技术总结
本实用新型公开了一种晶硅制绒设备的清洗槽匀流支撑板，横向安装在清洗槽槽体内的中下部，包括一底板，底板上开设有均匀分布的匀流孔，底板上表面的前后两端分别设有一根支座条，每根支座条上均开设有两个倒梯形的凹口；位于前端的两个凹口与位于后端的两个凹口前后两两对应，形成两个用于承托晶硅片篮子的支撑座。本实用新型将原来清洗槽内的支撑框架改进为匀流支撑板，这大大缓解了清洗液对晶硅片的冲击力，避免晶硅片被打坏，降低了产品的不良率，提高了制绒设备的生产效率。本实用新型的底板位置微调装置可调整匀流支撑板在水平方向上的位置，确保晶硅片篮子准确安放在底板的支撑座上，实现对晶硅片的完美清洗。
技术研发人员：程强强;霍召军
受保护的技术使用者：库特勒环保科技（苏州）有限公司
文档号码：201721200069
技术研发日：2017.09.19
技术公布日：2018.04.17