技术特征：
技术总结
本发明提供一种在基板表面使溶剂成分从含有升华性物质的溶液中蒸发之后使升华性物质升华的基板处理技术中，能够用较短的节拍时间且出色的能源利用效率来进行处理的技术。基板处理装置具有：第一腔室；液膜形成部，其在第一腔室内并在基板的表面形成含有升华性物质的溶液的液膜(P)，该升华性物质具有升华性；第二腔室(30)，其接受形成有液膜(P)的基板(W)；板部(311)，其设于第二腔室(30)内，基板(W)能够被放置于该板部(311)的上表面；温度控制部(312、335)，其控制板部的上表面升温到规定温度；加热部(322)，其在被放置于板部(311)的基板(W)上方，对从溶液析出的升华性物质进行加热，以使该升华性物质升华。
技术研发人员：宫胜彦
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2017.02.23
技术公布日：2017.10.03