一种钝化进光层的局域发射极晶体硅双面太阳电池结构的制作方法

文档序号:16453601发布日期:2019-01-02 21:59阅读:来源:国知局
技术总结
一种钝化进光层的局域发射极晶体硅双面太阳电池结构,以n型晶体硅片作为基底,其发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:发射极‑导电区域由基底向外依次由本征非晶硅钝化层、重掺杂p型非晶硅层、金属栅线I构成,钝化‑进光区域由基底向外依次由TiO2钝化层I、钝化减反射层I构成;背电场面分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:钝化‑进光区域由基底向外依次为重掺杂n型晶体硅层II、钝化减反射层II;背电场‑导电区域由基底向外依次为重掺杂n型晶体硅层II、金属栅线II。本实用新型在保持晶体硅太阳电池双面进光的特性前提下,同时获得高开路电压和高短路电流的特性,最大程度的提高晶体硅太阳电池的发电能力。

技术研发人员:高超;周浪;黄海宾;袁吉仁;岳之浩
受保护的技术使用者:南昌大学
技术研发日:2018.03.12
技术公布日:2019.01.01

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