专利名称：半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶衬底表 面的静电去除装置，该装置用于去除在半导体及液晶生产过程中附着 在半导体及液晶衬底表面的静电。
背景技术：
以前，在半导体及液晶生产过程中，由于半导体及液晶的衬底加 工、操作过程会使该衬底表面带有静电，因此经常发生由该静电造成 的半导体及液晶电路产生静电损坏的问题。
为解决上述问题，在半导体及液晶生产装置上设置了为了去除衬
底表面静电的离子发生器(ionizer)。该离子发生器包括，使用高电 压电离空气的电气离子发生器(electric ionizer)，以及向空气辐射软 X射线进而将空气离子化的软X射线离子发生器。
所述电气离子发生器虽然操作简单，但也存在很多问题。例如由 于长时间高压放电不但会因损耗电极而必须更换电极，而且产生的粉 尘也会附着在衬底上。甚至还存在产生高频噪音从而严重影响到其它 器件的问题。
此外，由于软X射线对人体有影响，故必须有阻止软X射线离子 发生器发出的软X射线向外部泄漏的结构。但是，在下述的专利文献 1公开的带电物体的中和方法中，没有考虑向外部泄漏的问题，并且 存在过滤器被暴露在软X射线中而发生老化的问题。
3专利文献日本专利申请第2749202号公报
发明内容
为解决上述问题，本发明提供了一种在半导体及液晶生产过程中 的半导体及液晶的衬底表面静电去除装置。该装置使用软X射线离子
发生器，但阻止软X射线向外部泄漏，同时还可以避免圆筒过滤器暴 露于软X射线中而发生老化。
本发明通过采用以下方法解决了上述问题。即在引导容器内，设 置有圆筒过滤器的净化空气生成部、设置有辐射通路的软X射线辐射 部以及离子化净化空气喷出部沿送风方向依次配置，同时，上述净化 空气生成部使用防护部件来阻止其被暴露于软X射线中。并且净化空 气喷出部设置了只喷出被离子化了的净化空气并阻止软X射线向引导 容器外部泄漏的喷出装置。
由于本发明具有上述结构，从圆筒过滤器喷出的净化空气在下游 的辐射通路中被软X射线离子化，该离子化了的净化空气自喷出部沿 纵向方向再以均匀风量喷出到衬底上，中和、去除该衬底表面的静 电，因此在半导体衬底以及液晶衬底的加工、操作过程中，上述村底 的电路不会发生静电损坏现象，因而可以提高产品质量。
此外，由于上述喷出部只喷出离子化了的净化空气，软X射线不 会泄漏到引导容器外部，因此是安全的。
并且，圆筒过滤器还设置了阻止被软X射线直接辐射的防护部 件，因此可以避免该圓筒过滤器老化的问题。
图1是表示本发明所涉及的半导体及液晶生产过程中的半导体及 液晶衬底表面静电去除装置的纵向截面侧视图。图2是静电去除装置的纵向截面前视图。
图3是表示本发明所涉及的半导体及液晶生产过程中的半导体及 液晶衬底表面静电去除装置之整体立体图。
图4是表示在本发明所涉及的半导体及液晶生产过程中，省略了 引导容器的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置之组件分解立体 图。
图5是表示在本发明所涉及的半导体及液晶生产过程中，半导体 及液晶衬底表面的静电去除装置中离子化净化空气喷出部之组件分解 立体图。
图6是表示在本发明所涉及的半导体及液晶生产过程中，半导体 及液晶衬底表面的静电去除装置中构成离子化空气喷出部的狭缝形成 板之平面图。
图7是表示在本发明所涉及的半导体及液晶生产过程中，半导体 及液晶衬底表面静电去除装置的使用状态主要部分之立体图。
具体实施例方式
本发明实现了 一种安全的半导体及液晶衬底表面的静电去除装 置。该装置在引导容器内沿送风方向依次配置了具有圓筒过滤器的净 化空气生成部、软X射线辐射部以及离子化净化空气喷出部，同时， 上述净化空气生成部使用防护部件来阻止其被暴露于软X射线中，此 外净化空气喷出部通过只喷出被离子化了的净化空气以及阻止软X射 线向引导容器外部泄漏，从而防止了圆筒过滤器老化，并防止了软X 射线对人体产生影响。
