用 与传动带326和346外表面接触的连接部件327和347以及与传动带326 和346内表面接触的滑块324和344，连接部件327和347分别与滑块 324和344结合从而压靠传动带326和346。在这种结构中，根据滑块324 和344的垂直运动，沿滑块324和344的运动方向驱动传动带326和346。将传动带364设成与框架310上的第一引导部件320的传动带326
平行并邻近，并且将传动带364缠绕在带轮362a和362b上。带轮362a
和362b中的底部带轮362b由驱动电动机368驱动，并通过传动带367
与带轮365和366的组件将驱动电动机368的转动力传递给带轮362b。
此外，要与翻转单元200的支撑块210相连的连接部件369与传动带364 妙a
￡口 口 o
翻转单元200的支撑块210与分别连接至传动带326、 346和364的 连接部件327、 347和369连接。驱动电动机368的转动力被传递到传动 带364，并且与传动带364连接的支撑块210作上下运动。这里，由于支 撑块210的左侧和右侧分别通过连接部件327和347与第一引导部件320 和第二引导部件340的传动带326和346连接，因此支撑块210在垂直 运动时能够保持平衡。此外，由于滑块324和344分别与传动带326和 346连接，因此通过导轨322和342来引导支撑块210的垂直运动。通过 这样的操作，升降单元300使翻转单元200垂直运动。另外，如上所述， 由于固持单元100的基座102与翻转单元200的支架224连接，因此如 图12A和图12B所示，固持单元100随翻转单元200 —起作垂直运动。 翻转单元200可以通过升降单元300与已翻转的固持单元100 —起作垂 直运动，或者翻转单元200可以通过升降单元300在固持单元100进行 翻转的同时作垂直运动。可以通过依次操作翻转单元200的驱动电动机 232和升降单元300的驱动电动机368或者通过同步控制来实现这些状 态。
如上所述，由于本发明用于清洁基底背面的基底翻转装置IO设置在 处理室内部，因此可以实现以下优点。
第一，与具有设在处理室外部的单独基底翻转单元的传统基底背面 清洁装置相比，由于本发明不需要有用于基底翻转单元的单独安装空间， 因此能够降低设备成本，还能降低维护费用。
第二，通过处理步骤的简化，本发明可以提高处理效率。
第三，本发明可使在输送基底过程中产生的颗粒对基底的污染最小。
上面公开的主题是示例性而非限定性的，本领域技术人员显然知道，在不背离本发明的精神和范围的情况下，本发明可以包括各种修正和修 改。与此对应，本发明中公开的实施例旨在说明而非限制本发明的技术 范围，因此，本发明的技术范围不应该被解释为受前述实施例的任何限 制。这样，在法律所允许的最大程度上，本发明的范围应该由所附权利 要求及其等同物的最宽允许解释来确定，并且不应该受到前面详细说明
的限制或限定。
权利要求
1.一种单片基底清洁装置，包括处理室，在所述处理室中进行基底清洁过程；基底支撑部件，其安装在所述处理室内部，待处理的基底放置在所述基底支撑部件上；以及基底翻转装置，其安装在所述处理室内部的所述基底支撑部件的一侧，其中，所述基底翻转装置包括用于固持基底的固持单元、用于翻转所述固持单元的翻转单元和用于使所述翻转单元作垂直运动的升降单元。
2. 如权利要求l所述的装置，其中所述固持单元包括 夹紧部件，它们设置在所述基底支撑部件上方并且沿基底翻转的转动轴线在彼此相反的方向上运动，从而夹持/松开基底；以及 驱动部件，其用于驱动所述夹紧部件。
3. 如权利要求2所述的装置，其中所述夹紧部件包括 第一夹紧部件，其用于夹持靠近所述翻转单元的基底边缘；以及 第二夹紧部件，其用于夹持与所述翻转单元相对的基底边缘。
4. 如权利要求3所述的装置，其中所述驱动部件包括 基座；第一杆件，其安装在所述基座的上表面上，能够沿所述转动轴线运 动，并且与所述第一夹紧部件连接；第二杆件，其安装在所述基座的下表面上，能够沿所述转动轴线运 动，并与所述第二夹紧部件连接；汽缸，其使所述第一杆件和所述第二杆件中的一个杆件作线性往复 运动；以及动力传递部件，其用于传递所述汽缸的驱动力，使得所述第一杆件 和所述第二杆件中的另一个杆件沿与所述第一杆件和所述第二杆件中的所述一个杆件相反的方向运动。
5. 如权利要求4所述的装置，其中所述汽缸安装在所述基座的上表面上，使所述第一杆件作线性往复运动。
6. 如权利要求4所述的装置，其中所述动力传递部件包括第一带轮和第二带轮，它们安装得穿过所述基座的上表面和下表面； 传动带，其缠绕在所述第一带轮和所述第二带轮上；以及 第一连接部件和第二连接部件，它们使所述第一杆件和所述第二杆 件分别与所述传动带相连。
7. 如权利要求6所述的装置，其中所述第一夹紧部件包括 至少一个第一夹紧件；以及安装有所述第一夹紧件并与所述第一杆件相连的第一支架。
8. 如权利要求7所述的装置，其中所述第二夹紧部件包括 至少两个第二夹紧件；以及安装有所述第二夹紧件并与所述第二杆件相连的第二支架。
9. 如权利要求8所述的装置，其中所述固持单元还包括支承部件， 要被所述第一夹紧件和所述第二夹紧部件夹持/松开的基底放置在所述 支承部件上。
10. 如权利要求9所述的装置，其中所述支承部件包括 环状支撑环；以及多个支撑销，它们安装在所述支撑环上以支撑基底。
11. 如权利要求IO所述的装置，其中所述第二支架设置在由所述支 承部件的支撑销支撑的基底下方。
12. 如权利要求ll所述的装置，其中所述第二支架被设置在与所述支承部件的支撑环相同的高度处。
13. —种基底背面清洁方法，包括以下步骤通过使用安装在室内的基底翻转装置使基底翻转，将引入到该室内 的基底装载到基底支撑部件上；以及在清洁完基底背面以后，通过将基底从所述基底支撑部件卸载下来 并翻转基底，将基底从该室中移开。
14. 如权利要求13所述的方法，其中所述基底翻转装置通过使夹紧 部件沿基底翻转的转动轴线在相反方向上运动来夹持/松开基底。
15. 如权利要求14所述的方法，其中利用一个驱动部件使所述夹紧 部件在相反方向上运动，从而夹持/松开基底。
16. 如权利要求14所述的方法，其中使所述夹紧部件在所述基底支 撑部件上方作垂直运动。
17. 如权利要求13所述的方法，其中所述基底翻转装置使所述基底 向下运动并翻转基底，从而将基底装载到所述基底支撑部件上，还使基 底向上运动并翻转基底，从而将已清洁过的基底从所述基底支撑部件卸 载下来。
全文摘要
本发明提供了单片基底清洁装置以及基底背面清洁方法，其中，在处理室内部安装有用于清洁基底背面的基底翻转装置。根据上述装置和方法，通过简化用于清洁基底背面的设备因而可以降低成本，可以简化处理步骤，并且可以使颗粒对基底的污染最小。
文档编号H01L21/67GK101409218SQ200810167100
公开日2009年4月15日 申请日期2008年10月8日 优先权日2007年10月11日
发明者崔忠植 申请人:细美事有限公司