专利名称：显影溶液回收处理方法以及显影溶液回收处理装置的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种溶液回收处理方法，特别是指一种显影溶液回收处理方法；另外，本发明亦是有关于一种溶液回收处理装置，特别是指一种显影溶液回收处理装置。
背景技术：
在半导体及液晶基板制程中，为了先在基板上呈现例如逻辑电路的图谱，因此需在各基板上涂布光阻剂后，再透过一光罩而曝光，使得该光阻剂转化为欲保留于各基板上的光阻剂，及欲去除的光阻剂两部分；接着以显影溶液洗除掉欲去除的光阻剂，始可显影出所欲获得的图谱，以继而进行后续制程。
一般而言，光阻剂的主要成分包括例如邻-萘醌二迭氮-4-磺酸；邻-萘醌二迭氮-5-磺酸；邻-萘醌二迭氮-6-磺酸等的萘醌二迭氮系感光剂(o-naphthoquinone diazide；简称NQD)，与例如热塑性酚醛树脂(Novolac resin)等的碱可溶性粘结树脂(binder resin)，以及接口活性剂等；相对于光阻剂所使用的显影溶液，则含有碱化合物的成份，例如四甲基氢氧化铵(Tetramethylammonium hydroxide，于下文中以其简称“TMAH”表述)、四乙基氢氧化铵(tetraethylammoniumhydroxide)、四丙基氢氧化铵(tetrapropylammoniumhydroxide)、四丁基氢氧化铵(tetrabutylammoniumhydroxide)、甲基三乙基氢氧化铵(methyltriethylammoniumhydroxide)、三甲基乙基氢氧化铵(trimethylethylammoniumhydroxide)、二甲基二乙基氢氧化铵(dimethyldiethylammonium hydroxide)、三甲基(2-羟乙基)氢氧化铵[trimethyl(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、三乙基(2-羟乙基)氢氧化铵[triethyl(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、二甲基二(2-羟乙基)氢氧化铵[dimethyldi(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、二乙基二(2-羟乙基)氢氧化铵[diethyldi(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、甲基三(2-羟乙基)氢氧化铵[methyltri(2-hydroxyethyl)ammoniumhydroxide]、乙基三(2-羟乙基)氢氧化铵[ethyltri(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]、四(2-羟乙基)氢氧化铵[tetra(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide]，及氢氧化钾(Potassium hydroxide，于下文中以其化学式「KOH」表述)等，供熟习此技艺者依需要而选择使用。
当显影溶液喷洒在基板上时，会由与经曝光后的欲去除的光阻剂相互作用，将其自所属的基板上溶洗掉；接着，使用过后的显影溶液将被收集，并经由循环管路而重复被喷洒在基板上。
但是，由于上述光阻剂是属酸性，因此随着显影过程持续地进行，显影溶液在重复显影光阻剂时，其中所含的实际与光阻剂作用的碱化合物，会逐渐与光阻剂酸碱中和而被消耗，使得显影溶液的有效浓度逐渐降低，无法持续地保有优良的显影效果。若是定时更新具有有效浓度的显影溶液，虽然可确保溶液的显影效果及产品良率具有一定的水准，然而废弃的显影溶液将衍生后续处理程序及环保等复杂的问题。
