专利名称：具有多个外延反应腔的mocvd系统及其操作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于生产化合物半导体光电器件的MOCVD(金属有机化学气相沉淀)系统及其操作方法，特别涉及一种具有多个外延反应腔的MOCVD系统及其操作方法。
背景技术：
金属有机化学气相沉淀系统(以下简称MOCVD系统)是用于生产半导体光电器件的一个最核心设备，衬底基片在MOCVD的腔室内通过外延工艺结构生长，形成专门的光电器件结构，目前MOCVD被大量应用于LED外延片、大功率激光器和高效率太阳电池等的生产。以前由于市场和技术原因，对于外延片的产量要求不高，MOCVD设备都是为小规模生产设计的。如图1所示，是目前市场上最多见的人工操作更换托盘或基片的MOCVD系统， 其通过一独立的真空反应腔100对衬底基片610进行外延处理。每一次外延完成后需要打开腔盖，由操作人员在反应腔100里面的托盘600上取换衬底基片610，并清理腔体上的沉积物，以确保反应腔100能继续正常工作，这些准备工作占去了许多设备运行的时间，使 MOCVD系统的生产效率低下。还有一种喷淋及高速旋转式MOCVD系统，每炉由机械手取换托盘，而在托上放置外延完成或待处理的衬底基片。如图2所示，该种MOCVD系统包含传输腔200，和分别与传输腔200连接的反应腔100、中转站300和装卸台400 ；传输腔200中还设置有机械手210， 用来将托盘600在上述各个腔室进行取放。反应腔100在设定工艺条件下对衬底基片610 进行外延处理时，通过一真空隔离阀500与传输腔200分隔。中转站300用于暂存要从反应腔100放入装卸台400的处理后的托盘，以及要从装卸台400放入反应腔100的待处理的托盘600 ；该中转站300与传输腔200 —般在真空环境下工作，但在打开传输腔200与装卸台400之间的真空隔离阀500时就工作在大气压力下。相比人工操作，该种MOCVD系统的机械化操作可以在较高的温度下进行，由此减少了设备冷却时间；机械化操作还提高了换片的速度，提高了设备的生产利用率。然而，上述现有的两款生产用MOCVD系统都仅设置有单个的外延反应腔，产量低， 不能够适应大规模外延衬底基片的生产需要；机械自动化操作的MOCVD系统由于设置了传输腔、中转站和装卸台等设备，更是增加了单位制造的成本和运行成本。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有多个外延反应腔的MOCVD系统及其操作方法，使多个外延反应腔共用同一组传输腔、中转站和装卸台等设备，既可成倍地增加每台MOCVD系统的产量，以适应大规模生产的需要，同时又能有效降低系统的单位制造成本与运行成本， 节省系统的占地面积。为了达到上述目的，本发明的技术方案是提供一种具有多个外延反应腔的MOCVD 系统，用于对放置在托盘上的若干衬底基片进行外延反应，其特征在于，包含一设置有机械手的传输腔、分别与传输腔连接的等于或大于两个的外延反应腔；上述托盘分别放置在上述多个外延反应腔内，使若干衬底基片在该多个外延反应腔同时进行外延反应。上述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，还包含分别与上述传输腔连接的至少一个中转站，以及与上述中转站连接的装卸台。上述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，还包含若干真空隔离阀；上述真空隔离阀设置在上述传输腔与每个外延反应腔之间；上述真空隔离阀设置在中转站与装卸台之间；上述在传输腔与中转站之间可选择设置真空隔离阀；上述若干真空隔离阀仅在其两边的腔室中压力平衡或处于设定范围时打开。上述机械手由径向伸缩、轴向转动、上下移动的三维运动配合，将上述托盘在上述外延反应腔与中转站之间取放，在外延反应腔之间取放，在中转站之间取放。与上述传输腔连接有至少一组中转站和装卸台，作为托盘的输入口和输出口。与上述传输腔连接有两组中转站和装卸台，在其中一组放置装有等待外延处理的新衬底基片的托盘，而在另一组中放置从多个外延反应腔取出的装有完成了外延反应衬底基片的托盘。