一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法与流程

文档序号:14681646发布日期:2018-06-12 22:21阅读:来源:国知局
技术总结
本发明揭示了一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法,包括上料工位、清洗工位及下料工位,且三个工位均借助输送装置实现各个工位的连接,多晶硅片通过输送装置可从下料工位进入制绒槽,清洗工位依顺序设置有喷淋装置、擦拭装置及干燥装置,且喷淋装置、擦拭装置及干燥装置之间通过输送装置相连接;多晶硅片清洗系统还包括控制装置;输送装置、喷淋装置、擦拭装置及干燥装置均与控制装置相连接并受控制装置的控制。本发明清洗工位上设置有喷淋装置、擦拭装置及干燥装置,可以加大多晶硅表面的水分蒸发,减少对制绒槽内的化学试剂及制绒槽的污染,从而延长制绒槽内化学试剂的使用时间,另外可以缩短多晶硅电池片工艺的流程时间,从而提高生产效率。

技术研发人员:李虹罡
受保护的技术使用者:中建材浚鑫科技有限公司
技术研发日:2017.12.06
技术公布日:2018.06.12

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