基于该显影溶液中的碱化合物浓度需维持于一适当浓度方能发挥良好的显影效果，同时顾及环保及成本等多方面的考量，因此，相关业界则发展出显影溶液的回收技术或相关处理设备，由此延长显影溶液的使用寿命。其主要的解决方法合策略，是在判别该显影溶液的碱化合物的浓度低于一设定值时，即将具有一较高浓度的碱化合物的补充液，适量地灌入该显影溶液中，以使该显影溶液中的碱化合物维持在一适当的浓度。
而前述判别该显影溶液的碱化合物浓度是否低于该设定值，则是由将该显影溶液流入各式传感器中，继而加以检知其碱化合物浓度而得，以便由其结果决定是否应灌入该补充液；例如台湾专利第373237号、日本公开特许特开平7-235487案使用吸光光度计，及日本公开特许特开平2003-l31398号案使用浓度计等。
由于该等传感器都是需要显影溶液流经其中方能感测，因此随着使用时间日久，该显影溶液中的光阻剂或其它杂质会逐渐附着在该等传感器的管路上，甚至形成阻塞，造成该等传感器误判该显影溶液的碱化合物浓度，连带地使得该显影溶液无法被正确地维持于适当的碱化合物浓度，影响后续显影溶液的显影效果，以及产品良率甚巨。
但是，该等传感器的感应能力，是在长时间下逐步恶化，因此工作人员，特别是经验不足者，不尽然能在第一时间察觉到所使用的传感器已无法正常运作，进而可能作出不恰当的制程危机处理方策，影响厂商成本甚巨；再者，为维护该等传感器的正常运作，厂商势必需定时派人清洗或是汰换更新，如此亦增加了人事、工时，及设备等各方面的成本。
因此，如何可使一重复使用的显影溶液的碱化合物浓度被正确地调整，以让其具有最佳的显影效果，提升后续产品良率，并且可同步地顾及其所需成本，即成为目前相关业界所亟欲发展之处。
发明内容
因此，本发明的目的，即在提供一种可有效地回复该显影溶液的显影效果的显影溶液回收处理方法，以及一种可以精确地调控该显影溶液中碱化合物浓度的显影溶液回收处理装置。
该显影溶液回收处理装置及回收处理方法，主要是依据该显影溶液所显影过的基板的数量，来调整补充入该显影溶液的碱化合物量，使得该显影溶液中的碱化合物得以精准地维持于一应有的适当浓度，而免除了以往由传感器侦测的方式所产生的缺点。
本发明首先提供的一种显影溶液回收处理装置，是装设在一用以运行涂布有光阻剂以待显影的各基板的显影装置上；该显影装置包含有一用以运行各基板的运行单元、一设置于该运行单元下方并容装含有一碱化合物的显影溶液的集液槽，及连通该集液槽并使该显影溶液循环地至各基板上以洗除各基板上的光阻剂的回流单元；其特征在于，该显影溶液回收处理装置则包含有一计数单元，用以计数经显影的基板数量而获得一计数值；一补充单元，是连接于该集液糟，并提供含碱化合物的补充液至集液槽；以及一控制单元，是连控该计数单元及补充单元，并依据该计数值来操控该补充单元的含碱化合物的补充液供应至集液槽的量。
其中，该补充单元包括有一具有含碱化合物的补充液、一容置该补充液的补充槽、一连通于该补充槽与集液槽的补充管路，及一设置在该补充管路上以控制该补充液的输出量的流量阀；其中，该补充液是被输送至该集液槽内，且该补充液中碱化合物的浓度是大于该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度。
其中，该控制单元是包括有择自于以下所构成的群组马达控制器、PID控制器(Proportional-Integral-Derivativecontroller)、PI控制器(Proportional-Integral controller)，以及DCS控制器(Digital Contribution System controller)。
其中还包含有一设置在该显影装置的运行单元下，供该显影溶液通过以消除其泡沫的消泡单元。
其中，该消泡单元是为一消泡板与一设置于该消泡板的吸附材，该消泡板为一形成有复数供该显影溶液通过的通孔，且为耐酸碱的材质所制成。
