1.一种硅晶圆研磨用组合物,其在磨粒的存在下使用,
所述硅晶圆研磨用组合物含有硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物A、不含酰胺基的有机化合物B及水,
所述含酰胺基聚合物A在主链中具有源自下述通式(1)所示的单体的结构单元S,
式中,R1为氢原子、碳原子数1~6的烷基、烯基、炔基、芳烷基、烷氧基、烷氧基烷基、烷醇基、乙酰基、苯基、苄基、氯基、二氟甲基、三氟甲基或氰基,X为(CH2)n、(CH2)2O(CH2)2或(CH2)2S(CH2)2,其中,n为4~6的整数,
所述含酰胺基聚合物A的分子量MA与所述有机化合物B的分子量MB的关系满足下式:
200≤MB<MA。
2.根据权利要求1所述的硅晶圆研磨用组合物,其中,所述含酰胺基聚合物A的分子量MA相对于所述有机化合物B的分子量MB的比MA/MB大于5。
3.根据权利要求1或2所述的硅晶圆研磨用组合物,其中,所述有机化合物B的分子量MB小于1×104。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的硅晶圆研磨用组合物,其中,所述含酰胺基聚合物A的分子量MA小于50×104。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的硅晶圆研磨用组合物,其中,所述通式(1)中的R1为氢原子或甲基。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的硅晶圆研磨用组合物,其中,所述通式(1)中的X为(CH2)2O(CH2)2。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的硅晶圆研磨用组合物,其中,所述磨粒为二氧化硅颗粒。