过将第一电极20和光学功能层结构22例如借助于印刷法选择性地施加在光学有源区域40中，例如能够制造光电子器件10。因此，随后，第二电极能够大面积地在光学有源区域40和非光学有源区域42上构成，由此形成具有镜区域44的镜面。因此，在光学无源区域42中，不形成微腔并且在那里不造成不美观的镜反射。因此，在光学无源区域42中形成完美的镜。当然，当在光电子器件10中在边缘区域中、例如在光学有源区域40中观察镜像时，出现轻微的失真和/或色彩失真。然而，因为镜面和发光面在该实施例中在制造方法中能够同时在相同的载体12上构成，光电子器件10能够特别简单地和/或成本适宜地构成。
[0091]图9示出例如在用于制造光电子器件10的方法期间、在第一状态中的光电子器件10的一个实施例的剖面图。在第一状态中，具有镜区域44的镜层68在载体12上构成。在镜层68的一部分上构成刻蚀终止部64，例如保护漆。在下文中，例如能够在化学的和/或物理的刻蚀工艺中移除在刻蚀终止部64之外的镜层68。
[0092]图10示出例如在用于制造光电子器件10的方法期间在第二状态中的根据图9的光电子器件10。在第二状态中，光电子层结构在整个载体12和镜层68上构成。然而，由于在载体12的内部区域中的镜层68，光学功能层结构22在镜层68和第二电极22之间不是有源的，因此仅光学功能层结构22在镜层68之外、尤其在光学有源区域40中在接通状态下产生光。
[0093]因此，在光学无源区域42中不形成微腔并且在那里不造成不美观的镜反射。因此，在光学无源区域42中形成完美的镜。然而，在该实施例中，也能够在光学有源区域40中出现与观察角度相关的色彩失真或色彩偏差，然而所述光电子器件10也能够在唯一的方法中简单地且成本适宜地制造。
[0094]第一电极20和镜层44能够导电地彼此耦联。此外，镜层44能够导电地构成。例如，镜层44能够具有导电材料或由导电材料形成。
[0095]图11示出光电子器件10的一个实施例的剖面图，所述光电子器件例如能够尽可能地对应于在上文中所阐述的光电子器件10。光电子器件10具有其他的光学有源区域41。其他的光学有源区域41例如能够完全地或部分地由光学无源区域42包围。光学有源区域41例如能够在运行时构成为光学无源区域41中发光的孤岛。其他的光学有源区域41例如能够由镜层44中的凹部、例如孔形成。到其他的光学有源区域41的电流引导例如能够经由镜层44进行，只要所述镜层导电地构成。在镜层44和第一电极20之间的边界区域中能够构成台阶。为了不能够由于所述台阶引起短路，所述台阶能够由导电的和透明的钝化漆包覆和/或平坦化。此外，镜层44中的凹部能够借助于填充剂、例如借助于钝化漆来填充。在填充剂上并且在光学功能层结构下能够构成透明的电极以运行其他的光学有源区域。
[0096]图12示出光电子器件10的一个实施例的俯视图，所述光电子器件在剖面图中例如能够根据在上文中阐述的光电子器件10来构成，例如根据在图7中示出的光电子器件
10。在光学无源区域42之外形成光学有源区域40、尤其第一光学有源区域。在光学无源区域42之内构成另一光学有源区域41、尤其第二光学有源区域，所述第二光学有源区域在该实施例中星形地构成。然而，对此替选地，其他的光学有源区域41也能够不同地构成并且例如能够具有字母、标记、字符、图形或图标。
[0097]图13示出光电子器件10的一个实施例，所述光电子器件在剖面图中例如能够根据上文所阐述的光电子器件10来构成。光电子器件10在俯视图中略带圆形地、尤其圆形地构成。对此替选地，光电子器件10例如能够椭圆形地构成。
[0098]图14示出光电子器件的一个实施例的、例如在上文中阐述的光电子器件10的层结构的细节剖面图，其中在所述细节图中没有示出光学无源区域42。光电子器件10构成为底部发射器。
[0099]光电子器件10具有载体12和在载体12上的有源区域。在载体12和有源区域之间能够构成未示出的第一阻挡层、例如第一阻挡薄层。有源区域具有第一电极20、有机功能层结构22和第二电极23。在有源区域上构成封装层24。封装层24能够构成为第二阻挡层，例如构成为第二阻挡薄层。在有源区域上和必要时在封装层24上设置有覆盖件38。覆盖件38例如能够借助于粘附剂层36设置在封装层24上。
[0100]有源区域是电有源区域和/或光学有源区域。有源区域例如是光电子器件10的下述区域，其中有用于运行光电子器件10的电流流动和/或其中产生或吸收电磁辐射。
[0101]有机功能层结构22能够具有一个、两个或更多个功能层结构单元和一个、两个或更多个在层结构单元之间的中间层。
[0102]载体12透明地构成。载体12用作为用于电子元件或层、例如发光元件的承载元件。载体12例如能够具有玻璃、石英和/或半导体材料或任意其他适合的材料或者由其形成。此外，载体12能够具有塑料膜或具有带有一个或多个塑料膜的叠层或者由其形成。塑料能够具有一种或多种聚烯烃。此外，塑料能够具有聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚酯和/或聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚醚砜(PES)和/或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。载体12能够具有金属或者由金属形成，例如铜、银、金、铂、铁，例如金属化合物，例如钢。载体12能够构成为金属膜或金属覆层的膜。载体12能够是镜结构的一部分或形成所述镜结构。载体12能够具有机械刚性的区域和/或机械柔性的区域或者这样构成。
