一种湿法处理设备的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及有机发光显示器生产设备技术领域，更具体地说，涉及一种湿法处理设备。
【背景技术】
[0002]在有机发光显示器的生产过程中，需要使用湿法处理设备参与一些工序的生产。利用湿法处理设备生产有机发光显示器时，机发光显示器的基板会通过输送装置移动在湿法处理设备上，而湿法处理设备上则设置有导轮用于承托并驱动基板在其上移动。在这些导轮中，至少有一个导轮安装在转动臂上，此转动臂通过旋转轴转动设置在湿法处理设备的基座上(该基座固定安装在湿法处理设备的主机架上)，转动臂位于上方的一端为承托端，其上设置有导轮，位于下方的一端为检测端，安装在主机架上的传感器能够感测检测端的位置。当基板移动至湿法处理设备上以后，基板与导轮接触并压迫导轮向下移动，在导轮的带动下转动臂围绕旋转轴发生转动，由于旋转轴位于承托端和检测端之间，所以转动臂进行转动后，其检测端会向上移动，此时传感器感测到检测端的位置发生改变，从而发出基板到来的感测信号给湿法处理设备的控制器。当基板与导轮脱离接触后，导轮不再受到压力，检测端在自身重力的作用下回落至原位，传感器感测到检测端的位置变化后，再次发出基板离开的感测信号给控制器。
[0003]但是，在实际生产过程中，当基板与导轮脱离接触后，经常会发生检测端不回落的现象，导致传感器无法精确感测到基板的位置，从而影响了有机发光显示器的正常生产。
【实用新型内容】
[0004]有鉴于此，本实用新型旨在提供一种新型的湿法处理设备，其能够避免转动臂的检测端不回落的现象发生，从而使传感器能够精确感测到基板的位置，以保证有机发光显示器的正常生产。
[0005]为了达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0006]—种湿法处理设备，包括基座和转动设置在所述基座上的转动臂，还包括设置在所述基座上，且位置与所述转动臂对正，以用于吸附所述转动臂的磁铁。
[0007]优选的，上述湿法处理设备中，所述基座上开设有安装槽，所述磁铁设置在所述安装槽内。
[0008]优选的，上述湿法处理设备中，所述磁铁为环形磁铁，所述安装槽为环形安装槽。
[0009]优选的，上述湿法处理设备中，所述磁铁为矩形块状磁铁，所述安装槽为矩形安装槽。
[0010]本实用新型提供的湿法处理设备，包括基座和转动设置在基座上的转动臂，此转动臂的一端为承载端，另一端为检测端，其与现有技术的不同之处在于，基座上还设置有磁铁，该磁铁的位置与检测端回落后所处的位置对正，从而使磁铁能够对检测端起到吸附作用。在基板与承载端开始接触直至最终脱离的过程中，无论检测端位于其原始位置(与基座接触的位置)，还是在升起的过程中，磁铁都会对检测端起到吸附作用，当基板与承载端脱离接触后，升起的检测端会在磁力及自身重力的作用下回落至原始位置，从而避免转动臂的检测端不回落的现象发生，进而使传感器能够精确感测到基板的位置，以保证有机发光显示器的正常生产。
【附图说明】
[0011]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0012]图1为本实用新型实施例提供的湿法处理设备中基座和转动臂的结构示意图；
[0013]图2为磁铁和安装槽的设置示意图。
[0014]以上图1和图2中:
[0015]基座I，转动臂2，磁铁3，安装槽4，检测端5，承载端6。
【具体实施方式】
[0016]本实用新型旨在提供一种新型的湿法处理设备，其能够避免转动臂的检测端不回落的现象发生，从而使传感器能够精确感测到基板的位置，以保证有机发光显示器的正常生产。
[0017]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0018]如图1和图2所示，本实用新型实施例提供的湿法处理设备，其主要改进之处在于，在基座I上设置了磁铁3，该磁铁3的位置与检测端5回落后所处的位置对正，从而使磁铁3能够对检测端5起到吸附作用。
