一种用于调光薄膜的导电膜结构的制作方法_2

文档序号:8224596阅读:来源:国知局
0上,具有第一光线折射率R1。第二透光导电膜层32设置于第一透光导电膜层31上,用以降低电阻值,具有第二光线折射率R2。第三透光导电膜层33设置于第二透光导电膜层32上,具有第三光线折射率R30
[0023]须特别说明的是,类似地,于本实施方式中,第一透光导电膜层31以溅镀的方式镀于基膜层30上,第二透光导电膜层32以溅镀的方式镀于第一透光导电膜层31上,第三透光导电膜层33以溅镀的方式镀于第二透光导电膜层32上。其中,第一透光导电膜层31更用以增强第二透光导电膜32以及基膜层30间的结合关系。
[0024]进一步说明,第一透光导电膜层31介于基膜层30以及第二透光导电膜层32间,第二透光导电膜层32介于第一透光导电膜层31以及第三透光导电膜层33间。第二光线折射率Rl小于第一光线折射率Rl以及第三光线折射率R3。同样地,根据光学原理,光线若依序通过高折射率材质、低折射率材质以及高折射率材质,将可进一步加强低光线反射以及高穿透的效果。
[0025]同样地更详细说明,较佳的实施方式中,前述的导电膜结构3的第一透光导电膜层31的材料主要为氧化铟锡(ITO)、氮化硅(Si3N4)、五氧化二铌(Nb205)及二氧化钛(Τ?02)其中之一。第二透光导电膜层32的材质为银,且其厚度介于I纳米至30纳米间。第三透光导电膜层33之材质为氧化铟锡(ITO),且其厚度介于10纳米至70纳米之间。
[0026]如此一来,透过前述的导电膜结构3,将具有以下三优点:(I)第一透光导电膜层31可加强第二透光导电膜层32与基膜层30间之结合关系;(2)光线依序通过高折射率材质(第三透光导电膜层33)、低折射率材质(第二透光导电膜层32)以及高折射率材质(第一透光导电膜层31),进一步加强低光线反射以及高穿透的效果;以及(3)第二透光导电膜层32的材质为银时,其可在极薄至透明的状态下大幅降低表面电阻达到节能效果,同时阻隔红外光。
[0027]综上所述,本发明提供一种具有低表面电阻、高光线穿透性、低辐射(可见光高穿透以及红外线低穿透)以及节能功能的导电膜结构,因此,当其使用于调光薄膜时,将可大幅提升调光薄膜的整体价值及性能。
[0028]上述实施例所述的结构、材料以及尺寸仅为例示性说明本发明的较佳实施方式,以及阐释本发明的技术特征,并非用来限制本发明的保护范畴。本发明并不限于上述实施方式,采用与本发明上述实施例相同或近似的技术特征,而得到的其他用于调光薄膜的导电膜结构,均在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,包括基膜层、第一透光导电膜层以及第二透光导电膜层;所述第一透光导电膜层设置于基膜层上,用以降低电阻值,具有第一光线折射率;所述第二透光导电膜层设置于第一透光导电膜层上,具有第二光线折射率;其中,所述第一透光导电膜层介于基膜层以及第二透光导电膜层之间,所述第一光线折射率小于第二光线折射率。
2.根据权利要求1所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第一透光导电膜层的材料为银。
3.根据权利要求2所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第一透光导电膜层的厚度介于Inm至30nm之间。
4.根据权利要求1所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,该所述第二透光导电膜层的材质为氧化铟锡。
5.根据权利要求4所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,第二透光导电膜层的厚度介于1nm至70nm之间。
6.—种用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,包括基膜层、第一透光导电膜层、第二透光导电膜层以及第三透光导电膜层;所述第一透光导电膜层设置于基膜层上,具有第一光线折射率;所述第二透光导电膜层设置于第一透光导电膜层上,用以降低电阻值,具有第二光线折射率;所述第三透光导电膜层设置于第二透光导电膜层上,具有第三光线折射率;其中,所述第一透光导电膜层介于基膜层以及第二透光导电膜层之间,所述第二透光导电膜层介于第一透光导电膜层以及第三导电透光膜层间,所述第二光线折射率小于第一光线折射率以及第三光线折射率。
7.根据权利要求6所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第一透光导电膜层的材料为氧化铟锡、氮化硅、五氧化二铌及二氧化钛其中之一。
8.根据权利要求6所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第二透光导电膜层的材料为银。
9.根据权利要求8所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第二透光导电膜层的厚度介于Inm至30nm之间。
10.根据权利要求6所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第三透光导电膜层的材质为氧化铟锡。
11.根据权利要求10所述的用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,所述第三透光导电膜层的厚度介于1nm至70nm之间。
【专利摘要】本发明公开了一种用于调光薄膜的导电膜结构,其特征在于,包括基膜层、第一透光导电膜层以及第二透光导电膜层;所述第一透光导电膜层设置于基膜层上,用以降低电阻值,具有第一光线折射率;所述第二透光导电膜层设置于第一透光导电膜层上,具有第二光线折射率;其中,所述第一透光导电膜层介于基膜层以及第二透光导电膜层之间,所述第一光线折射率小于第二光线折射率。本发明提供的导电膜结构具有低表面电阻、高光线穿透性、低辐射(可见光高穿透以及红外线低穿透)以及节能功能,当其使用于调光薄膜时,将可大幅提升调光薄膜的整体价值及性能。
【IPC分类】H01B5-14, G02F1-13, H01B1-02
【公开号】CN104538089
【申请号】CN201510003064
【发明人】唐炎毅
【申请人】唐炎毅
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2015年1月5日
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