专利名称：一种玻璃减薄设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及显示器制造技术领域，尤其涉及一种玻璃减薄设备。
背景技术：
随着科技的发展，显不器中的玻璃包括碱石灰玻璃和无碱玻璃。碱石灰玻璃是通过将碱金属离子按需要加到二氧化硅(SiO2)中形成的。碱石灰玻璃物性温度转变点低，但不贵，因而用于采用低温工艺的超扭转向列液晶显示器(STN-LCD)或无源矩阵型有机发光二级管(PM 0LED)中。无碱玻璃物性温度转变点高，其在高温下几乎不发生改变，因而适宜用于形成薄膜晶体管(TFT)阵列的高温工艺中，并因而用于薄膜晶体管液晶显示器(TFT-IXD)或有源矩阵型有机发光二级管(AM 0LED)中。近年来，为了满足显示设备工业的发展需要和用户对轻、薄产品的需求，现有技术中采用浸溃技术、喷雾技术和浸溃喷雾技术通过蚀刻实现对显示面板的玻璃基材进行减薄处理。如图I所示，为现有的玻璃减薄设备的结构示意图，图中包括玻璃减薄设备1，玻璃减薄设备I上设有多个喷头11，喷头11从玻璃基材2上方喷出刻蚀溶液，通过湿法刻蚀玻璃基材2使之减薄。其中蚀刻溶液沿着玻璃基材2的表面从上部竖直向下流到下部以减薄玻璃基材2，由此防止了外部压力对玻璃基材2的损害，并且在没有颗粒产生的情况下将玻璃基材2减薄到所希望的厚度。由于工艺制成以及产品运输过程中，经常会导致玻璃表面轻微划伤，划伤之处当经过减薄设备的湿法刻蚀处理后，将进一步导致凹点等不良缺陷的产生或加重，从而使得显示面板的不良更加严重。
实用新型内容针对现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供一种玻璃减薄设备，提高了工件的减薄良率，并且操作简单，节约了不良工件的浪费，并降低了制作成本。为了解决上述问题，本实用新型实施例提供一种玻璃减薄设备，包括用于喷射刻蚀溶液到待减薄的玻璃基材上的喷射装置，还包括检测装置，用于获取所述玻璃基材上的缺陷区域所在的位置信息；开关装置，包括若干个按矩阵式排列在同一平面上的阀门，且所述开关装置与所述玻璃基材平行设置；喷射器，用于通过阀门，向附着有刻蚀溶液的玻璃基材上的所述缺陷区域进行喷射；处理器，与所述检测装置、开关装置及喷射器相连接，用于根据所述检测装置获取的所述缺陷区域的位置信息，向所述开关装置发送控制信号，开启与所述缺陷区域的位置对应的阀门，并控制所述喷射器通过开启的阀门向所述缺陷区域进行喷射，减少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液。[0012]优选的，所述阀门所在矩阵平面的面积不小于所述玻璃基材的面积。优选的，所述检测装置具体为激光扫描定位器；所述激光扫描定位器，用于检测所述玻璃基材上缺陷区域的位置坐标信息，并将所述位置坐标信息发送给所述处理器。优选的，所述检测装置的数量为两个，分别设于所述玻璃基材的两侧，用于对所述玻璃基材的两侧表面分别进行检测。优选的，所述开关装置具体为阀门矩阵开关或激光矩阵开关。优选的，所述激光矩阵开关采用冷激光源，用于降低所述缺陷区域的刻蚀溶液的刻蚀速率。优选的，所述开关装置的数量为两个，分别位于所述玻璃基材的两侧。优选的，所述喷射器具体为高压气枪或高压水枪。本实用新型提供的实施例与现有技术相比具有以下优点本实用新型实施例提供的玻璃减薄设备，包括用于喷射刻蚀溶液到待减薄的玻璃基材上的喷射装置，还包括检测装置、开关装置、喷射器及处理器，通过检测装置获取玻璃基材上的缺陷区域所在的位置信息；并将所述缺陷区域的位置信息发送给处理器，所述处理器向所述开关装置发送控制信号，开启与所述缺陷区域的位置对应的阀门，并控制所述喷射器通过开启的阀门向所述缺陷区域进行喷射，减少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液，从而提高了减薄工件的良率，并且减少了玻璃基材的浪费，节省了能源提高了生产效率，节约了生产成本。
图I为现有技术中减薄设备的结构示意图；图2为本实用新型实施例一设备的结构示意图；图3为本实用新型实施例二设备的结构示意图；图4为本实用新型实施例三设备的结构示意图；图5为本实用新型实施例一中开关装置的侧视图。