实施例
参照附图对本发明的实施例进行详细的说明。图1是表示本发明 实施例1所涉及的半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶衬底表面 的静电去除装置的纵截面侧视图。图2是纵截面前视图。为了从静电去除装置高效喷出经软x射线辐射而离子化了的净化空气，净化空气 必须在离子再结合之前(再结合时间15mm/sec至30mm/sec)喷出
到静电去除装置外。鉴于上述观点，如图1及图2所示，本发明所涉 及的半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶的衬底表面的静电去除
装置具有下述结构。即，通过在引导容器4内沿送风方向依次配置净 化空气生成部1、软X射线辐射部2以及离子化净化空气喷出部3， 使上述软X射线辐射部2与离子化净化空气喷出部3尽量靠近，从而 可以使离子化了的净化空气在短时间内喷出到上述引导容器4外而不 会发生软X射线的泄漏。
上述净化空气生成部1由圆筒过滤器5形成，并且该圓筒过滤器 5是将过滤介质(filter media) 6压制成型为圓筒并形成具有中空部的 通气空间7的结构，同时还是在其一侧端部上固定有穿设了空气供给 口 8的空气供给环(ring) 9,而在其另 一侧上紧贴固定有密封栓10 的结构。所述圆筒过滤器5没有必要特殊限定，优选的是本专利申请 人的专利申请2003-23768文件中所制造的圆筒过滤器。
上述引导容器4在图1中由圆筒的长筒体11形成，但长筒体并非 仅限于圆筒状，也可以是多角形体。也就是说，引导容器4由分别固 定设置于长筒体11两侧端部的侧壁板12、 13形成，并且该导航器4 内存在向外周面部排放经所述圓筒过滤器5过滤后的净化空气14的排 气空间15,圓筒过滤器5的两端部被分别固定于上述侧壁板12、 13。
在上述一侧的侧壁板12上开口形成了与上述圓筒过滤器5的空气 供给环9相连通的空气导入口 16,该空气导入口 16还与压缩空气供 给管17的前端部相连接，该压缩空气供给管17内的压缩空气是由送 风机(图未示)提供。此外，在上述引导容器4内的圓筒过滤器5的 下游，沿送风方向依次配置了由软X射线离子发生器18辐射出软X射线19的辐射通路20,以及位于该引导容器4内下游端部的离子化 净化空气喷出部3。上述软X射线离子发生器18构成上述软X射线 辐射部2。
此外，上述侧板壁12的一侧面向由上述结构构成的引导容器4的 辐射通路20。在上述侧板壁12的一侧，贯通固定了软X射线离子发 生器18，从而形成上述软X射线辐射部2。图中21是将来自电源22 的电力供给上述软X射线离子发生器18的电缆。
为了包裹围绕上述圆筒过滤器5，在上述引导容器4内的圆筒过 滤器5的通气空间7和排出过滤的净化空气14的排气空间15之间配 置了防护部件23。该防护部件23是用于阻止来自软X射线离子发生 器18的软X射线19直接辐射到上述圆筒过滤器5的结构。
即，上述防护部件23上配i殳有内侧罩(inner cover) 24和外侧罩 (outer cover) 25，在内侧罩24和外侧罩25之间具有间隔部26,同 时在该内侧罩24和外侧罩25上开口形成多个分别沿送风方向相互不 连通的锯齿(zigzag)状长方形通气狭缝27、 28，该通气狭缝27、 28 是来自上述圆筒过滤器5的净化空气14的通路。该结构可阻止上述软 X射线19的直接辐射，同时迫使该净化空气14迂回流动，从而形成 紊流。此外，虽然上述内侧罩24和外侧罩25在实施例中是圓筒的， 但也可以是多角形体。
接着，由上述结构构成的防护部件23在内側罩24和圓筒过滤器 5之间具有间隔部29,同时将上述防护部件23的两端部安装固定在上 述引导容器4的两侧壁板12、 13上。