上述中转站中设有若干槽位，使每个外延反应腔对应分配有输入槽位和输出槽位；上述输出槽位中放置从上述外延反应腔取出的装有完成了外延反应衬底基片的托盘；上述输入槽位中放置从上述装卸台放入装有等待外延处理的衬底基片的托盘。上述中转站的一些槽位中可设置有加热装置或冷却装置；上述中转站的一些槽位，可在竖直方向或水平方向移动。一种具有多个外延反应腔和一个中转站的MOCVD系统的操作方法，其特征在于， 在所述中转站的可水平移动的输出槽位Al中更换托盘的流程，包含以下步骤(b)打开真空隔离阀；(c)托盘被搬到装卸台；(d)换新的托盘或换托盘上的衬底基片；(e)新的托盘送回到中转站的输出槽位Al ；(f)关上真空隔离阀；(g)由机械手把新的托盘从输出槽位Al搬到输入槽位A2。
在所述中转站的不可水平移动的输出槽位，如Bi，中更换托盘的流程，在所述可水平移动的输出槽位Al上没有托盘时进行，包含以下步骤(a)由机械手把托盘从输出槽位Bl搬至输出槽位Al ；(b)打开真空隔离阀；(c)托盘被搬到装卸台；(d)换新的托盘或换托盘上的衬底基片；(e)新的托盘送回到中转站的输出槽位Al ；(f)关上真空隔离阀；(h)由机械手把新的托盘从输出槽位Al搬到输入槽位B2。
上述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统的操作方法，还包含在外延反应腔更换托盘的步骤在保持压力平衡条件下打开真空隔离阀，机械手从外延反应腔里取出托盘并放入中转站的输出槽位，然后把输入槽位上的新的托盘放入外延反应腔。与现有技术相比，本发明所述具有多个外延反应腔的MOCVD系统，具有以下优点本发明可同时在多个外延反应腔内对衬底基片进行外延反应，成倍地增加每台 MOCVD系统的产量，不用打开外延反应腔，使其保持在真空状态和较高的工作温度下，而能实现外延反应腔内托盘取放的操作，不仅节约了外延反应腔冷却的时间和换盘操作的时间，还使腔壁上的沉积物不容易脱落，延长了进行腔体清洗维护的周期，提高了设备的生产利用率。本发明还改变现有装卸台与传输腔连接的系统结构，使传输腔能有更多位置连接更多的外延反应腔，以共用同一套传输腔、机械手、中转站和装卸台，节省了另外一套或几套相应的设备，降低了其设置成本和运行费用，节约了这部分设备的安装场地。本发明设计了用于多外延反应腔的中转站和装卸台，设计了多个托盘更换的顺序，在可竖直及水平方向移动的槽位与机械手的配合下，实现了快速取换托盘的操作。本发明将新的托盘和取出的托盘分别放在中转站中与外延反应腔对应的输入槽位和输出槽位上，并可分别通过槽位的加热或冷却功能来缩短后续操作的准备时间，进一步提高了设备的生产利用率。本发明还可以通过设置两组中转站及装卸台，分别作为托盘的输入口和输出口， 或是把真空隔离阀52去掉，实现了操作步骤的进一步简化。
图1是现有人工操作的具有单个外延反应腔的MOCVD系统的结构示意图；图2是现有机械自动化操作的具有单个外延反应腔的MOCVD系统的结构示意图；图3是本发明在实施例1中具有两个外延反应腔的MOCVD系统的结构示意图；图4是本发明在实施例1中具有三个外延反应腔的MOCVD系统的结构示意图；图5是本发明在实施例2中具有两个外延反应腔的MOCVD系统的结构示意图；图6是本发明在实施例3中具有三个外延反应腔的MOCVD系统的结构示意图；图7是本发明中具有两个外延反应腔的MOCVD系统的一种优选结构的侧视图。
具体实施例方式以下结合
本发明的多种具体的系统配置。实施例1请配合参见图3、图4所示，本实施例涉及的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，包含一设置有机械手21的传输腔20，以及与传输腔20连接的等于或大于两个的外延反应腔 10，还包含一与传输腔20连接的中转站30，及与中转站30连接的装卸台40。传输腔20与每个外延反应腔10之间设有一真空隔离阀51 ；传输腔20与中转站30之间设有一真空隔离阀52，中转站30与装卸台40之间设有一真空隔离阀53。如图3所示是具有两个外延反应腔的MOCVD系统；图4所示是具有三个外延反应腔的MOCVD系统。一个传输腔20可连接的最大外延反应腔10数量由传输腔20的设计所决定的。其中，外延反应腔10是MOCVD系统中用于在衬底基片61上外延生长结构薄膜的核心部分。