[0103]第一电极20能够构成为阳极或构成为阴极。第一电极20能够半透明地或透明地构成。第一电极20具有导电材料，例如金属和/或导电的透明氧化物(transparentconductive oxide，TC0，透明导电氧化物)或具有金属或TC0的多个层的层堆。第一电极20例如能够具有在TC0层上的金属层的组合的层堆，或者反之。一个示例是施加在铟锡氧化物层(ΙΤ0)上的银层(ΙΤ0上的Ag)或IT0-Ag-1T0复层。
[0104]作为金属例如能够使用Ag、Pt、Au、Mg、Al、Ba、In、Ca、Sm或Li以及这些金属的化合物、组合物或合金。
[0105]透明的导电氧化物是透明的、导电的材料，例如金属氧化物，例如氧化锌、氧化锡、氧化镉、氧化钛、氧化铟或铟锡氧化物(ΙΤ0)。除了二元的金属氧化物、例如ZnO、Sn02或 Ιη203以外，三元的金属氧化物、例如 AlZnO、Zn 2Sn04、CdSn03、ZnSn03、Mgln204、Galn03、Zn2In205或In 4Sn3012S不同的透明的导电氧化物的混合物也属于TC0族。
[0106]对于所述材料替选地或附加地，第一电极20能够具有:例如由Ag构成的金属的纳米线和纳米微粒构成的网络，由碳纳米管、石墨烯微粒和层构成的网络和/或由半导体纳米线构成的网络。替选地或附加地，第一电极20能够具有下述结构中的一种结构或由其形成:例如由Ag构成的能够与导电聚合物组合的金属的纳米线构成的网络，由能够与导电聚合物组合的碳纳米管构成的网络或者石墨烯层和复合材料。此外，第一电极20能够具有导电聚合物或过渡金属氧化物。
[0107]第一电极20例如能够具有在10nm至500nm、例如小于25nm至250nm、例如50nm至100nm的范围中的层厚度。
[0108]第一电极20能够与第一电端子親联，例如与第一接触部段16親联，在所述第一电端子上能够施加有第一电势。第一电势能够由能量源(未示出)提供，例如由电流源或电压源提供。替选地，第一电势能够施加到载体12上并且经由载体12间接地输送给第一电极20。第一电势例如能够是接地电势或不同地预设的参考电势。
[0109]有机功能层结构22能够具有空穴注入层、空穴传输层、发射体层、电子传输层和/或电子注入层。
[0110]空穴注入层能够在第一电极20上或上方构成。空穴注入层能够具有一种或多种下述材料或者由其构成:HAT-CN, Cu (I) pFBz, Mo0x, W0X, V0X, Re0x, F4-TCNQ, NDP-2, NDP-
9,Bi(III)pFBz,F16CuPc ；NPB(N,N/ -双(萘 _1_ 基)_N，N '-双(苯基)_ 联苯胺)；β-ΝΡΒΝ，Ν'-双(萘-2-基)-Ν，Ν'-双(苯基)_联苯胺)；TPD (Ν-Ν'-双(3-甲基苯基)-Ν，Ν'-双(苯基)_联苯胺)；Spiro TPD(N，N'-双(3-甲基苯基)_N，N'-双(苯基)-联苯胺)；Spiro-NPB (N，N'-双(萘-1-基)_N，N'-双(苯基)-螺环);DMFL_TPDN，N'-双(3-甲基苯基)-N，N'-双(苯基)-9,9-二甲基-芴)；DMFL-NPB(N，N'-双(萘-1-基)_N，N '-双(苯基)-9,9- 二甲基-芴)；DPFL-TPD(N，N '-双(3-甲基苯基)-N，N '-双(苯基)_9，9- 二甲基-芴)；DPEL-NPB(N，N '-双(萘-1-基)-Ν，ΓΤ -双(苯基)-9,9-二苯基-芴)；Spiro-TAD(2，2 7 , 7, 7 r -四(η，η- 二苯基氨基)-9，9 '-螺二芴)；9，9-双[4_(Ν，Ν-双-联苯-4-基-氨基)苯基]-9Η-芴；9，9_双[4-(Ν，Ν-双-萘_2_基-氨基)苯基]_9Η_芴；9，9-双[4-(Ν，Ν '-双-萘-2-基-N，Ν '-双-苯基-氨基)苯基]-9Η-芴；Ν，Ν '-双(萘-9-基)-Ν，Ν'-双(苯基)-联苯胺；2，7_双[Ν，Ν-双(9，9-螺二荷-2-基)氨基]-9，9-螺二芴；2，2'-双[Ν，Ν-双(联苯-4-基)氨基]9，9_螺二芴；2，2 '-双[Ν，Ν-双-苯基-氨基]9，9-螺二芴；双-[4-汎^联甲苯-氨基)-苯基]环己烷；2，2' ,?,Τ -四(Ν，Ν-双-甲苯基)氨基-螺二芴；和/或N，N，f，N'-四-萘_2_基-联苯胺。
[0111]空穴注入层能够具有在大约10nm至大约lOOOnm的范围中、例如在大约30nm至大约300nm的范围中、例如在大约50nm至大约200nm的范围中的层厚度。
[0112]在空穴注入层上或上方能够构成空穴传输层。空穴传输层能够具有下述材料中的一种或多种或者由其形成:NPB(N，f -双(萘-1-基)-N，f -双(苯基)_联苯胺)；β-ΝΡΒΝ，Ν'-双(萘-2-基)-Ν，Ν'-双(苯基)_联苯胺)；TPD (Ν-Ν'-双(3-甲基苯基)-N，N'-双(苯基)_联苯胺)；Spiro TPD(N，N