[0019]在基板与承载端6开始接触直至最终脱离的过程中，无论检测端5位于其原始位置(与基座I接触的位置，即图1所示的位置)，还是在升起的过程中，磁铁3都会对检测端5起到吸附作用，当基板与承载端6脱离接触后，升起的检测端5会在磁力及自身重力的作用下回落至原始位置，从而避免转动臂2的检测端5不回落的现象发生，进而使传感器能够精确感测到基板的位置，以保证有机发光显示器的正常生产。
[0020]为了进一步优化上述技术方案，本实施例提供的湿法处理设备中，基座I上开设有安装槽4，磁铁3设置在安装槽4内，如图2所示。本实施例之所以选择此种设置方式，是为了最大程度的避免因增设磁铁3而使检测端5的原始位置发生改变，进而避免影响传感器对检测端5的正常感测。当磁铁3设置在安装槽4内之后，磁铁3完全位于基座I与检测端5的接触面之下，以避免与检测端5发生抵触，令检测端5在上升前和回落后都能处于原来的原始位置，从而更好的与传感器配合工作。当然，在保证传感器能够正常感测到检测端5的前提下，磁铁3也可直接设置在基座I的顶面(即基座I与检测端5的接触面)上，当检测端5回落后不再与基座I的顶面接触而是与磁铁3的顶面接触，但此种设置方式由于检测端5无法彻底回落至基座I与检测端5的接触面，所以有可以会降低传感器的感测效果，而要想保证感测效果不至于降低，则需要就需要改动传感器的设置位置，而这又增大了改动难度，不利于技术方案的实现，所以本实施例优选将磁铁3设置在基座I的安装槽4内。
[0021]优选的，本实施例提供的湿法处理设备，将磁铁3设置为环形磁铁3，安装槽4为环形安装槽4，如图2所示。此种结构、形状的选择，为一种优选实施方案。
[0022]当然，除上述将磁铁3和安装槽4设置成环形的方式以外，磁铁3也可以设置为矩形块状磁铁3，安装槽4对应的设置为矩形安装槽4(此种设置方式图中未示出)。除此之外，在保证正常工作的前提下，磁铁3的形状和安装槽4的结构也可以为其他的类型，本实施例对此不做限定。
[0023]本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
[0024]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【主权项】
1.一种湿法处理设备，包括基座和转动设置在所述基座上的转动臂，其特征在于，还包括设置在所述基座上，且位置与所述转动臂对正，以用于吸附所述转动臂的磁铁。2.根据权利要求1所述的湿法处理设备，其特征在于，所述基座上开设有安装槽，所述磁铁设置在所述安装槽内。3.根据权利要求2所述的湿法处理设备，其特征在于，所述磁铁为环形磁铁，所述安装槽为环形安装槽。4.根据权利要求2所述的湿法处理设备，其特征在于，所述磁铁为矩形块状磁铁，所述安装槽为矩形安装槽。
【专利摘要】本实用新型提供了一种湿法处理设备，包括基座和转动设置在所述基座上的转动臂，还包括设置在所述基座上，且设置位置与所述转动臂对正，以用于吸附所述转动臂的磁铁。工作时，在基板与承载端开始接触直至最终脱离的过程中，无论检测端位于其原始位置(与基座接触的位置)，还是在升起的过程中，磁铁都会对检测端起到吸附作用，当基板与承载端脱离接触后，升起的检测端会在磁力及自身重力的作用下回落至原始位置，从而避免转动臂的检测端不回落的现象发生，进而使传感器能够精确感测到基板的位置，以保证有机发光显示器的正常生产。
【IPC分类】H01L51/56
【公开号】CN205194747
【申请号】CN201521080363
【发明人】吴蕴泽
【申请人】昆山国显光电有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年12月22日