专利名称：一种tft液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于TFT玻璃制造领域用装置，特别是一种TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置。
背景技术：
TFT玻璃的生产制造中，玻璃在熔化过程中，铁类等金属杂质不仅会使钼金通道侵蚀加速，减短钼金通道寿命，而且会发生电解产生气泡缺陷，以致既要加强通道维护，同时需加长澄清时间，或使玻璃液温度升高，原料中增加澄清剂等方法使气体从玻璃液中溢出，但高温状态易对池炉澄清部耐材等侵蚀加速，原料中增加澄清剂等方法增加生产成本等缺陷，在已知的现有技术中，基本采用控制原材料的规格中铁类等金属杂质的含量及在碎玻璃系统中增加磁选机来防止此类杂质，但混合料内铁类等金属杂质含量是否较低仍无保障。
实用新型内容为克服以上现有技术的不足，本实用新型提供一种TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，通过制作具有一定形状的磁栅装置，将其放置在加料口正上方，使混合料从其网状结构内流入料仓，达到磁选效果，将混合料内铁类等金属杂质拦截下来，使混合料内铁类等金属含量降至最低。为达到以上目的，本实用新型是采取以下技术方案予以实现的一种TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，包括磁栅框架，及设置在磁栅框架上的磁棒，所述磁棒呈网格状分布于磁栅框架上。进一步的，所述装置中，磁栅框架截面呈圆形，其直径为340_360mm。进一步的，所述装置中，呈网格状的磁棒呈不同层间结构分布于磁栅框架上。采用在TFT液晶玻璃熔解加料口设置磁栅装置，在熔解加入混合料过程中进行一个磁选效果，由于磁栅装置本身磁棒具有极强的磁性，将其放置在加料口正上方，磁选出铁类金属杂质，使混合料中铁类金属杂质降至最低。使混合料内所含的少量铁类等金属杂质被磁选出来，保证混合料的洁净度，减少气泡的发生，保障钼金通道的安全。
图1为本实用新型磁栅装置结构示意图。其中1为磁栅框架；2为磁棒。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做进一步详细描述。参见图1所示，本TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，包括磁栅框架I，及设置在磁栅框架I上的磁棒2，其中，磁棒2呈网格状分布于磁栅框架I上。该磁栅框架I的截面呈圆形结构，其直径大于340mm,在340_360mm。且呈网格状的磁棒2呈不同层间结构分布于磁栅框架I上。该磁栅装置启用，使其作业区域呈磁选状态，磁选是利用磁力清除油料中磁性金属杂质的方法，磁选的应用则是利用各种矿石或物料的磁性差异，在磁力及其他作用下进行选别的过程。使用时，将本磁栅装置直接放置在加料口正上方，使混合料从其网状结构内流入料仓，通过其本身磁棒的超强磁力，达到磁选效果，使混合料内铁类等金属杂质被拦截下来，装置其直径尺寸比加料口内部区域宽度小，易于拆卸、安装。并且使混合料内铁类等金属含量降至最低，保障了钼金通道的安全性及气泡缺陷的减少。以上实施方式仅用于说明本 实用新型，而并非对本实用新型的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变形，因此所有等同的技术方案也属于本实用新型的范畴，本实用新型的专利保护范围因由权利要求限定。
权利要求1.一种TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，其特征在于，包括磁栅框架，及设置在磁栅框架上的磁棒，所述磁棒呈网格状分布于磁栅框架上。
2.根据权利要求1所述的TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，其特征在于，所述磁栅框架截面呈圆形，其直径为340-360mm。
3.根据权利要求1所述的TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，其特征在于，所述呈网格状的磁棒呈不同层间结构分布于磁栅框架上。
专利摘要本实用新型公开了一种TFT液晶玻璃熔解加料口使用的磁栅装置，包括磁栅框架，及设置在磁栅框架上的磁棒，磁棒呈不同层间结构分布于磁栅框架上。该磁栅框架截面呈圆形。通过制作具有一定形状的磁栅装置，将其放置在加料口正上方，使混合料从其网状结构内流入料仓，达到磁选效果，将混合料内铁类等金属杂质拦截下来，使混合料内铁类等金属含量降至最低。
文档编号C03B5/16GK202829801SQ201220505220
公开日2013年3月27日 申请日期2012年9月29日 优先权日2012年9月29日
发明者江可, 李瑛 申请人:彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司