外延反应腔10中放置有一个托盘60，使多个外延片基底61放在该托盘60上进行外延生长，同时处理的衬底基片61数量由外延反应腔10的设计决定。外延反应腔10 一般工作在真空和高温的状态，本发明在装/卸托盘60时，使外延反应腔10保持在真空状态下，能防止外界污染进入，而真空高温的状态还能防止外延反应腔10内壁上的沉积物脱落，因而能保持外延反应腔10内的干净，有效延长清理外延反应腔10的周期。传输腔20的中心位置设置有机械手21，其具有转动、径向平移、上下移动3个运动功能。该机械手21通过这些运动的组合，不用打开外延反应腔10，就能把托盘60从外延反应腔10取出、放入中转站30，或是从中转站30取出、放入外延反应腔10。在传输腔20与外延反应腔10压力平衡或是达到一定的预设范围时，一般是真空状态下，可以打开两个腔体之间的真空隔离阀51，由机械手21取送托盘60。中转站30在通过传输腔20与外延反应腔10交换托盘时，工作在与传输腔20和外延反应腔10的压力平衡或是一定范围内，最常见的是在真空状态下，这时才能将中转站 30与传输腔20之间的真空隔离阀52打开；仅在大气压力状态下，才能将中转站30与装卸台40之间的真空隔离阀53打开。在另一种设备配置中，中转站30与传输腔20之间不设置真空隔离阀52(即去除图3、图4中虚线部分)。这样的配置使得传输腔20和中转站30始终工作在相同的压力状态。在传输腔20和中转站30处于真空状态时，才能打开真空隔离阀51，进行托盘60在外延反应腔10的取换；在打开真空隔离阀53时，传输腔20会随着中转站30 —起进入大气压力状态。该种不设置真空隔离阀52的设备配置，需要同时为传输腔20和中转站30两个腔体抽真空，虽然时间延长了，但是能在结构和操作步骤上实现进一步的简化。中转站30中设置有若干放置托盘60的槽位31，该槽位31的数量由外延反应腔10 的数量决定，为每个外延反应腔10分配有两个槽位31，分别用于放置从外延反应腔10取出的外延反应完成的托盘60和从装卸台40放入等待处理的托盘60。其中放置新托盘60的槽位31可具有加热装置，能使托盘60温度达到如100摄氏度以上，缩短托盘60的预热时间；放置外延完成的托盘60的槽位31可具有冷却装置，在一定时间内能把托盘60冷却到后续操作例如100摄氏度以下的工作温度。上述仅提供了加热装置和冷却装置的一种配置方法，其可按照不同的生产要求进行配置。上述中转站30中的若干槽位31，具有在竖直方向上下移动的功能，在打开真空隔离阀51、52后，配合传输腔20中的机械手21，在不同的槽位31与外延反应腔10之间进行托盘60取放的操作；在至少一个槽位31上设置水平方向移动的功能，在打开真空隔离阀 53时，可以使该槽位31平移到装卸台40，把托盘60搬到装卸台40上，进行后续操作。操作人员可以在装卸台40进行换托盘60或者换托盘60上衬底基片61的操作。 如图7所示，该装卸台40可以放在一个充满氮气的手套箱70里面，保持干净的作业环境。 装卸台40也可以放在一个装有高效空气过滤器的无尘层流罩70内，以使作业环境满足粉尘控制的要求实施例2
如图5所示，本实施例涉及的MOCVD系统，以配置两个外延反应腔10为例，其与上述实施例中结构相类似，包含一设置有机械手21的传输腔20，以及与传输腔20连接的两个外延反应腔10。其不同点在于，还包含与传输腔20连接的两个中转站30，每个中转站30 还与一个装卸台40连接。与上述实施例类似，传输腔20与每个外延反应腔10之间设有真空隔离阀51 ；中转站30与装卸台40之间设有真空隔离阀53。传输腔20与中转站30之间的真空隔离阀 52(图5中虚线表示)可根据要求选择设置或去除。上述真空隔离阀51、52、53均在其两边腔体的压力平衡或是达到一定范围内时才能打开。与上述不同，本实施例设置有两组中转站30和装卸台40，因此可使其中一组专门放置等待外延处理的新托盘60，而在另一组中放置从两个外延反应腔10取出的外延反应完成的托盘60 ；或是使每组中转站30和装卸台40对应一个外延反应腔10，仅为该外延反应腔10进行托盘的更替取放工作。与上述实施例类似，每个中转站30中设置有若干可在竖直或水平方向移动的槽位31，方便托盘60的搬运；该若干槽位31还可根据不同的生产需要，任意配置加热装置或冷却装置，对托盘60进行预热或冷却，以节省后续处理的时间。