专利名称：晶片清洁装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体专用设备晶片清洁装置技术领域
背景技术：
半导体专用设备在进行晶片加工的过程中，需要用毛刷与晶片接触进行清洁，以 去除杂质。常见的清洁装置由电机通过滚珠丝杠带动毛刷上下移动，这样存在一些问题，如 结构复杂、密封性不好、柔性差等，从而影响了加工质量和效率的提高。
发明内容
本发明的目的是提供一种晶片清洁装置，不仅可使毛刷与晶片柔性接触，有效防 止损伤晶片，可大大提高清洁质量和效率，可靠性和稳定性较高，而且具有结构简单紧凑、 使用方便、寿命长的特点。本发明是这样实现的一种晶片清洁装置，包括驱动电机，其特征在于驱动电机通 过安装座安装在缸体装置的活塞杆上，驱动电机的轴线和活塞杆运动方向平行，电机轴和 转轴连接，转轴的端部通过弹性支架与毛刷连接。为使弹性更好，所述的弹性支架的较好结构及连接关系为下圆片通过防松螺帽 固定在转轴的端部，弹性支板的上端与下圆片固定联接，下端与毛刷联接。为使转动更稳定精确，结构更合理，所述的转轴最上端可通过联轴器与驱动电机 固定在安装座上端的孔内，转轴为阶梯轴，通过两个角接触球轴承安装在在轴承套中，轴 承压盖和螺钉压紧轴承外圈并与轴承套固定连接，轴承螺帽通过转轴上的螺纹压紧轴承内 圈。所述的两个角接触球轴承之间安装有内外圈轴套，角接触球轴承与轴承螺帽之间 安装有内圈轴套，较好。为使润滑更好，转动精度高，所述的转轴与轴承套之间，轴承压盖与轴承螺帽之间 均设有径向迷宫密封。所述的缸体装置可为气缸或油缸装置。本发明的积极效果是能有效解决现有技术中存在的问题，达到了发明目的；由 气缸实现直线运动，使毛刷与晶片接触时，弹性支板和下圆片也产生变形，可进一步缓冲毛 刷与晶片之间的作用力；不仅可使毛刷与晶片柔性接触，有效防止损伤晶片，可大大提高清 洁质量和效率，可靠性和稳定性较高，而且具有结构简单紧凑、使用方便、寿命长的特点。尤 其适用于半导体专用设备上。
图1是本发明装置的结构示意图。图中1-驱动电机、2-安装座、3-联轴器、4-转轴、5-挡板、6-角接触球轴承、7-轴 承套、8-轴承压盖、9-轴承螺帽、10-下圆片、11-防松螺帽、12-弹性支板、13-毛刷、14-缸体装置(气缸或油缸)。
具体实施例方式以下结合附图和较佳实施例对本发明进一步说明，但不作为对本发明的限定。参见图1，该晶片清洁装置，驱动电机1通过安装座2安装在缸体装置14的活塞杆 上，驱动电机1的轴线和活塞杆的运动方向相平行，电机轴和转轴4连接，转轴4的端部和 毛刷13连接。转轴4的端部通过弹性支架和毛刷13连接。弹性支架的结构及连接关系为 下圆片10通过防松螺帽11固定在转轴4的端部，弹性支板12的上端与下圆片10固定联 接，下端与毛刷13联接。转轴4最上端通过联轴器3与驱动电机1固定在安装座2上端的 孔内，转轴4为阶梯轴，通过两个角接触球轴承6安装在在轴承套7中，轴承压盖8和螺钉 压紧轴承外圈并与轴承套7固定连接，轴承螺帽9通过转轴4上的螺纹压紧轴承内圈。两 个角接触球轴承6之间安装有内外圈轴套，角接触球轴承6与轴承螺帽9之间安装有内圈 轴套。转轴4与轴承套7之间，轴承压盖8与轴承螺帽9之间均设有径向迷宫密封。安装 座2与气缸联接，由其带动上下移动，挡板5固定在安装座2的外侧。工作时，由气缸带动安装底座上下运动，使毛刷接触晶片。驱动电机1通过联轴器 3带动毛刷9旋转运动，毛刷的转速和转向可通过调节电机参数实现。气缸输入气压可通 过减压阀控制，以控制毛刷与晶片的接触程度，达到不同的清洁效果。下圆片10和弹性支 板12在毛刷与晶片接触时产生变形，以缓冲其相互作用力。由气缸实现直线运动，简化结 构。毛刷与晶片柔性接触，防止损伤晶片；提高清洁质量；具有结构紧凑，安装简单、密封性 好、寿命长的特点。
权利要求
一种晶片清洁装置，包括驱动电机(1)，其特征在于驱动电机(1)通过安装座(2)安装在缸体装置(14)的活塞杆上，驱动电机(1)的轴线和活塞杆的运动方向相平行，电机轴和转轴(4)连接，转轴(4)的端部通过弹性支架与毛刷(13)连接。
2.根据权利要求1所述的晶片清洁装置，其特征在于所述的弹性支架的结构及连接关 系为下圆片(10)通过防松螺帽(11)固定在转轴⑷的端部，弹性支板(12)的上端与下 圆片(10)固定联接，下端与毛刷(13)联接。
3.根据权利要求1所述的晶片清洁装置，其特征在于所述的缸体装置(14)为气缸装置
4.根据权利要求1、2或3所述的晶片清洁装置，其特征在于所述的转轴(4)最上端通 过联轴器(3)与驱动电机(1)固定在安装座(2)上端的圆孔内，转轴(4)为阶梯轴，通过两 个角接触球轴承(6)安装在在轴承套(7)中，轴承压盖(8)和螺钉压紧轴承外圈并与轴承 套(7)固定连接，轴承螺帽(9)通过转轴(4)上的螺纹压紧轴承内圈。
5.根据权利要求4所述的晶片清洁装置，其特征在于所述的两个角接触球轴承(6)之 间安装有内外圈轴套，角接触球轴承(6)与轴承螺帽(9)之间安装有内圈轴套
6.根据权利要求4所述的晶片清洁装置，其特征在于所述的转轴(4)与轴承套(7)之 间，轴承压盖⑶与轴承螺帽(9)之间均设有径向迷宫密封。
全文摘要
本发明提供一种晶片清洁装置，涉及半导体专用设备晶片清洁装置技术领域。驱动电机通过安装座安装在缸体装置的活塞杆上，驱动电机的轴线和活塞杆运动方向平行，电机轴和转轴连接，转轴的端部通过弹性支架与毛刷连接。本发明能有效解决现有技术中存在的问题，不仅可使毛刷与晶片柔性接触，有效防止损伤晶片，可大大提高清洁质量和效率，可靠性和稳定性较高，而且具有结构简单紧凑、使用方便、寿命长的特点。尤其适用于半导体专用设备上。
文档编号B08B1/04GK101884981SQ201010195939
公开日2010年11月17日 申请日期2010年6月10日 优先权日2010年6月10日
发明者王仲康, 衣忠波, 袁立伟 申请人:中国电子科技集团公司第四十五研究所