在上述引导容器4的下游侧面30的纵向方向两侧分别突出设置了 向两旁扩展的导航片31，同时在该下游侧面30上穿设了具有规定间 隔的多个贯通孔32，从而形成了引导板33。引导板33载置于引导容器4内的下游侧面30上，该引导容器4上穿设有与上述各贯通孔32 相连通的连通孔34。固定于上述离子化净化空气喷出部3上的喷出装 置36,分别贯通上述各贯通孔32和连通孔34并喷出由上述软X线 19离子化净化空气35。
即，来自上述圆筒过滤器5的净化空气14在辐射通路20内被软 X射线19辐射而离子化，形成了离子化净化空气35。喷出装置36只 喷出该离子化净化空气35到半导体及液晶衬底B上，并阻止软X射 线19向上述引导容器4外泄漏。
上述喷出装置36由喷出引导板37以及安装固定于该引导板37上 的狭缝形成板38组成。上述喷出引导板37具有以下结构，在两侧端 边缘垂直设置了折曲片39的长方形衬底40的中央，突出设置了具有 向上游侧方向开口的石宛状凹部41的引导管42，同时在该凹部41的下 游侧中央穿设了使离子化净化空气35流通的通气孔43，此外，为了 横断上述凹部41的中央，在上述引导管42的凹部41的内周壁面上， 固定了与上述基板40的纵向方向相平行的防护杆(rod) 45 ,该防护 杆45位于能够阻断软X射线19从上述通气孔43向外部泄漏的位 置，并在与上述通气孔43之间具有间隔44。上述结构使软X射线19 不能直接辐射通气孔43,从而阻止了软X射线19向引导容器4外泄
漏o
此外，构成上述喷出装置36的狭缝形成板38是由两片狭缝构成 片46、 47构成的，该狭缝构成片46、 47可形成沿中央纵向方向喷出 上述离子化净化空气35的喷出狭缝50。即，狭缝形成板38可形成相 对的钩状切口区(cut region)48、 49,该切口区48、 49分别设置在具有 可插入上述喷出引导板37的各折曲片39之间的两片狭缝构成片46、 47各自内侧方，同时，当把上述两片狭缝构成片46、 47对接在一起时，由上述各切口区48、 49形成在中央径向方向为长方形的狭缝 50,离子化净化空气35通过该狭缝50喷出。
接着，将构成上述狭缝形成板38的各狭缝构成片46、 47插入上 述喷出引导板37的各折曲片39之间从而使上述嵌合部48、 49对接在 一起，同时将上述引导管42分别插入上述长筒体11的连通孔34以及 引导板33的贯通孔32中，用螺钉51将喷出装置36 —体连接固定于 长筒体11。此外，图中52是表示向圆筒过滤器5内输送压缩空气53 的压力的压力计。
中，半导体衬底以及液晶衬底表面静电去除装置的作用进行说明。当 构成净化空气生成部1的圆筒过滤器5的通气空间7内导入来自压缩 空气供给管17的压缩空气53时，由于上述圆筒过滤器5的另一侧端 部被密封栓10闭塞，因此该压缩空气53在通气空间7内形成紊流， 经过滤介质(filter media) 6过滤后，从上述圓筒过滤器5整个区域沿 纵向方向喷出形成了均匀风量的净化空气14。首先会在设置于排气空 间15内的防护部件23的内侧罩24和上述圆筒过滤器5之间的间隔部 29内喷出。
接着，上述间隔部29内沿纵向方向以均匀风量喷出的净化空气 14,从上述内侧罩24的通气狭缝27向该内侧罩24与外侧罩25之间 的间隔部26喷出，再从该外侧罩25的通气狭缝28向防护部件23外 的排气空间15喷出，然后流入构成下游侧软X射线辐射部2的辐射 通路20内。
由于设置了上述防护部件23，从圓筒过滤器5整个区域喷出的净 化空气14,在构成防护部件23的内外侧罩24、 25内形成紊流，再以 均勻的流速流入到上述辐射通路20内。另一方面，当插入电源22使软X射线离子发生器18通电时，该 软X射线离子发生器18就会向上述辐射通路20内辐射软X射线 19。接着，在上述辐射通3各20内沿上述纵向方向以均匀风量流入的净 化空气14被上述软X射线19离子化54 (正离子、负离子)。在上述软X射线19的辐射通路20中，来自上述圆筒过滤器5的 净化空气14由于该软X射线的辐射而被离子化，形成了沿纵向方向 风量均匀的离子化净化空气35,之后向构成离子化净化空气喷出部3 下游侧的喷出装置36方向输送该离子化净化空气35。
