技术特征：
技术总结
本发明提供防脱落装置及晶圆清洗设备，涉及清洗设备的技术领域，所述防脱落装置包括驱动机构和限位机构；所述限位机构用于安装在所述承载机构的上方，所述驱动机构用于驱动限位机构靠近或远离所述承载机构移动，以使限位机构靠近所述承载机构时，能够在待处理物的上方限制待处理物从承载机构上脱离，并使限位机构在远离所述承载机构时，能够取放待处理物。本发明提供的防脱落装置确保了晶圆在清洗之前，对晶圆进行清洗浸泡，避免了晶圆尺寸小且重量比较轻，在晶圆即将进入化学药液时，就会由于晶圆自身受到的浮力及化学液表面的张力而脱离晶圆承载盘，甚至还会出现晶圆掉出承载盘的情况，从而造成了晶圆的损坏。
技术研发人员：郭立刚;祝福生;王文丽;秦亚奇;周福江
受保护的技术使用者：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
技术研发日：2019.05.27
技术公布日：2019.08.16