装卸台40可放在一个充满氮气的手套箱70，或装有高效空气过滤器的无尘层流罩70内，以使作业环境满足粉尘控制要求。上述两个中转站30可通过机械手21的传递， 共用同一个装卸台40进行托盘60的更换(即去除图5中虚线所示的装卸台40)，以进一步简化系统结构。实施例3如图6所示，本实施例涉及具有多个外延反应腔的MOCVD系统，与上述实施例中结构相类似，包含一设置有机械手21的传输腔20，以及与传输腔20连接的若干中转站30及多个外延反应腔10。其不同点在于，本实施例中传输腔20是多边形的，使其能与更多的外延反应腔10 或中转站30连接。以图6中为例，传输腔20是六边形的，其分别与两个中转站30，及三个外延反应腔10连接；每个中转站30还与一个装卸台40连接。与上述实施例类似，传输腔20与每个外延反应腔10之间设有真空隔离阀51 ；中转站30与装卸台40之间设有真空隔离阀53。传输腔20与中转站30之间的真空隔离阀 52(图6中虚线表示)可根据要求选择设置或去除。上述真空隔离阀51、52、53均在其两边腔体的压力平衡或是达到一定范围内时才能打开。与上述实施例2类似，本实施例中设置的两组中转站30和装卸台40分别作为托盘60的输入口和输出口，在其中一组专门放置等待外延处理的新托盘60，而在另一组中放置从三个外延反应腔10取出的外延反应完成的托盘60。与上述实施例类似，每个中转站30中设置有若干可在竖直或水平方向移动的槽位31，方便托盘60的搬运；该若干槽位31还可根据不同的生产需要，任意配置加热装置或冷却装置，对托盘60进行预热或冷却，以节省后续处理的时间。装卸台40可放在一个充满氮气的手套箱70，或装有高效空气过滤器的无尘层流罩70内，以使作业环境满足粉尘控制要求。上述两个中转站30可通过机械手21的传递， 共用同一个装卸台40进行托盘60的更换(即去除图5中虚线所示的装卸台40)，以进一步简化系统结构。以下结合图7所示一种具有双外延反应腔的MOCVD系统为例，配合参见实施例1 所述说明本发明的工作流程。该系统中，与传输腔20连接的两个外延反应腔10，共用同一组中转站30及装卸台 40。需要说明的是，图7仅作为本发明的一种实施例，本发明涉及的中转站30及竖直、水平移动的槽位31等，并不限于以下所述的结构。对应系统中设置的两个外延反应腔IOA和10B，中转站30设有4个槽位31，分别为输出槽位Al，Bl和输入槽位A2，B2，其中输入槽位A2和B2用于放置新的待处理的托盘 60，可以设有加热装置；输出槽位Al和Bl放置完成了外延反应的托盘60，可以设有冷却装置。在本例中，中转站30与传输腔20之间的真空隔离阀52设置在中转站30腔室一侧壁的上部，而中转站30与装卸台40之间的真空隔离阀53设置在腔室对应侧壁的下部。 中转站30的槽位31通过竖直移动，在中转站30与传输腔20的连接口处，配合机械手21 进行托盘60取放的操作(如图7中输入槽位B2所示)；类似的，在本例中只有竖直移动到中转站30与装卸台40的连接口处，槽位31才能水平移动到装卸台40(如图7中输出槽位 Al所示)，由操作人员取放托盘60或托盘60上的衬底基片61。以下取换托盘60的操作流程中，省略槽位31在竖直或水平方向移动的描述。外延反应腔换托盘的步骤(I)A外延反应腔换托盘在保持压力平衡条件下打开真空隔离阀51和52，机械手 21从A外延反应腔10里取出托盘60并放入中转站30的输出槽位Al，然后把输入槽位A2 上的新的托盘60放入A外延反应腔10。外延反应腔换托盘在保持压力平衡条件下打开真空隔离阀51和52，机械手 21从B外延反应腔10里取出的托盘60并放入中转站的输出槽位Bi，然后把输入槽位B2 上的新的托盘60放入B外延反应腔10。准备新的托盘的步骤(1)如果只在输出槽位Al上有完成了外延生长的衬底基片61的托盘，操作步骤为(b)打开真空隔离阀(53)；(c)托盘(60)被搬到装卸台(40)；(d)换新的托盘(60)或换托盘(60)上的衬底基片61 ；(e)新的托盘(60)送回到中转站(30)的输出槽位Al ；(f)关上真空隔离阀(53)；
