容量：100克烫 发剂。
[0029] 表格二，
[0031] 表格二结果，纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂时无需添加碱性物质。
[0032] 实施例2 :
[0033] 表格一中所列物质作为烫发剂一剂中的还原剂，使用同等浓度，在如下条件下检 测它们的烫发效果，列表于表格三中。（D :表不弱，C :表不一般，B :表不良好，A :表不优秀）
[0034] 测试条件：毛发：健康发，还原剂浓度：0. 5当量，PH值：9. 5，碱性物质：单乙醇 胺，卷发后放置时间：30分钟，无需加热，氧化剂：过氧化氢；
[0035] 表格三，本发明以纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂的烫发剂的卷发效果达 到优秀级别。
[0036]
[0037] 烫发剂中还原剂浓度相同时烫发效果的测定；
[0038] 实例三：以纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂的烫发剂剂对头发的损伤程度 测验；
[0039] 在如下条件下，检测本发明以纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂的烫发剂对 头发的损伤程度列表于表格四中，为了比较受损程度，比较对象选择了半胱胺盐酸盐。
[0040] 测试条件：头发：健康发，还原剂浓度：〇. 5当量，PH值：9. 5,碱性物质：单乙醇胺， 卷发后放置时间：30分钟，无需加热，氧化剂：过氧化氢；
[0041] 表格四
[0043] 实施例4 :
[0044] 以纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂的烫发剂烫发后残留后味的测试；
[0045] 如下条件下，检测本发明以纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂的烫发剂一剂 烫发后残留后味程度列表于表格五中，为了比较残留的后味，比较对象选择了半胱胺盐酸 盐。
[0046] 测试条件：头发：健康发，还原剂浓度：0. 5当量，PH值：9. 5,碱性物质：单乙醇胺， 卷发后放置时间：30分钟，无需加热，氧化剂：过氧化氢；
[0047] 表格五
[0049] 如上表格五所列，本发明以纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还原剂的烫发剂 (perm) -剂与使用半胱胺盐酸盐为还原剂的烫发剂相比，烫发后残留的气味减少很多。
[0050] 有以上实施例得出，本发明提供的包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂：
[0051 ] 1.因使用了纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)，无需添加任何碱性物质PH值就能达到 8. 5~10,使表皮层膨胀和软化。
[0052] 2.去掉盐的纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)分子量更小，更容易渗透与吸收，从而减 少烫发时间。
[0053] 3. 3.不添加碱性物质，大大减少了产生的副产物，不仅减少了头发受损，还很大程 度的降低了烫发后残留的难闻的气味。因此本发明包含纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)为还 原剂的烫发剂（perm) -剂将是烫发领域的一次飞跃及变革。
[0054] 对于本领域技术人员而言，然而本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在 不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本发明。因此，无论 从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权 利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有 变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何标记视为限制所涉及的权利要求。
[0055] 以上所述，仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡是依据本发明的技 术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同替换和改进，均应包含在本发明技术方案 的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其制作原料包括纯半胱胺 (HS-CH2-CH2-NH2)、表面活性剂、毛发保护剂、稳定剂、保湿剂、金属络合剂和纯净水；其特 征是：制作原料各组份占重量比为：纯半胱胺〇. 1-100% ;表面活性剂1. 〇~5% ;毛发保护 剂0. 05至1% ;稳定剂0. 1~3% ;保湿剂3~15% ;金属络合剂0. 1~3% ;纯净水适量； 烫发剂PH值为8. 5~10。2. 根据权利要求1所述的一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其特征是：所 述纯半胱胺（HS-CH2-CH2-NH2)分子量为77. 15,PH值为9. 5-10。3. 根据权利要求1所述的一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其特征是：所 述表面活性剂为聚山梨酸酯，十二烷基醚硫酸钠，硬脂醇聚醚或鲸蜡硬脂醇。4. 根据权利要求1所述的一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其特征是：所 述稳定剂为卡波姆类，柠檬酸及其盐类，磷酸及其盐类或纤维素类。5. 根据权利要求1所述的一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其特征是：所 述保湿剂可以使用甘油，丙二醇，丁二醇或尿素。6. 根据权利要求1所述的一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其特征是：所 述金属络合剂为羟基乙叉二膦酸，羟乙膦酸钠，EDTA-2钠或EDTA-4钠。
【专利摘要】本发明公开了一种包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，其制作原料包括纯半胱胺、表面活性剂、毛发保护剂、稳定剂、保湿剂、金属络合剂和纯净水；制作原料各组份占重量比为：纯半胱胺0.1-100％；表面活性剂1.0～5％；毛发保护剂0.05至1％；稳定剂0.1～3％；保湿剂3～15％；金属络合剂0.1～3％；纯净水适量；烫发剂PH值为8.5～10。该包含纯半胱胺为还原剂的烫发剂组合物，因使用了纯半胱胺，无需添加任何碱性物质PH值就能达到8.5～10，使表皮层膨胀和软化；去掉盐的纯半胱胺(HS-CH2-CH2-NH2)分子量更小，更容易渗透与吸收，从而减少烫发时间；不添加碱性物质，大大减少了产生的副产物，不仅减少了头发受损，还很大程度的降低了烫发后残留的难闻的气味。
【IPC分类】A61K8/46, A61Q5/04
【公开号】CN105326652
【申请号】CN201510685230
【发明人】李娜
【申请人】李娜
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2015年10月22日