一种无缝uv镭射膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种无缝UV镭射膜，其特征在于：包括由聚对苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜层，基膜层上模压一层带有间隔纹路的压印层，压印层上再模压一层带有间隔纹路的二次压印层，二次压印层上设有镀铝层，镀铝层上设有热封层。本实用新型在压印层上再进行二次压印，且两次压印的纹路部分叠加，从而使镭射膜实现无缝复合，提高产品的档次，无任何镭射阴影。
【专利说明】—种无缝UV镭射膜
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及镭射膜【技术领域】，具体涉及一种无缝UV镭射膜。
【背景技术】
[0002]全息防伪(镭射)膜、纸目前市场上主要用于高档烟包、化妆品、酒盒等外包装上，由于成本及效率等因素，无缝镭射膜、纸因在凹印及部分胶印的优异表现，越来越多被重视及得到应用。目前无缝镭射膜制法主要为热固性镭射制法:第一步为热固法镭射树脂涂布；第二步，无缝镭射膜压。其优点是第一步工艺技术成熟，成本较低。缺点是第二步无缝膜压因镭射区有固定阴影，镭射图案色泽差，不能真正称之为无缝镭射。
【发明内容】
[0003]本实用新型针对现有技术中的不足，提供一种新的无缝UV镭射膜。
[0004]本实用新型是通过以下的技术方案实现的:一种无缝UV镭射膜，包括由聚对苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜层，基膜层上模压一层带有间隔纹路的压印层，压印层上再模压一层带有间隔纹路的二次压印层，二次压印层上设有镀铝层，镀铝层上设有热封层。
[0005]优选的，压印层与二次压印层上的纹路部分叠加。
[0006]本实用新型的优点 在于:在压印层上再进行二次压印，且两次压印的纹路部分叠加，从而使镭射膜实现无缝复合，提高产品的档次，无任何镭射阴影。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1为本实用新型的结构示意图；
[0008]图2为本实用新型中压印层的纹路示意图；
[0009]图3为本实用新型中二次压印层的纹路示意图。
[0010]图中:1、基I旲层；2、压印层；3、二次压印层；4、锻招层；5、热封层。
【具体实施方式】
[0011]下面结合具体实施例对本实用新型作进一步说明。
[0012]如图1至图3所示，一种无缝UV镭射膜，包括由聚对苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜层，基膜层上模压一层带有间隔纹路的压印层，压印层上再模压一层带有间隔纹路的二次压印层，二次压印层上设有镀铝层，镀铝层上设有热封层。
[0013]其中，压印层与二次压印层上的纹路部分叠加。
[0014]以上所述仅为体现本实用新型原理的较佳实施例，并不因此而限定本实用新型的保护范围，凡是依本实用新型所作的均等变化与修饰皆在本实用新型涵盖的专利范围之内。
【权利要求】
1.一种无缝UV镭射膜，其特征在于:包括由聚对苯二乙酸甲二醇酯制成的基膜层，基膜层上模压一层带有间隔纹路的压印层，压印层上再模压一层带有间隔纹路的二次压印层，二次压印层上设有镀铝层，镀铝层上设有热封层。
【文档编号】B41M5/00GK203511010SQ201320562953
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年9月11日 优先权日:2013年9月11日
【发明者】王信飞 申请人:无锡光群雷射科技有限公司