(g)由机械手把新的托盘(60)从输出槽位Al搬到输入槽位A2。这样就完成了为A外延反应腔准备下一轮的外延反应，更换托盘的操作。(2)如果只在输出槽位Bl上有完成了外延生长的衬底基片61的托盘，操作步骤为(a)由机械手把托盘(60)从输出槽位Bl搬至输出槽位Al ；(b)打开真空隔离阀(53)；(c)托盘(60)被搬到装卸台(40)；(d)换新的托盘(60)或换托盘(60)上的衬底基片61 ；(e)新的托盘(60)送回到中转站(30)的输出槽位Al ；
(f)关上真空隔离阀(53)；(h)由机械手把新的托盘(60)从输出槽位Al搬到输入槽位B2。这样就完成了为B外延反应腔准备下一轮的外延反应，更换托盘的操作。(3)如果在输出槽位Al和输出槽位Bl都有完成了外延生长的衬底基片61的托盘，必须先完成输出槽位Al上托盘60的更新，S卩(1)的所有步骤，把输出槽位Al空出后再完成输出槽位Bl上托盘的更新，S卩( 的所有步骤。以上步骤都可以由自动控制软件和硬件来实现。对于实施例1中所述传输腔20与中转站30间不设置真空隔离阀52的系统配置 (即去除图7中虚线部分)，上述“外延反应腔换托盘”和“准备新托盘”的步骤可同样适用。上述“外延反应腔换托盘”和“准备新的托盘”的步骤，可同样适用如实施例2、3中所述，与多个外延反应腔10连接的传输腔20，还分别连接作为托盘60的输入口和输出口的两组中转站30及装卸台40的系统配置。对该种系统更替托盘60的操作中，仅需在输入口端将装卸台40中所有的新托盘60依次运送至中转站30中；而在输出口端将外延反应完成的托盘60依次从中转站30运送至装卸台40，使机械手21的操作及每一个中转站30控制的复杂程度进一步简化。综上所述，本发明所述具有多个外延反应腔的MOCVD系统，可同时在多个外延反应腔内对衬底基片进行外延反应，成倍地增加每台MOCVD系统的产量，不用打开外延反应腔，使其保持在真空状态和较高的工作温度下，而能实现外延反应腔内托盘取放的操作，不仅节约了外延反应腔冷却的时间和换盘操作的时间，还使腔壁上的沉积物不容易脱落，延长了进行腔体清洗维护的周期，提高了设备的生产利用率。本发明还改变现有装卸台与传输腔连接的系统结构，使传输腔能有更多位置连接更多的外延反应腔，以共用同一套传输腔、机械手、中转站和装卸台，节省了另外一套或几套相应的设备，降低了其设置成本和运行费用，节约了这部分设备的安装场地。本发明设计了用于多外延反应腔的中转站和装卸台，设计了多个托盘更换的顺序，在可竖直及水平方向移动的槽位与机械手的配合下，实现了快速取换托盘的操作。本发明将新的托盘和取出的托盘分别放在中转站中与外延反应腔对应的输入槽位和输出槽位上，并可分别通过槽位的加热或冷却功能来缩短后续操作的准备时间，进一步提高了设备的生产利用率。本发明还可以通过设置两组中转站及装卸台，分别作为托盘的输入口和输出口， 或是把真空隔离阀52去掉，实现了操作步骤的进一步简化。尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
权利要求
1.一种具有多个外延反应腔的MOCVD系统，用于对放置在托盘(60)上的若干衬底基片(61)进行外延反应，其特征在于，包含一设置有机械手的传输腔(20)、分别与传输腔00)连接的等于或大于两个的外延反应腔(10)；所述托盘(60)分别放置在所述多个外延反应腔(10)内，使若干衬底基片(61)在该多个外延反应腔(10)同时进行外延反应。
2.如权利要求1所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，其特征在于，还包含分别与所述传输腔00)连接的至少一个中转站(30)，以及与所述中转站(30)连接的装卸台 00)。
3.如权利要求2所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，其特征在于，还包含若干真空隔离阀(51、52、53)；所述真空隔离阀(51)设置在所述传输腔00)与每个外延反应腔(10)之间；所述真空隔离阀(53)设置在中转站(30)与装卸台00)之间；在传输腔O0)与中转站(30)之间可设置所述真空隔离阀(52)；所述若干真空隔离阀(51、52、53)仅在其两边的腔室中压力平衡或处于设定范围时打开。
