专利名称：近红外线反射基板和利用该基板的近红外线反射层叠玻璃、近红外线反射双层玻璃的制作方法
近红外线反射基板和利用该基板的 近红外线反射层叠玻璃、近红外线反射双层玻璃技术领域0001本发明涉及一种热射线反射基板，其用于降低由阳光热辐射引起的车辆或建筑物窗体的透射侧的温度升高，以及降低由直接 照在显示器上的阳光热辐射引起的温度升高，并且涉及使用这种热射 线反射基板的层叠玻璃和双层玻璃。
背景技术：
0002有许多通过降低通过窗体玻璃照进内部的阳光的热辐射 能量来限制内部温度升高、通过限制由驱动制冷设备所耗的电能以及 通过保持窗体玻璃的高可见光透射率而构建舒适的内部空间的提议。
对于电介质膜的沉积来讲，理想的是使用濺射方法，其 可形成具有均匀厚度的膜而具有大面积。0030然而，膜形成方法不限于溅射方法，根据基板的大小， 可使用蒸镀沉积、离子电镀方法、CVD方法以及溶胶-凝胶工艺等。
本发明的近红外线反射基板可降低由于用在接收直射阳 光位置的各种显示设备的热辐射所导致的温度升高。所以，为了提高 设备的寿命，其可优选地被用于显示设备的正面。
该近红外线反射基板的由JIS R3106-1998定义的可见光 透射率是81V。。当检查板状玻璃表面的反射特性时，其在1000nm的 波长下具有反射的最大值，而其最大值是92%。因此，其具有足以实 现有效隔热性能的近红外线反射特性。示例6
除了由7层的电介质膜形成近红外线反射膜2以及具有 厚度为lOOnm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜被用作透明基板1之外，以 示例7相同的方式制成
图1中示出的近红外线反射基板20。
0100〗就近红外线反射膜2而言，通过在透明基板1上顺序地 沉积Nb202膜(厚度115nm) 、 Si02膜(厚度175nm ) 、 Nb202 膜(厚度115nm) 、 Si02膜(厚度175nm ) 、 Nb202膜(厚度 115nm) 、 SiCh膜(厚度175nm)和]\1)205膜(厚度115nm )构 成了 7层的电介质膜。本示例制成的近红外线反射层叠玻璃的可见光透射率是77%。当检查入射侧表面的反射特性时，其在1050nm的波长下具有 反射的最大值，而其最大值是74%。因此，其具有足以实现有效隔热 性能的近红外线反射特性。\1)205膜(厚度115nm) 、 1102膜(厚度110nm) 和TK)2膜(厚度110nm)，从而形成5层电介质多层膜。
0124该5层电介质膜是不满足条件 或者
的多层膜。该层叠玻璃的可见光透射率低到54%。在1000nm波长 下的反射率是大约10%,这显示了相当低的近红外线反射率。
比较示例8该5层电介质膜是不满足条件 或者
的多层膜。
[0136类似于示例8，以将其上形成了这种电介质多层膜的表面 通过两层0.38mm厚的PVB膜设置在入射侧上的方式进行层叠处理。 尽管该层叠玻璃的可见光透射率是80%,但是在1000nm波长下的反 射率是大约40%，这显示了低的近红外线反射率。
权利要求
1. 一种近红外线反射基板，该近红外线反射基板是通过在透明基板上形成近红外线反射膜而制成的，该近红外线反射膜是通过交替地沉积低折射率电介质膜和高折射率电介质膜而制成的，该近红外线反射基板的特征在于该近红外线反射膜是通过在透明基板的至少一个表面上层叠大于或等于4层且小于或等于11层的电介质膜以满足以下条件(1)和(2)而制成的，该近红外线反射膜的由JIS R3106-1998定义的可见光透射率为在上面形成了所述近红外线反射膜的基板的可见光透射率的70％或更高，并且该近红外线反射膜在900nm至1400nm的波长区中具有超过50％的反射最大值，(1)当所述电介质膜被从所述透明基板的一侧开始按顺序编号时，当偶数编号层的折射率的最大值和最小值被分别表示为nemax和nemin时，并且当奇数编号层的折射率的最大值和最小值被分别表示为nomax和nomin时，nemax＜nomin或者nomax＜nemin，(2)当被编号为“i”的层的折射率为ni而厚度为di时，对于波长λ的范围为900至1400nm的红外射线，225nm≤ni·di≤350nm。