其中还包含有一连接该集液槽的过滤单元，其是设置在该显影装置的回流单元上，以供该显影溶液流经而滤除所含的光阻剂与杂质后再流回至该集液槽内，而使该显影溶液中的光阻剂浓度在0.001重量％以下。
其中，该过滤单元是包括有择自于以下所构成的群组微滤膜、超滤膜、纳米滤膜、逆渗透膜、离子交换树脂管柱、电气透析设备、电解设备，以及此等的组合。
本发明一种显影溶液回收处理方法，是在一欲显影涂布有光阻剂的各基板的显影装置内部与外部实施，其含有一容装含有碱化合物的显影溶液的集液槽；其特征在于，该显影溶液回收处理方法包含的步骤为计数步骤是以一计数单元来计数已显影过的基板，而获得一计数值；以及补充步骤是以一控制单元对应该计数值，而调控一含有碱化合物补充液的补充单元，使其将该含碱化合物补充液适度地提供至该集液槽内，并维持该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度控制在一适当数值。
其中还包含一消泡步骤，其是以一消泡单元来消除该显影溶液的泡沫。
其中还包含一过滤步骤，其是以一过滤单元来过滤该显影溶液，以使其所含的光阻剂浓度控制在一定浓度以下。
因此，利用本发明所提出的显影溶液回收处理方法或显影溶液回收处理装置，将可在无传感器的设置下，精确地将显影溶液中碱化合物的浓度维持于一适当的数值，同时亦有降低各项成本及提升产品量率等功效。
为进一步说明本发明的具体技术内容，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中图1是一示意图，说明本发明显影溶液回收处理装置的一较佳实施例中所设置的各构件的相对位置关系；及图2是一示意图，说明该较佳实施例中消泡单元的各构件的相对位置关系，其中设置于两滚轴之间的各滚轴是暂被移除。
具体實施方式基于前述已知技术的不足，申请人发展出一种显影溶液回收处理方法，其是在一欲显影涂布有光阻剂的各基板的显影装置内实施，该显影装置则含有一容装含有碱化合物的显影溶液的集液槽；而该显影溶液回收处理方法包含的步骤为一计数步骤，以及一补充步骤。
该计数步骤是以一计数单元来计数已显影过的基板，而获得一计数值。该补充步骤是以一控制单元对应该计数值，而调控一含有碱化合物补充液的补充单元，使其将该含碱化合物补充液适度地提供至该集液槽内，并维持该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度控制在一适当数值。
较佳地，该方法还包含有一消泡步骤，其是以一消泡单元来消除该显影溶液的泡沫；而藉由此消泡步骤，将有助于各基板更顺畅地被运行。
较佳地，该方法还包含有一过滤步骤，其是以一过滤单元来过滤该显影溶液，以使其所含的光阻剂浓度控制在一定浓度以下，而可延缓该显影溶液的劣化现象，增加使用寿命。该过滤步骤亦可与该消泡步骤一同被包含于本发明显影溶液回收处理方法之内。
值得一提的是，该方法的消泡步骤与过滤步骤，是各别相对于该计数步骤与补充步骤而同步地独立实施，且因此无执行顺序上的限制。
由于该显影溶液回收处理方法，是可由该显影溶液回收处理装置而对应实施，故有关于后续较佳地实施该方法所需的计数单元、补充单元、控制单元，以及消泡单元、过滤单元等暨其等的相关构件的较佳或更佳态样，则由以下该显影溶液回收处理装置而说明。
本发明首先提出的显影溶液回收处理装置，是依据该显影溶液回收处理方法的创作精神而设计，其是装设在一用以运行涂布有光阻剂以待显影的各基板的显影装置上。
该显影装置包含有一用以运行各基板的运行单元、一设置于该运行单元下方并容装含有一碱化合物的显影溶液的集液槽，及连通该集液槽并使该显影溶液循环地至各基板上以洗除各基板上的光阻剂的回流单元。
本发明显影溶液回收处理装置则是包含有一计数单元、一补充单元，以及一控制单元。该计数单元是用以计数经显影的基板数量，而获得一计数值。该补充单元是连接于该集液糟，并提供含碱化合物的补充液至集液槽。该控制单元是连控该计数单元及补充单元，依据该计数值来操控该补充单元的含碱化合物的补充液供应至该集液槽内的量。
