技术总结
本实用新型提供一种用于冷却介质及半导体激光器的制冷系统，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述系统包括：制冷物质、冷却介质、储液装置、以及储气装置；其中，所述储液装置，用于储存冷却介质；所述储气装置，用于储存制冷物质，并将所述制冷物质导入所述储液装置；所述制冷物质，用于利用自身的相变潜热，在所述储液装置中将所述冷却介质进行冷却。基于本实用新型提供的用于冷却介质及半导体激光器的制冷系统，能够有效地提高制冷效率，无需电力驱动，节省能源，并且结构紧凑、重量轻、体积小，具有较高的可靠性。
技术研发人员：宋涛;张宏友;高雷;孙尧;刘兴胜
受保护的技术使用者：西安炬光科技股份有限公司
文档号码：201621465398
技术研发日：2016.12.29
技术公布日：2017.09.15