一种晶片吸盘的真空发生装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种晶片吸盘的真空发生装置，包含：通过管道相连的真空发生器和压缩空气管道，该真空发生器给晶片吸盘提供真空，还包含：气体阀，所述的气体阀设置在真空发生器与压缩空气管道之间；所述的气体阀的控制端通过管道与外部的晶片吸盘的工作阀的供气管道相连，当供气管道向工作阀提供压缩空气时，从供气管道分出部分压缩空气进入气体阀的控制端，导通气体阀以向真空发生器输入压缩空气。本发明保证了晶片吸盘和真空发生器的同步；在真空发生器无需工作时，节省了大量的压缩空气，节约了生产成本，提高了经济效益。
【专利说明】—种晶片吸盘的真空发生装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及ー种真空发生器，特别涉及一种晶片吸盘的真空发生装置。
【背景技术】
[0002]在现有技术中，晶片吸盘是通过真空吸力来抓取晶片的，而真空是通过压缩空气喷射形成的，但是，一般情况下，喷射的压缩空气是一直处于输送状态的，但是晶片吸盘并不会一直处于工作状态，即并不总是需要产生真空吸力，而只会在抓取晶片时才需要真空吸力，因此，长开的压缩空气在绝大部分时候是浪费的，増加了生产成本。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是提供一种晶片吸盘的真空发生装置，保证了晶片吸盘和真空发生器的同步；在真空发生器无需工作时，节省了大量的压缩空气，节约了生产成本，提高了经济效益。
[0004]为了实现以上目的，本发明是通过以下技术方案实现的:
一种晶片吸盘的真空发生装置，包含:通过管道相连的真空发生器和压缩空气管道，该真空发生器给晶片吸盘提供真空，还包含:气体阀，所述的气体阀设置在压缩空气管道上，该气体阀的控制端通过管道与外部的晶片吸盘的工作阀的供气管道相连；当供气管道向エ作阀提供压缩空气时，从供气管道分出部分压缩空气进入气体阀的控制端，导通气体阀以向真空发生器输入压缩空气。
[0005]本发明与现有技术相比，具有以下优点:
1、保证了晶片吸盘和真空发生器的同步；
2、在真空发生器无需工作时，节省了大量的压缩空气，节约了生产成本，提高了经济效益。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]图1为本发明一种晶片吸盘的真空发生装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0007]以下结合附图，通过详细说明ー个较佳的具体实施例，对本发明做进ー步阐述。
[0008]如图1所示，一种晶片吸盘的真空发生装置，包含:通过管道相连的真空发生器I和压缩空气管道2以及气体阀3。其中，该真空发生器I给晶片吸盘提供真空；气体阀3设置在压缩空气管道2上，该气体阀3的控制端通过管道与外部的晶片吸盘的工作阀4的供气管道5相连。
[0009]当工作时，供气管道5向工作阀4提供压缩空气，使得晶片吸盘开始工作，同时，从供气管道5分出部分压缩空气进入气体阀3的控制端，从而导通气体阀3，以向真空发生器I输入压缩空气，通过压缩空气的喷射使得真空发射器I形成真空，从而使得晶片吸盘具有真空吸力，吸住晶片；当晶片吸盘不再工作，则供气管道5上的电磁阀则关闭，供气管道5停止提供压缩空气，则气体阀3关闭，从而停止输送压缩空气管道2中的压缩空气，保证了晶片吸盘和真空发生器I的同步，并且在真空发生器I无需工作时，节省了大量的压缩空气，节约了生产成本，提高了经济效益。
[0010]综上所述，本发明ー种晶片吸盘的真空发生装置，保证了晶片吸盘和真空发生器I的同步，并且在真空发生器I无需工作时，节省了大量的压缩空气，节约了生产成本，提高了经济效益。
[0011]尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
【权利要求】
1.一种晶片吸盘的真空发生装置，包含:通过管道相连的真空发生器(I)和压缩空气管道(2)，该真空发生器(I)给晶片吸盘提供真空，其特征在于，还包含:气体阀(3)，所述的气体阀(3)设置在压缩空气管道(2)上，该气体阀(3)的控制端通过管道与外部的晶片吸盘的工作阀(4)的供气管道(5)相连；当供气管道(5)向工作阀(4)提供压缩空气时，从供气管道(5)分出部分压缩空气进入气体阀(3)的控制端，导通气体阀(3)以向真空发生器(I)输入压缩空气。
【文档编号】H01L21/683GK103531512SQ201210231299
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2012年7月5日 优先权日:2012年7月5日
【发明者】顾军, 刘波, 尹绂聿 申请人:上海宏力半导体制造有限公司