用于生成等离子体和使电子束指向靶的设备的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种用于生成等离子体和使电子束指向靶(3)的设备；该设备(2)包括：中空元件(5)，其具有腔(6)；激活组(21)，其被设计为在使用中在所述中空元件(5)和与所述中空元件(5)分离的另一元件之间施加电势差，以在使用中使来自等离子体生成空间的电子束指向所述与所述中空元件(5)分离的另一元件；所述设备(2)的特征在于其包括与所述生成空间流体连通的加速通道(12)以及压力调节系统(P)，所述压力调节系统(P)被设计为在所述加速通道(12)的上游承载比所述加速通道(12)的下游的压力更大的压力，以在使用中在所述生成空间中并且在从所述加速通道(12)的上游到所述加速通道(12)的下游的方向上沿着同一所述加速通道(12)生成气体流，并且所述加速通道(12)被设计为使所述气体流的移动加速。2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述加速通道(12)具有延伸轴并且被设计为将气体分子的任何横向运动分量转换为与同一所述轴平行的运动。3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述加速通道(12)包括至少一个渐细部分(13)，该渐细部分(13)具有沿着所述气体流的方向减小的横截面。4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述加速通道(12)包括拉伐尔喷嘴。5.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，还包括与所述中空元件(5)分离的交互元件(18)。6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述与所述中空元件(5)分离的另一元件是所述交互元件(18)。7.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，其中，所述与所述中空元件(5)分离的另一元件是所述靶(3)。8.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，其中，所述生成空间包括所述腔(6)。9.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，其中，所述生成空间位于所述加速通道(12)相对于所述气体流的上游或者下游。10.根据权利要求3所述的设备，其中，所述加速通道(12)的渐细部分(13)具有减少到至少二十分之一的通路面积。11.根据权利要求3所述的设备，其中，所述加速通道的渐细部分(13)包括指向所述与所述中空元件(5)分离的另一元件的末端(15)，该末端(15)具有14mm2与25mm2之间的通路面积。12.根据权利要求3所述的设备，其中，所述中空元件(5)包括用于使所述腔(6)与外部流体连通的开口(11)；所述加速通道(12)位于所述与所述中空元件(5)分离的另一元件与所述腔(6)之间并且被设计为使所述气体流通过所述开口(11)的移动加速；所述压力调节系统(P)被设计为使所述腔(6)达到比外部压力更大的压力；所述与所述中空元件(5)分离的另一元件位于所述中空元件(5)外部；所述渐细部分(13)朝着所述与所述中空元件(5)分离的另一元件逐渐变细并且被设计为朝着所述与所述中空元件(5)分离的另一元件使所述气体流的移动加速。13.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，并且包括触发电极(7)，该触发电极(7)被至少部分地放置在所述腔(6)内；所述激活组(21)还被设计为在所述触发电极(7)与所述中空元件(5)之间施加电势差以使得在所述腔(6)内形成电子；具体而言，所述激活组(21)被电连接到所述中空元件(5)并且被设计为在少于40ns内使所述中空元件(5)的电势减小至少2kV。14.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，其中，所述腔(6)和所述加速通道(12)相对于外部液密地相互连接。15.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，其中，所述压力调节系统(P)包括气体提供单元和快速开闭阀，所述气体提供单元被设计为将气体提供到所述腔(6)内以将所述腔(6)中的压力保持在比外部的压力至少高10倍的值。16.根据权利要求1至4中任一个所述的设备，并且包括加速元件(23)，该加速元件(23)界定所述加速通道(12)并且与所述中空元件(5)直接相连。17.根据权利要求1至4中的任一个所述的设备，并且包括加速元件(23)，该加速元件(23)界定所述加速通道(12)并且利用插入在其间的由介电材料制成的管状元件(22)而被连接到所述中空元件(5)。18.根据权利要求5所述的设备，其中，所述交互元件(18)包括通路通道(18a)，在使用中所述电子束在该通路通道(18a)中通过。19.根据权利要求18所述的设备，其中，所述通路通道(18a)包括大体面向所述加速通道(12)的出口端(26)的入口端(25)。20.根据权利要求19所述的设备，其中，所述通路通道(18a)和所述加速通道(12)大体相互同轴。21.根据权利要求18所述的设备，其中，所述交互元件(18)包括与所述通路通道(18a)流体连通并且被横向界定的内室(27)；所述内室(27)包括两个开口端(29，30)并且相对于所述通路通道(18a)横向地在所述开口端(29，30)之间延伸。22.一种用于生成等离子体和使电子束指向靶(3)的设备；该设备(2)包括：中空元件(5)，其具有腔(6)；交互元件(18)，其与所述中空元件(5)分离；激活组(21)，其被设计为在所述中空元件(5)与所述交互元件(18)之间施加电势差以使所述电子束指向所述交互元件(18)；所述设备(2)的特征在于所述交互元件(18)包括在使用中所述电子束在其中通过的通路通道(18a)并且包括面向所述腔(6)以在使用中接收所述电子束的入口端(25)以及与所述通路通道(18a)流体连通并且被横向界定的内室(27)；所述内室(27)包括两个开口端(29，30)并且相对于所述通路通道(18a)横向地在所述开口端(29，30)之间延伸。23.一种用于在支撑物(4)上沉积预定材料的装置，该装置(1)包括：外室(45)和包括所述预定材料的靶(3)，在使用中可以将所述支撑物(4)放置在所述外室(45)中，所述沉积在所述支撑物(4)上发生；所述装置(1)的特征在于其包括如在权利要求1至4和22中的一个中定义的设备(2；2′；2″；2IV；2V；2VI；2VII；2VIII)，该设备中的腔(6)与所述外室(45)相互连通；所述外室(45)包含压力小于10-3毫巴的气体；所述设备(2；2′；2″；2IV；2V；2VI；2VII；2VIII)被设计为使电子束指向所述靶(3)以使得至少部分所述预定材料被从所述靶(3)中移开并被沉积在所述支撑物(4)上。24.一种用于在支撑物(4)上涂布预定材料的方法，该方法包括发射步骤，在该发射步骤期间，根据权利要求1至4和22中的任一个所述的设备(2；2′；2″；2IV；2V；2VI；2VII；2VIII)使所述电子束指向包括所述预定材料的靶(3)，以使至少部分所述预定材料被从所述靶(3)中移开并且使其指向所述支撑物(4)。25.一种用于生成电子束的方法，包括以下操作步骤：利用稀薄可电离气体来填充生成空间和与其连通的加速通道(12)；通过所述生成空间和所述加速通道(12)并且朝外部来生成所述气体的流；沿着所述加速通道(12)的轴使所述气体流加速并且将气体分子的相对于所述轴的任何横向运动分量转换为与同一所述轴平行的运动；使得在所述生成空间中并且至少部分地在加速气体流中形成等离子体；以及使来自以这种方式形成的等离子体的电子束指向靶(3)。26.根据权利要求25所述的方法，其中，所述气体流是在朝所述靶(3)的方向上生成的。27.根据权利要求25所述的方法，其中，所述加速气体流被用来引导所述等离子体和所述电子束。