技术总结
本发明提供一种像素结构与制造方法，包括：基板、第一绝缘层、氧化物半导体层、第一导电层、第二绝缘层以及第二导电层。所述第一绝缘层形成于所述基板上、所述氧化物半导体层形成于所述第一绝缘层上、所述第一导电层耦接至所述氧化物半导体层、所述第二绝缘层形成于所述第一导电层上、所述第二绝缘层具有开口以及所述第二导电层通过所述开口耦接至所述氧化物半导体层，其特征在于，所述第一导电层为导电电极且所述第二导电层为资料线。
技术研发人员：吴健豪;李懿庭;胡宪堂
受保护的技术使用者：南京瀚宇彩欣科技有限责任公司;瀚宇彩晶股份有限公司
文档号码：201510315926
技术研发日：2015.06.10
技术公布日：2017.01.04