4.如权利要求2所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，其特征在于，所述机械手 (21)由径向伸缩、轴向转动、上下移动的三维运动配合，将所述托盘(60)在所述外延反应 腔(10)与中转站(30)之间取放、或者在外延反应腔(10)之间取放，或者在中转站(30)之间取放。
5.如权利要求2所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，其特征在于，与所述传输腔O0)连接有至少一组中转站(30)和装卸台(40)，作为托盘(60)的输入口和输出口，或者两组中转站(30)和装卸台(40)，其中一组放置装有等待外延处理的新衬底基片(61)的托盘(60)，而在另一组中放置从多个外延反应腔(10)取出的装有完成了外延反应衬底基片(61)的托盘(60)。
6.如权利要求2或5所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，其特征在于，所述中转站(30)中设有若干槽位(31)，使每个外延反应腔(10)对应分配有输入槽位和输出槽位；所述输出槽位中放置从所述外延反应腔(10)取出的外延反应完成的托盘(60)；所述输入槽位中放置从所述装卸台GO)放入等待外延处理的托盘(60)。
7.如权利要求6所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统，其特征在于，所述中转站(30)的一些槽位(31)中可设置有加热装置或冷却装置；所述中转站(30)的一些槽位 (31)，可在竖直方向或水平方向移动。
8.一种具有多个外延反应腔和一个中转站的MOCVD系统的操作方法，其特征在于，在所述中转站(30)的可水平移动的输出槽位Al中更换托盘(60)的流程，包含以下步骤(b)打开真空隔离阀(53)；(c)托盘(60)被搬到装卸台(40)；(d)换新的托盘(60)或换托盘(60)上的衬底基片(61)；(e)新的托盘(60)送回到中转站(30)的输出槽位Al；(f)关上真空隔离阀(53)；(g)由机械手把新的托盘(60)从输出槽位Al搬到输入槽位A2。
9.如权利要求8所述的具有多个外延反应腔和一个中转站的MOCVD系统的操作方法，其特征在于，在所述中转站(30)的不可水平移动的输出槽位Bl中更换托盘(60)的流程， 在所述可水平移动的输出槽位Al上没有托盘(60)时进行，包含以下步骤(a)由机械手把托盘(60)从输出槽位Bl搬至输出槽位Al；(b)打开真空隔离阀(53)；(c)托盘(60)被搬到装卸台(40)；(d)换新的托盘(60)或换托盘(60)上的衬底基片(61)；(e)新的托盘(60)送回到中转站(30)的输出槽位Al；(f)关上真空隔离阀(53)；(h)由机械手把新的托盘(60)从输出槽位Al搬到输入槽位B2。
10.如权利要求9所述的具有多个外延反应腔的MOCVD系统的操作方法，其特征在于， 还包含在外延反应腔(10)更换托盘(60)的步骤在保持压力平衡条件下打开真空隔离阀(51)和(52)，机械手从外延反应腔(10) 里取出托盘(60)并放入中转站(30)的输出槽位，然后把输入槽位上的新的托盘(60)放入外延反应腔(10)。
全文摘要
一种具有多个外延反应腔的MOCVD系统，用于对放置在托盘上的若干衬底基片进行外延反应，包含一设置有机械手的传输腔，以及与传输腔连接的若干中转站和等于或大于两个的外延反应腔，该多个外延反应腔内可同时对衬底基片进行外延反应，通过机械自动化操作，不需要打开外延反应腔盖，即能实现外延反应腔里托盘的取放，不仅提高了系统的产能，还节约了外延反应腔冷却和换盘操作的时间，提高了设备的生产利用率。由于多个外延反应腔共用同一套传输腔、机械手等，节省了另外一套或几套相应的设备，降低了其设置成本和运行费用，也节约了这部分设备的安装场地。由于中转站同时具有预处理腔功能，可根据生产要求实现对托盘的预冷和预热处理，进一步提高生产效率。
文档编号H01L21/205GK102212877SQ20101023127
公开日2011年10月12日 申请日期2010年7月9日 优先权日2010年7月9日
发明者孙仁君, 张伟, 金小亮, 陈爱华 申请人:江苏中晟半导体设备有限公司