2. 如权利要求l所述的近红外线反射基板，其特征在于，所述近 红外线反射膜是通过使用Ti02或Nb205或Ta20s作为高折射率电介质 膜并使用Si02作为低折射率电介质膜而形成的。
3. 如权利要求1或2所述的近红外线反射基板，其特征在于，所 述透明基板是玻璃板。
4. 如权利要求3所述的近红外线反射基板，其特征在于，所述玻 璃板是红外线吸收玻璃。
5. —种近红外线反射层叠玻璃，其特征在于，通过使用夹层膜，在玻璃板或板状树脂上层叠了根据权利要求3或4的近红外线反射基 板。
6. 如权利要求5所述的近红外线反射层叠玻璃，其特征在于，通 璃是红外线吸收玻璃。- 、'^ 、 、
7. 如权利要求5或6所述的近红外线反射层叠玻璃，其特征在于， 所述夹层膜包含红外线吸收材料。
8. 如权利要求7所述的近红外线反射层叠玻璃，其特征在于，所 述红外线吸收材料是导电氧化物颗粒。
9. 一种近红外线反射双层玻璃，其特征在于，使用根据权利要 求3或4的近红外线反射基板作为所述双层玻璃的至少 一块板状玻璃， 在所述双层玻璃中，两块板状玻璃被相对放置，并且其中形成了在所 述两块板状玻璃的外围处使用密封件密封在所述两块板状玻璃之间 的空气层，并且其特征还在于，所述近红外线反射膜位于所述空气层 的一侧.
10. —种近红外线反射基板，该近红外线反射基板是通过在透明 基板上形成近红外线反射膜而制成的，该近红外线反射膜是通过交替 地沉积低折射率电介质膜和高折射率电介质膜而制成的，该近红外线 反射基板的特征在于所述透明基板是聚合物树脂片，并且所述近红 外线反射膜是通过沉积大于或等于4层且小于或等于11层的电介质膜 以满足以下条件(1)和(2)而制成的，该近红外线反射膜的由JIS R3106-1998定义的可见光透射率为70。/。或更高，并且该近红外线反射 膜在900 nm至1400 nm的波长区中具有超过50%的反射最大值，(1)当所述电介质膜被从所述透明基板的一侧开始按顺序编号时，当偶数编号层的折射率的最大值和最小值被分别表示为Ilemax和 Ilemin时，并且当奇数编号层的折射率的最大值和最小值被分别表示为"omax omax<nemin》(2)当被编号为"i"的层的折射率为ni而厚度为di时，对于波长X 的范围为900至1400nm的红外射线，225 nm ^ i^diS 350 nm。
11. 如权利要求10所述的近红外线反射基板，其特征在于，所述 近红外线反射膜是通过使用Ti02或Nb20s或Ta20s作为高折射率电介 质膜并使用Si02作为低折射率电介质膜而形成的。
12. 如权利要求10或11所述的近红外线反射基板，其特征在于， 所述聚合物树脂片是红外线吸收膜。
13. —种近红外线层叠玻璃，其特征在于，通过使用夹层膜，在 两块板状玻璃之间层叠了根据权利要求10至12中任何一项的近红外 线反射基板。
14. 如权利要求13所述的近红外线反射层叠玻璃，其特征在于， 所述聚合物树脂片的厚度范围为10-200^im，并且使用了曲面形状的板 状玻璃。
15. 如权利要求13或14所述的近红外线反射层叠玻璃，其特征在 于，所述夹层膜包含红外线吸收材料。
16. 如权利要求15所述的近红外线反射层叠玻璃，其特征在于， 所述红外线吸收材料是导电氧化物颗粒。
17. 如权利要求13至16中任何一项所述的近红外线反射层叠玻 璃，其特征在于，所述板状玻璃是红外线吸收玻璃。
全文摘要
一种近红外线反射基板，其具有通过交替地层叠低折射率电介质膜和高折射率电介质膜而在透明基板上形成的近红外线反射膜。该基板的特征在于透明基板是板状玻璃或聚合物树脂片，其由JISR3106-1998定义的可见光透射率为70％或更高，并在900-1400nm波长区中具有超过50％的反射最大值。
文档编号B32B17/06GK101288007SQ2006800380
公开日2008年10月15日 申请日期2006年10月16日 优先权日2005年10月26日
发明者中村功, 大本英雄, 米仓正明, 高松敦 申请人:中央硝子株式会社