一种真空定位治具装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种真空定位治具装置，在结构上包括底板以及至少一个吸附定位部，该底板具有上表面以及下表面，该吸附定位部固定设置在该底板的上表面，该底板内部开设有至少一条负压管路，该吸附定位部开设有若干个与该负压管路相连通的吸附孔。本实用新型的负压管理与真空机连接，需要定位的工件平放在吸附定位部上，通过真空机抽取负压管路的空气，促使负压管路与吸附孔达到负压的状态，促使所述工件紧密吸附在吸附定位部上，达到固定工件的目的。本实用新型对于不同大小产品，都能实现真空吸附定位，使设备变的更加方便灵活，降低了调试时间及劳动强度，从而提高了生产效益。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种产品定位治具装置，更具体而言是指一种真空定位治具装 置。 一种真空定位治具装置
【背景技术】
[0002] 在背光源组膜中，为适应产品多元化，设计上通常会采用通用治具和专用治具来 定位产品。在此背景下市场上出现了一种产品定位治具装置，如图1所示，其包括治具底板 10A、该治具底板10A的中部设置有定位孔11A，该治具底板10A的四个边角沿定位孔11A方 向各设置一条滑槽12A，每一条滑槽12A上设置有定位滑块20A，每一个定位滑块可以在滑 槽12A上滑动，通过调节四个滑块的位置定位放置在治具底板10A上的产品，这种产品定位 治具装置在使用的时候，由于产品多元化，每更换一款产品均要相关治具调试，以便顺利生 产，而其调试时间相对较长，影响拖延生产进度，影响整体生产效率。
【发明内容】
[0003] 本实用新型的主要目的在于解决上述存在的问题，提供一种真空定位治具装置， 本实用新型对于不同大小产品，都能实现真空吸附定位，使设备变的更加方便灵活，降低了 调试时间及劳动强度，从而提高了生产效益。
[0004] 本实用新型的又一目的在于提供一种制造简单、使用方便的真空定位治具装置。
[0005] 本实用新型采用的技术方案为：一种真空定位治具装置，包括底板以及至少一个 吸附定位部，该底板具有上表面以及下表面，该吸附定位部固定设置在该底板的上表面，该 底板内部开设有至少一条负压管路，该吸附定位部开设有若干个与该负压管路相连通的吸 附孔。
[0006] 该底板的上表面上还设置有一块高度与该吸附定位部持平的托板，该托板配合该 吸附定位部的形状设置有透孔。
[0007] 本实用新型的有益效果为：本实用新型在结构上包括底板以及至少一个吸附定位 部，该底板具有上表面以及下表面，该吸附定位部固定设置在该底板的上表面，该底板内部 开设有至少一条负压管路，该吸附定位部开设有若干个与该负压管路相连通的吸附孔。本 实用新型的负压管理与真空机连接，需要定位的工件平放在吸附定位部上，通过真空机抽 取负压管路的空气，促使负压管路与吸附孔达到负压的状态，促使所述工件紧密吸附在吸 附定位部上，达到固定工件的目的。本实用新型对于不同大小产品，都能实现真空吸附定 位，使设备变的更加方便灵活，降低了调试时间及劳动强度，从而提高了生产效益。
【专利附图】
【附图说明】
[0008] 图1为现有技术的产品定位治具装置的结构示意图。
[0009] 图2为本实用新型的整体示意图。
[0010] 图3为本实用新型的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0011] 如图1至图2所示为本实用新型的一种较佳的具体实施例子，一种真空定位治具 装置，包括底板10以及至少一个吸附定位部20,该底板10具有上表面11以及下表面12， 该吸附定位部22固定设置在该底板10的上表面11，该底板10内部开设有至少一条负压管 路13,该吸附定位部20开设有若干个与该负压管路13相连通的吸附孔21。
[0012] 进一步，为了增加吸附产品的稳定性，该底板10的上表面11上还设置有一块高度 与该吸附定位部22持平的托板30,该托板30配合该吸附定位部20的形状设置有透孔31。
[0013] 在实际制作过程中，该吸附定位部20是与该底板10 -体成型的，分开阐述仅仅是 为了更好说明本实用新型的结构。
[0014] 本实用新型要实现的是，如图3所示，本实用新型的负压管理11与真空机连接，需 要定位的工件C(产品）平放在吸附定位部20上，通过真空机抽取负压管路13的空气，促 使负压管路13与吸附孔达到负压的状态，促使所述工件C紧密吸附在吸附定位部上，达到 固定工件的目的。
[0015] 本实用新型对于不同大小产品，都能实现真空吸附定位，使设备变的更加方便灵 活，降低了调试时间及劳动强度，从而提高了生产效益。本实用新型的真空吸附力要足够 大，以便产品不会由于圆盘旋转而产生偏移，从而影响产品精度；工件在下料位时，真空需 瞬间断开，以便产品顺利取放到下一工站；
[0016] 本实用新型的实施例以及附图只是为了展示本实用新型的设计构思，本实用新型 的保护范围不应当局限于这一实施例。
[0017] 通过上面的叙述可以看出本实用新型的设计目的是可以有效实施的。实施例的部 分展示了本实用新型的目的以及实施功能和结构主题，并且包括其他的等同替换。
[0018] 因此，本实用新型的权利构成包括其他的等效实施，具体权利范围参考权利要求。
【权利要求】
1. 一种真空定位治具装置，其特征在于：包括底板以及至少一个吸附定位部，该底板 具有上表面以及下表面，该吸附定位部固定设置在该底板的上表面，该底板内部开设有至 少一条负压管路，该吸附定位部开设有若干个与该负压管路相连通的吸附孔。
2. 如权利要求1所述的一种真空定位治具装置，其特征在于，该底板的上表面上还设 置有一块高度与该吸附定位部持平的托板，该托板配合该吸附定位部的形状设置有透孔。
【文档编号】B25B11/00GK203901141SQ201420226769
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年5月5日 优先权日:2014年5月5日
【发明者】范家强, 邓志辉 申请人:深圳市振宇达自动化设备科技有限公司