一种储轴装置的制作方法

文档序号:11958439阅读:172来源:国知局

本发明涉及电机转子装配领域,具体来说是一种储轴装置。



背景技术:

串激电机转子由轴、铁芯、上挡板、下挡板、方向器等部件组成,工厂在组装过程中,对轴的储存和出料是靠人手完成的,节拍慢,生产效率低,生产成本高。



技术实现要素:

为了克服现有技术的不足,本发明提供一种储轴装置,免人手进行轴的储存和出料,节拍快,生产效率高,生产成本低。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案:

一种储轴装置,包括有安装在机板上的支脚、顶轴机构和上轴辅助机构、安装在支脚上的储轴箱,所述的储轴箱对轴呈水平方向存储,所述的顶轴机构将放置在储轴箱上的轴逐一水平顶起,所述上轴辅助机构将轴翻转90°至竖直状态,所述顶轴机构包括有第一驱动器,固定在第一驱动器上的顶轴器,所述顶轴器上部设有顶起部,所述的顶起部设有第一V型槽,所述储轴箱底部设有斜面,所述斜面的最下端设有让顶轴器顶出的顶出口,所述的顶出口宽度大于或等于轴的直径,所述储轴箱底部设有两个向顶出口交汇的斜面,所述顶出口的下端设有与顶轴器相配合顶出的套口,所述套口截面呈矩形框型。

进一步地,所述的上轴辅助机构包括有轴翻转器和轴翻转限位器,所述的轴翻转器将搁置在顶起部上的轴进行取件并翻转90°,使轴呈竖直状态,所述轴翻转限位器对轴翻转器的翻转进行限位。

更进一步地,所述轴翻转器设有翻轴手,所述轴翻转器通过翻轴手对轴进行取件,所述顶轴器上部还设有与翻轴手适配的凹口,并在凹口两侧形成有对称的顶起部。

更进一步地,所述轴翻转限位器设有与翻轴手适配的限位块,所述限位块上设有用以探测顶轴器上是否存放有轴的水平轴传感器。

更进一步地,所述轴翻转限位器上端还设有用以探测翻轴手翻转为竖直状态时翻轴手上是否放置有轴的竖直轴传感器。

更进一步地,所述限位块为金属板件并折弯呈梯形。

本发明的有益效果是:储轴箱对轴呈水平方向存储,轴从顶出口两侧斜面滚落到顶出口,第一驱动器驱动顶轴器将轴逐一水平顶起,上轴辅助机构将轴翻转90°至竖直状态,第一V型槽的设置使轴在被顶起的过程中,稳定放置在第一V型槽上,套口的设置使顶轴器顶起的动作更为平稳,免人手进行轴的储存和出料,节拍快,生产效率高,生产成本低。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

参照图1,一种储轴装置,包括有安装在机板3上的支脚21、顶轴机构和上轴辅助机构、安装在支脚21上的储轴箱22,储轴箱22对轴11呈水平方向存储,顶轴机构将放置在储轴箱22上的轴11逐一水平顶起,上轴辅助机构将轴11翻转90°至竖直状态,免人手进行轴的储存和出料,节拍快,生产效率高,生产成本低。

顶轴机构包括有第一驱动器23,固定在第一驱动器23上的顶轴器24,顶轴器24上部设有顶起部25,顶起部25设有第一V型槽26,储轴箱22底部设有斜面28,斜面28的最下端设有让顶轴器24顶出的顶出口29,顶出口29宽度大于或等于轴11的直径,轴11沿斜面28滑至顶出口29,第一驱动器23驱动顶轴器24将轴11顶起,第一V型槽26的设置使轴11在被顶起的过程中,稳定放置在第一V型槽26上。

储轴箱22底部设有两个向顶出口29交汇的斜面28,轴11从顶出口29两侧斜面28滚落到顶出口29。

顶出口29的下端设有与顶轴器24相配合顶出的套口215,套口215截面呈矩形框型,套口215的设置使顶轴器24顶起的动作更为平稳,轴11从顶出口49落入套口215,套口215中的顶轴器44将轴11顶起。

上轴辅助机构包括有轴翻转器210和轴翻转限位器211,轴翻转器210将搁置在顶起部25上的轴11进行取件并翻转90°,使轴11呈竖直状态,轴翻转限位器211对轴翻转器210的翻转进行限位,限制轴翻转器210的翻转角度和幅度。

轴翻转器210设有翻轴手216,轴翻转器210 通过翻轴手216对轴11进行取件,顶轴器24上部还设有与翻轴手216适配的凹口27,并在凹口27两侧形成有对称的顶起部25,当轴11被顶起并搁置在顶起部25,翻轴手216翻转接触到轴11,翻轴手216对轴11有一定的冲击,凹口27的设置可以缓冲翻轴手216对轴11的冲击,防止轴11因冲击变形或掉落。

轴翻转限位器211设有与翻轴手216适配的限位块212,限位块212上设有用以探测顶轴器24上是否存放有轴11的水平轴传感器213,防止顶轴器24放空。

轴翻转限位器211上端还设有用以探测翻轴手216翻转为竖直状态时翻轴手216上是否放置有轴11的竖直轴传感器214,确保翻轴手216完成取件及将轴11翻转。

限位块212为金属板件并折弯呈梯形,结构简单实用,成本低,同时便于安装水平轴传感器213。

以上所述,只是本发明的较佳实施方式而已,但本发明并不限于上述实施例,只要其以任何相同或相似手段达到本发明的技术效果,都应落入本发明的保护范围之内。

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