较佳地，该补充单元包括有一具有含碱化合物的补充液、一容置该补充液的补充槽、一连通于该补充槽与集液槽的补充管路，及一设置在该补充管路上以控制该补充液的输出量的流量阀；其中，该补充液是被输送至该集液槽内，且该补充液中碱化合物的浓度是大于该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度。且于此，更佳地，该补充单元的该补充液中碱化合物的浓度为10～80重量％。于本发明的一较佳实施例中，该补充单元的补充液的碱化合物浓度是约25重量％；此外，该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度为2.5重量％以下。
较佳地，该控制单元是包括有择自于以下所构成的群组马达控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS(DigitalContribution System)控制器；于本发明的一具体例中，该控制单元是包括有马达控制器，并还包括有一用以监控该集液槽中显影溶液的液位高度的液位侦测器。
较佳地，本装置还包含有一消泡单元，其是设置在该显影装置的运行单元下，供该显影溶液通过以消除其泡沫。更佳地，该消泡单元是为一消泡板与一设置于该消泡板的吸附材，该消泡板为一形成有复数供该显影溶液通过的通孔，且为耐酸碱的材质所制成。于本发明的一具体例中，该耐酸碱的材质是为PVC，且该吸附材是为不织布；选择性地，其可为单层或多层的态样。
较佳地，本装置还包含有一过滤单元，其是连接该集液槽，并设置在该显影装置的回流单元上，以供该显影溶液流经而滤除所含的光阻剂与杂质后再流回该集液槽内，而使该显影溶液中的光阻剂浓度在0.001重量％以下；更佳地，该过滤单元是包括有择自于以下所构成的群组微滤膜(microfiltration membranes；简称MF)、超滤膜(ultrafiltration membrane；简称UF)、纳米滤膜(monolayernanofiltration membrane；简称NF)、逆渗透膜(reverseosmosis简称RO)、离子交换树脂管柱(ion exchangetreatment简称IE)、电气透析设备(electrodialysis简称ED)、电解设备(electrolysis)，以及此等的组合。
以上所述的被包括于该过滤单元的部件，是得以依操作者的需求而调整其排列顺序。另外，选择性地，该微滤膜、超滤膜、纳米滤膜，以及逆渗透膜等，是可为单层或多层的态样，其形状亦未特别限定，而可为平膜状、中空线状等；而离子交换树脂管柱、电气透析设备、电解设备等，是可为一次式或二次式的态样。
该显影溶液中所使用的碱化合物，是配合所欲作用的光阻剂成分，而选择使用；就本发明所举例说明之，该碱化合物是为TMAH；为具有优良的显影效果，较佳地，该显影溶液的碱化合物的适当浓度约为2.5重量％以下；更佳地，是为2.3～2.4重量％之间；最佳地，是约为2.38重量％。而就其它的碱化合物，则有各自的适当浓度，但都可藉由本发明方法及装置而加以调控。
以下将以一较佳实施例进一步说明本发明，惟该实施例仅为例示说明的用，而非用以限制本发明。
实施例本发明显影溶液回收处理方法，是在一如图1所示的显影装置1内，由一装设在其上的显影溶液回收处理装置来实施，其所包含的步骤为计数步骤、补充步骤、消泡步骤，以及过滤步骤。而该显影溶液回收处理装置则包含，一用以进行该计数步骤并获得一计数值的计数单元2、用以进行该补充步骤的一控制单元3与补充单元4、一用以进行该消泡步骤的消泡单元5，以及一用以进行该过滤步骤的过滤单元6。其中，该控制单元3是对应该计数值而调控该补充单元4；该消泡步骤是消除显影过程中所产生的泡沫；该过滤步骤则是滤除显影溶液中的光阻剂。
