专利名称：2100纳米带通红外滤光片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种滤光片，特别是2100纳米带通红外滤光片。
背景技术：
在许多工业生产领域，需要对物料(如冶金钢铁行业的烧结物料、食品加工行业的粮食物料和烟草行业的烟丝等)的水分进行精确检测，一保证产品的质量，提高生产效率，降低能源消耗。现大多采用红外水分仪来测量各种物料的水分，为了确保检测的精准度,在红外水分仪内设有滤光片。但是，目前用于水分测量的2100纳米带通红外滤光片，其信噪比低，精度差，不能 满足市场发展的需要。
实用新型内容本实用新型的目的是为了解决上述现有技术的不足而提供一种峰值透过率高，能极大的提高信噪比的2100纳米带通红外滤光片。为了实现上述目的，本实用新型所设计的2100纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层和以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层，所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是第一镀膜层包含从内向外依次排列的厚度为78nm的Si层、厚度为123nm的SiO层、厚度为123nm的Si层、厚度为15Inm的SiO层、厚度为167nm的Si层、厚度为119nm的SiO层、厚度为68nm的Si层、厚度 为222nm的SiO层、厚度为93nm的Si层、厚度为128nm的SiO层、厚度为78nm的Si层、厚度为2IOnm的SiO层、厚度为79nm的Si层、厚度为92nm的SiO层、厚度为76nm的Si层、厚度为161nm的SiO层、厚度为68nm的Si层、厚度为148nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为206nm的SiO层、厚度为82nm的Si层、厚度为129nm的SiO层、厚度为165nm的Si层、厚度为180nm的SiO层、厚度为158nm的Si层、厚度为128nm的SiO层、厚度为70nm的Si层、厚度为305nm的SiO层、厚度为106nm的Si层、厚度为282nm的SiO层、厚度为289nm的Si层、厚度为350nm的SiO层、厚度为185nm的Si层、厚度为287nm的SiO层以及厚度为287nm的Si层；第二镀膜层包含从内向外依次排列的厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为571nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为1142nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为305nm的SiO层、厚度为158nm的Si层以及厚度为158nm的SiO层。上述各材料对应的厚度，其允许在公差范围内变化，其变化的范围属于本专利保护的范围，为等同关系。通常厚度的公差在IOnm左右。本实用新型得到的2100纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位在2100±1%纳米，峰值透过率达90%以上，截止区透过率小于O. I %，极大地提高了信噪比，提高应用领域产品的探测精度和效能。[0008]
图I是实施例的整体结构示意图；图2是实施例提供的红外光谱透过率实测曲线图。图中基板I、第一镀膜层2、第二镀膜层3。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。实施例如图I所示，本实施列提供的2100纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板I、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层2和以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层3，所述基板I位于第一镀膜层2和第二镀膜层3之间，第一镀膜层I包含从内向外依次排列的厚度为78nm的Si层、厚度为123nm的SiO层、厚度为123nm的Si层、厚度为151nm的SiO层、厚度为167nm的Si层、厚度为119nm的SiO层、厚度为68nm的Si层、厚度为222nm的SiO层、厚度为93nm的Si层、厚度为128nm的SiO层、厚度为78nm的Si层、厚度为2IOnm的SiO层、厚度为79nm的Si层、厚度为92nm的SiO层、厚度为76nm的Si层、厚度为161nm的SiO层、厚度为68nm的Si层、厚度为148nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为206nm的SiO层、厚度为82nm的Si层、厚度为129nm的SiO层、厚度为165nm的Si层、厚度为180nm的SiO层、厚度为158nm的Si层、厚度为128nm的SiO层、厚度为70nm的Si层、厚度为305nm的SiO层、厚度为106nm的Si层、厚度为282nm的SiO层、厚度为289nm的Si层、厚度为350nm的SiO层、厚度为185nm的Si层、厚度为287nm的SiO层以及厚度为287nm的Si层；第二镀膜层3包含从内向外依次排列的厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为571nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为1142nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为305nm的SiO层、厚度为158nm的Si层以及厚度为158nm的SiO层。如图2所示，本实施例得到的2100纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位为2100 土 I %纳米，峰值透过率达90 %以上，截止区透过率小于0. I %。
权利要求1. 一种2100纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板(I)、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层(2)和以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层(3)，所述基板(I)位于第一镀膜层(2)和第二镀膜层(3)之间，其特征是第一镀膜层(2)包含从内向外依次排列的厚度为78nm的Si层、厚度为123nm的SiO层、厚度为123nm的Si层、厚度为151nm的SiO层、厚度为167nm的Si层、厚度为119nm的SiO层、厚度为68nm的Si层、厚度为222nm的SiO层、厚度为93nm的Si层、厚度为128nm的SiO层、厚度为78nm的Si层、厚度为2IOnm的SiO层、厚度为79nm的Si层、厚度为92nm的SiO层、厚度为76nm的Si层、厚度为161nm的SiO层、厚度为68nm的Si层、厚度为148nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为206nm的SiO层、厚度为82nm的Si层、厚度为129nm的SiO层、厚度为165nm的Si层、厚度为180nm的SiO层、厚度为158nm的Si层、厚度为128nm的SiO层、厚度为70nm的Si层、厚度为305nm的SiO层、厚度为106nm的Si层、厚度为282nm的SiO层、厚度为289nm的Si层、厚度为350nm的SiO层、厚度为185nm的Si层、厚度为287nm的SiO层以及厚度为287nm的Si层；第二镀膜层(3)包含从内向外依次排列的厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为571nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为285nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为1142nm的SiO层、厚度为143nm的Si层、厚度为305nm的SiO层、厚度为158nm的Si层以及厚度为158nm的SiO层。
专利摘要本实用新型公开了一种2100纳米带通红外滤光片，包括以Bk7玻璃为原材料的基板、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层和以Si和SiO为镀膜材料的第二镀膜层，所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间，其特征是所述第一镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Si层和SiO层，所述Si层和SiO层交互排列；所述第二镀膜层包括从内向外依次排列的厚度不同的Si层和SiO层，所述Si层和SiO层交互排列。本实用新型得到的2100纳米带通红外滤光片，能实现中心波长定位在2100±1％纳米，峰值透过率达90％以上，截止区透过率小于0.1％，极大地提高了信噪比，提高应用领域产品的探测精度和效能。
文档编号B32B9/04GK202472023SQ201220091300
公开日2012年10月3日 申请日期2012年3月12日 优先权日2012年3月12日
发明者吕晶 申请人:杭州麦乐克电子科技有限公司