具体实施方式
本实用新型提供一种玻璃减薄设备，提高了工件的减薄良率，并且操作简单，节约了不良工件的浪费，并降低了制作成本。下面结合本实用新型具体实施例及说明书附图进行详细的描述如图2所示，为本实用新型实施例一设备的结构示意图，图中包括一刻蚀溶液喷射装置21，其中在玻璃基材23上方喷射装置21上设置一个喷嘴或多个喷嘴22以提供蚀刻溶液，并且所述一个喷嘴在玻璃基材23上方，可以将刻蚀溶液喷射到玻璃基材23的两侧表面上，或者所述多个喷嘴分别设置在玻璃基材23的两侧，使得蚀刻溶液以固定流速或可变流速沿着玻璃基材23的两个侧面流下。本实用新型设备还包括检测装置，所述检测装置与处理器25相连接，用于获取玻璃基材23上的缺陷区域的位置信息；其中，所述缺陷区域一般是由轻微划伤玻璃基材23产生，然后将检测到的位置信息发送给处理器25 ;处理器25与开关装置26相连接，根据接收到的位置信息，向开关装置发送控制信号，开启与所述缺陷区域的位置对应的阀门，并控制喷射器27通过开启的阀门向所述缺陷区域进行喷射，减少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液。所述开关装置26包括若干个按矩阵式排列在同一平面的阀门，所述阀门所在矩阵平面与所述玻璃基材23所述的平面相平行；所述阀门所在矩阵平面的面积不小于所述玻璃基材23的面积；较佳的情况，将所述阀门所在矩阵平面的面积设置成与所述玻璃基材23的面积大小相同；如果当所述阀门所在矩阵平面的面积小于所述玻璃基材23的面积大小时，那么需要移动开关装置到相应的缺陷区域位置。检测装置为可以确定出玻璃基材23上缺陷区域的位置的装置，类似的包括一些位置传感器、扫描定位器或者利用光学仪器检测定位的装置，在本实用新型中的检测装置具体为激光扫描定位器。激光扫描定位器24通过激光扫描待减薄的玻璃基材23，检测出玻璃基材23上的缺陷区域的位置参数，具体为该缺陷区域的位置坐标信息，将检测到的位置坐标信息发送给处理器25，处理器25根据接收到的位置坐标信息，向开关装置26发送控制信号，开启对应附着有刻蚀溶液的玻璃基材23的所述缺陷区域坐标位置的阀门，并控制喷射器27通过开启的阀门向附着有刻蚀溶液的玻璃基材23上的所述缺陷区域进行喷射，减 少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液。其中，检测装置的数量为两个，分别设于玻璃基材23的两侧，用于对玻璃基材23的两侧表面分别进行检测；并且开关装置26具体的数量为两个，分别位于玻璃基材23的两侧，且所述开关装置26上阀门所在的矩阵平面与所述玻璃基材23所在平面平行。喷射器27可以是高压气枪或高压水枪，本实施例中以高压气枪为例，具体的，高压气枪将喷射的高压气体通过开启的阀门，形成微细的“气刀”，将附着在所述缺陷区域的刻蚀液吹散到四周，从而使得该缺陷区域的刻蚀液减少，从而不会与整个玻璃基材表面同时进行相同程度的减薄处理，减少所述缺陷区域的不良。如图3所示，为本实用新型实施例二的结构示意图，其中开关装置具体为以矩阵排列的在同一平面的细小阀门的开关装置，并且该开关装置与处理器25相连接，本实施例中采用阀门矩阵开关31，阀门矩阵开关31可根据处理器25发送的控制信号开启对应所述缺陷区域位置的阀门，利用高压气枪32喷射的高压气体被所述阀门分割成类似“气刀”对刻蚀溶液进行处理。采用高压气体时可以将缺陷区域的刻蚀溶液吹到缺陷区域的四周，不再进一步刻蚀玻璃基材23上的缺陷区域，从而提高减薄工件的良率。如图4所示，为本实用新型实施例三的结构示意图，其中喷射器采用高压水枪，其他部件如上所述，在此不再重复；高压水枪41喷射出高压水流通过开启的阀门，形成高压且细小的水束，喷射到玻璃基材23的缺陷区域，使得此处的刻蚀溶液的浓度降低，从而减小对此不良位置的刻蚀效果，使得显示面板的不良率降低。