1.一种阵列基板，其特征在于，应用于有机电致发光二极管OLED显示面板，所述阵列基板包括：
第一基板；
像素驱动膜层，位于所述第一基板表面；
平坦层，位于所述像素驱动膜层背离所述第一基板一侧；
第一像素定义层，位于所述平坦层背离所述第一基板一侧，所述第一像素定义层具有多个像素凹槽；
反射层，位于所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧，所述反射层背离所述第一基板一侧具有粗糙表面；
阳极层，位于所述反射层背离所述第一基板一侧，所述反射层及所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；
第二像素定义层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧，且所述第二像素定义层至少覆盖所述阳极层在所述像素凹槽侧壁部分的表面。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射层的粗糙表面的粗糙度Rz大于或等于1nm。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素定义层与所述平坦层的材质相同。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述反射层为具有粗糙表面的金属层。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素凹槽背离所述第一基板一侧表面具有粗糙表面。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素驱动膜层包括：位于所述第一基板表面沿第一方向排列的多条栅极线、沿第二方向排列的多条数据线以及位于所述栅极线与所述数据线限定区域中的薄膜晶体管，所述第一方向与所述第二方向交叉，其中，每个所述薄膜晶体管的漏极与其对应的显示子像素的阳极电连接。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括：
发光材料层，位于所述阳极层背离所述第一基板一侧表面；
阴极层，位于所述发光材料层背离所述第一基板一侧；
所述阳极层包括多个阵列排布的阳极，所述发光材料层包括与所述多个阳极一一对应的多个发光结构，所述阴极层、所述多个阳极和所述多个发光结构构成多个显示子像素。
8.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
提供第一基板；
在所述第一基板表面依次形成像素驱动膜层和平坦层；
在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层；
在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层；
在所述反射层背离所述第一基板一侧形成阳极层，并对所述反射层和阳极层进行刻蚀，刻蚀后的所述反射层和所述阳极层完全覆盖所述像素凹槽；
在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成第二像素定义层，所述第二像素定义层至少覆盖所述阳极层在所述像素凹槽侧壁部分的表面。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层包括：
在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成光敏材料层；
利用掩膜板对所述光敏材料层进行曝光，并对曝光后的光敏材料层进行显影，形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层。
10.根据权利要求9所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成光敏材料层包括：
在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成与所述平坦层材质相同的光敏材料层。
11.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层包括：
在所述平坦层背离所述第一基板一侧表面设置半色调掩膜板；
利用所述半色调掩膜板对所述平坦层进行曝光，并对曝光后的平坦层进行显影，形成具有多个像素凹槽的第一像素定义层。
12.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层包括：
对所述多个第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面进行粗糙化处理；
在经过粗糙化处理的第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成反射层。
13.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成具有粗糙表面的反射层包括：
在所述第一像素定义层背离所述第一基板一侧表面形成反射层；
对所述反射层背离所述第一基板一侧表面进行粗糙化处理。
14.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述阳极层包括多个阵列排布的阳极；
所述在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成第二像素定义层之后还包括：
在所述阳极层背离所述第一基板一侧表面形成发光材料层，所述发光材料层包括与所述多个阳极一一对应的多个发光结构；
在所述发光材料层背离所述第一基板一侧表面形成阴极层，所述阴极层、所述多个阳极和所述多个发光结构构成多个显示子像素。
15.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：相对设置的对置基板和阵列基板，其中，所述阵列基板为权利要求1-7任一项所述的阵列基板。
16.一种显示装置，其特征在于，包括至少一个如权利要求15所述的OLED显示面板。