沿纵向方向以均匀风量向上述下游侧的上述各喷出装置36输送的 离子化净化空气35,通过各引导板33的各导航片31被引流至下游侧 面30的中央方向，然后沿构成各喷出装置36的碗状凹部41的内周壁 面流下，通过由上述圆筒过滤器5以均匀风量沿径向方向喷出净化空 气35的方式，使该净化空气35经通气孔43从狭缝50沿离子化净化 空气喷出部3的径向方向以均匀风量喷出到衬底B上，vt人而中和、去 除了该衬底B表面的静电。
为了将上述离子化净化空气35从各喷出狭缝沿纵向方向以均匀风 量喷出，设定上述喷出狭缝50的开口宽度从而使圆筒过滤器5内的压 力高于引导容器4内的压力。
如上所述，防护部件23在其内侧罩24和外侧罩25上分别沿直径 方向开口形成了多个相互不连通的锯齿状通气狭缝27、 28。由于采用 了包绕圆筒过滤器5的结构，因而使上述圆筒过滤器5的过滤介质 (filter media) 6不会受到软X射线辐射，从而使过滤介质(filter media) 6不会老化。
此外，在上述辐射通路20和各喷出狭缝50之间，配设了碗状凹 部41和4黄断该凹部41的防护杆45。该防护杆45位于该石宛状凹部41的内周壁面，并与通气孔43之间具有间隔44。并且，由于软X射线 19的辐射方向与离子化净化空气35的排气方向在角度上相差90度， 因此，上述结构不但可以阻止软X射线19的直接辐射，而且由于上 述凹部41为碗状，即使软X射线19辐射到凹部41的内周壁面上， 二次软X射线也会向上游侧方向以及横向方向放射，而不会放射到离 子喷出方向部。此外，防护杆45还进一步阻止了软X射线19直接进 入通气筒孔43,从而使对人体有害的软X射线19不能泄露在引导容 器外。另外，由于上述防护杆45的截面为圆形，减小了离子化净化空 气35从喷出狭缝50喷出时的流体阻力，因此风量均匀的离子化净化 空气35就可以从各喷出狭缝50沿纵向方向喷出到衬底B上。
权利要求
1.一种在半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置，其特征在于在引导容器内沿送风方向依次配置有，设置了圆筒过滤器的净化空气生成部、设置了辐射通路的软X射线辐射部以及离子化净化空气喷出部，同时，所述净化空气生成部使用防护部件来阻止其被暴露于软X射线中，并且所述净化空气喷出部设置了沿纵向方向以均匀风量只喷出离子化了的净化空气进而阻止软X射线向引导容器外部泄漏的喷出装置。
全文摘要
本发明涉及一种半导体及液晶生产制造过程中的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置，该装置可使圆筒过滤器不被暴露于软X射线中，也可防止软X射线泄漏到引导容器外。该静电去除装置包括设置了圆筒过滤器(5)的净化空气生成部(1)、软X射线辐射部(2)以及离子化净化空气喷出部(3)，所述各部在引导容器(4)内沿送风方向依次配置，同时，所述净化空气生成部(1)使用防护部件(23)来阻止其被暴露于软X射线(19)中，此外所述净化空气喷出部(3)设置了沿纵向方向以均匀风量只喷出离子化净化空气(35)并阻止软X射线(19)向引导容器(4)外部泄漏的结构。
文档编号H05F3/06GK101297609SQ200580051890
公开日2008年10月29日 申请日期2005年10月21日 优先权日2005年10月21日
发明者冈田诚, 木崎原稔郎, 本田康, 饭田尚司 申请人:近藤工业株式会社;剑桥滤片株式会社