如图5所示，为本实用新型实施例一中开关装置的侧视图，由于本实用新型实施例采用的开关装置26为阀门矩阵开关，由多个阀门51组成，阀门51 —般为毫米级设置，并且都由处理器控制，当接收到处理器的控制信号时，即可打开处理器要求的对应阀门，即将对应缺陷区域的阀门打开，从而进一步执行操作。另外本实用新型实施例中的开关装置26还可以采用激光矩阵开关，一般采用冷激光，通过冷激光照射缺陷区域，可以降低反应温度，从而进一步的降低所述缺陷区域的刻蚀溶液的刻蚀速率。[0037]经过本实用新型提供的设备进行减薄处理后，使得原本因表面划伤而导致的湿法刻蚀处理后的凹陷部分转换成凸起，再经过抛光打磨，实现玻璃基材的表面平滑。本实用新型提供的实施例具有以下优点本实用新型实施例提供的玻璃减薄设备，包括用于喷射刻蚀溶液到待减薄的玻璃基材上的喷射装置，还包括检测装置、开关装置、喷射器及处理器，通过检测装置获取玻璃基材上的缺陷区域所在的位置信息；并将所述缺陷区域的位置信息发送给处理器，所述处理器向所述开关装置发送控制信号，开启与所述缺陷区域的位置对应的阀门，并控制所述喷射器通过开启的阀门向所述缺陷区域进行喷射，减少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液，从而提高了减薄工件的良率，并且减少了玻璃基材的浪费，节省了能源提高了生产效率，节约了生产成本。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及 其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种玻璃减薄设备，包括用于喷射刻蚀溶液到待减薄的玻璃基材上的喷射装置，其特征在于，还包括 检测装置，用于获取所述玻璃基材上的缺陷区域所在的位置信息； 开关装置，包括若干个按矩阵式排列在同一平面上的阀门，且所述开关装置与所述玻璃基材平行设置；喷射器，用于通过阀门，向附着有刻蚀溶液的玻璃基材上的所述缺陷区域进行喷射；处理器，与所述检测装置、开关装置及喷射器相连接，用于根据所述检测装置获取的所述缺陷区域的位置信息，向所述开关装置发送控制信号，开启与所述缺陷区域的位置对应的阀门，并控制所述喷射器通过开启的阀门向所述缺陷区域进行喷射，减少所述缺陷区域附着的刻蚀溶液。
2.如权利要求I所述的设备，其特征在于，所述阀门所在矩阵平面的面积不小于所述玻璃基材的面积。
3.如权利要求I所述的设备，其特征在于，所述检测装置具体为激光扫描定位器； 所述激光扫描定位器，用于检测所述玻璃基材上缺陷区域的位置坐标信息，并将所述位置坐标信息发送给所述处理器。
4.如权利要求I所述的设备，其特征在于，所述检测装置的数量为两个，分别设于所述玻璃基材的两侧，用于对所述玻璃基材的两侧表面分别进行检测。
5.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述开关装置具体为阀门矩阵开关或激光矩阵开关。
6.如权利要求5所述的设备，其特征在于，所述激光矩阵开关采用冷激光源，用于降低所述缺陷区域的刻蚀溶液的刻蚀速率。
7.如权利要求5所述的设备，其特征在于，所述开关装置的数量为两个，分别位于所述玻璃基材的两侧。
8.如权利要求I所述的设备，其特征在于，所述喷射器具体为高压气枪或高压水枪。
专利摘要本实用新型公开了一种玻璃减薄设备，包括用于喷射刻蚀溶液的喷射装置，还包括检测装置，用于获取玻璃基材上的缺陷区域所在的位置信息；开关装置，包括若干个按矩阵式排列在同一平面上的阀门，且开关装置与玻璃基材平行设置；喷射器，用于通过阀门，向附着有刻蚀溶液的玻璃基材上的缺陷区域进行喷射；处理器，与检测装置、开关装置及喷射器相连接，用于根据检测装置获取的缺陷区域的位置信息，向开关装置发送控制信号，开启与缺陷区域的位置对应的阀门，并控制喷射器通过开启的阀门向缺陷区域进行喷射，减少缺陷区域附着的刻蚀溶液。本实用新型提供的技术方案，提高了减薄工件的良率，并且减少了玻璃基材的浪费，节约了生产成本。
文档编号C03C15/00GK202519159SQ20122012673
公开日2012年11月7日 申请日期2012年3月29日 优先权日2012年3月29日
发明者史文森 申请人:北京京东方光电科技有限公司