本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及一种光刻胶的收集装置。
背景技术：
光刻技术是集成电路中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术；随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已成为一种精密的微细技工技术，因此，现有技术中通常利用匀胶机进行对单晶表面或介质层进行涂胶以满足其精度要求；
匀胶机有很多种称谓，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关；
在光刻技术中，使用的胶液为光刻胶， 市场上的光刻胶品牌和种类非常多，价格也由几千至上万元不等，常规公司仅会使用一种光刻胶，用于稳定生产；光刻胶的消耗是半导体制造中一项较大损耗费用，常规2英寸的衬底片涂胶厚度约2um，则需使用2ml以上的胶去覆盖后匀胶，估算有效使用率不足1/500，而均胶时甩出的胶则被当做危废处理，需要花钱专业处理，是一种高额浪费；
鉴于此，提供一种光刻胶的收集装置成为本领域亟待解决的问题。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种光刻胶的收集装置，提高了光刻胶的利用率，降低了生产成本。
为解决以上技术问题，本实用新型的技术方案为：一种光刻胶的收集装置，其不同之处在于：其包括槽体，所述槽体包括槽底和槽壁，所述槽底呈中部高外缘低的倾斜状，所述槽壁相对于槽底向外倾斜，所述槽底与槽壁内侧的连接处设有用于引导流向的凹槽，所述凹槽内设有下水孔；设于槽体底部的管路，所述管路一端连接于所述下水孔；连接于管路另一端的储存罐。
按以上方案，所述槽体的水平截面为圆形。
按以上方案，所述槽底中部最高点位置的高度为6mm～8mm。
按以上方案，所述槽底的倾斜角度为5～10°。
按以上方案，所述槽底的倾斜角度为6度。
按以上方案，所述槽底的中心处设有用于放置匀胶机的支座。
按以上方案，所述支座的高度小于槽壁高度。
按以上方案，所述支座的高度为12mm～16mm；所述槽壁的高度为50mm～70mm。
按以上方案，所述支座的高度为15mm；所述槽壁的高度为60mm。
按以上方案，所述管路为一体无连接缓坡结构。
由上述技术方案可知，本实用新型采用均为斜坡结构的槽底和槽壁，槽底上的凹槽和下水孔对多余的光刻胶起导向作用，实现了光刻胶的收集，其收集效果好，收集效率高；同时，配合槽体使用的管路和储存罐使多余的光刻胶被全部收集，再次利用，提高光刻胶的利用率，降低生产成本。
附图说明
图1为本实用新型实施例槽体的主视结构示意图；
图2为本实用新型实施例槽体的俯视结构示意图；
图3为本实用新型实施例管路的结构示意图1；
图4为本实用新型实施例管路的结构示意图2；
图5为本实用新型实施例储存罐的主视结构示意图；
图6为本实用新型实施例储存罐的俯视结构示意图；
其中：1-槽体（101-槽底、102-槽壁、103-下水孔、104-支座）、2-管路、3-储存罐。
具体实施方式
下面通过具体实施方式结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
请参考图1至图6，本实用新型为一种光刻胶的收集装置，其包括槽体1、设于槽体1底部的管路2、连接于管路2另一端的储存罐3；
请参阅图1和图2，图1和图2均为槽体1的结构示意图，所述槽体1的水平截面为圆形，所述槽体1包括槽底101和槽壁102，所述槽壁102和槽底101均存在一定尺寸的斜坡，所述槽底101呈中部高外缘低的倾斜状，槽底的倾斜角度为5～10°，其具体地倾斜角度为6度；槽底101中部最高点位置的高度的范围为6mm～8mm，具体高度为7mm，所述槽壁102相对于槽底101向外倾斜，槽壁102的高度范围为50mm～70mm，其具体高度为60mm，槽壁102顶端开口直径为180mm；槽底101中心处设有用于放置匀胶机的支座104，支座104的水平截面也为圆形，支座104的高度范围为12mm～16mm，具体高度的15mm，支座104的直径为25mm，所述支座104的高度和直径远远小于槽壁102高度和直径；所述槽底101上与槽壁102的的连接处形成用于引导流向的凹槽，所述凹槽上设有下水孔103，下水孔103的直径为5mm；
请参阅图3和图4，图3和图4均为管路2的结构示意图，所述管路2的一端配合连接于槽体1底部的下水孔103，所述管路2为一体无连接缓坡结构。
请参阅图5和图6，图5和图6均为储存罐3的结构示意图，储存罐3的入口端和管路2的另一端相匹配。
本实用新型实施例中，所述槽体1以中心圆心到下水孔103为中心对称线，利用匀胶时甩出的光刻胶，甩至槽壁102及槽底101，经过有坡度的槽壁102和槽底101，光刻胶通过凹槽流入下水孔103中，通过一体无连接缓坡结构的管路2缓慢流入洁净的储存罐3，被收集并再次利用。
本实用新型的有益效果为：本实用新型从光刻胶成本入手，提出了回收再利用的手段，设计了一种带有坡度、可引导光刻胶流向并收集的装置，本实用新型的槽壁102的高度和直径均远远大于用于安装匀胶机的支座的高度和直径，能很好的收集匀胶机甩出的研磨料；与现有技术相比，本实用新型改变了槽体1坡度及结构，方便引导光刻胶的流向，收集效果好且收集效率高，同时槽体1带有下水孔103通过管路2流入储存罐3中来实现多余光刻胶的全部收集，再次利用，提高了光刻胶的利用率，降低了生产成本。
以上内容是结合具体的实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。