该显影装置1包含有一进行显影处理程序的显影处理室11、一用以运行各基板12的运行单元13、一设置于该运行单元13下方并容装含有TMAH的显影溶液14的集液槽15，及一连通该集液槽15并循环输送该显影溶液14的回流单元16。
其中，该运行单元13，是包括有多数个相互并排且以相同方向滚转的滚轴131，各基板12放置于该等滚轴131之上，而进出该显影处理室11；该显影溶液14的TMAH浓度约为2.38％，并且欲维持于此浓度；该集液槽15的底端是开设有一可启闭的排液口151，以容收或排除其内的显影溶液14，便于更新；于此，相关排放系统的设置方式则为相关业者所熟知且非本案重点，于此不予赘述并暂不表示。该回流单元16则是包括有一显影管路组161与一过滤管路组162。该显影管路组161与过滤管路组162的一端皆是开设于该集液槽15的底缘，其中，该显影管路组161的另一端则是设置于该等基板12的上方处，并形成一喷洒头163；该过滤管路组162的另一端则是连通于该集液槽15。
各基板12在进入该显影处理室11之前，其表面是涂布有已完成曝光处理，而被区分为欲去除的光阻剂121及欲保留的光阻剂122。当一基板12自该显影处理室11外，被运行至喷洒出显影溶液14的喷洒头163下方时，该欲去除的光阻剂121则被该显影溶液14而洗除，并达到显影的目的；之后，该显影溶液14将溶有该欲去除的光阻剂121并随着重力而回落至该集液槽15中。
该计数单元2是用以计数经显影的基板12的数量而获得一计数值，于此，该计数单元2是为一光计数计。该控制单元3是包括有一马达控制器31，及一用以获知该集液槽15中显影溶液14的液位高度，并连控于该马达控制器31的液位侦测器32。
该补充单元4包括有一具有一约为25重量％的浓度的TMAH的补充液41、一容置该补充液41的补充槽42、一连通于该补充槽42与集液槽15的补充管路43，及一设置在该补充管路43上以控制该补充液41的输出量的流量阀44；其中，该补充液41是经由该补充管路43而被输送至该集液槽15内。
该马达控制器31是连控于该计数单元2及流量阀44，以依据该计数值而操控该流量阀44的启闭程度；由此，该补充液41将随着该计数值及该液位侦测器32的液位测定，而适量地被供应至该集液槽15内。
参见图1、图2，该消泡单元5是包括有复数沿着该运行单元13而并排地装设在其下方的消泡板51，及设置于该等消泡板51下方的吸附材52。各消泡板51为一形成有复数供该显影溶液14通过的通孔511，且为耐酸碱的材质所制成的板体；该吸附材52则为不织布。
由于在显影过程中，当该显影溶液14反复溶洗光阻剂，将会伴随收集其所含有的接口活性剂，并且因反复喷洒受力而产生越来越多的泡沫，而泡沫会陆续残留在该运行单元13上，逐渐地让被输送的各基板12与该等滚轴131接触面的摩擦力不足，使得基板12无法顺利地被运行。而由该消泡单元5的设置，将可于该显影溶液14通过时，吸附其中的接口活性剂并消除泡沫，以舒缓其所产生的负面影响。
参见图1，该过滤单元6是可将所滤集的杂质排除，其是设置在该过滤管路组162上，供该显影溶液14流经而滤除所含的光阻剂121后再流回该集液槽15内，而让该显影溶液14中的光阻剂121浓度在0.001重量％以下。该过滤单元6是包括有供该显影溶液14依序通过的超滤膜61、可将TMAH电解成四甲基铵离子(TAA+)及氢氧离子(OH-)的电气透析设备或电解设备62，以及可吸附光阻剂成分的离子交换树脂管柱63；由各式用以过滤及纯化的组件，将可确实地将该显影溶液14中的光阻剂121浓度控制在0.001重量％以下，有效延缓该显影溶液14的劣化程度。
厂商可依据其各自的制程经验而设定该马达控制器31，于此例举仅供说明而非限制的两种方式，来决定启闭该流量阀44的时机与开启程度1、事先测定显影若干片同规格的基板12上欲去除的光阻剂121所会消耗的TMAH量，并计算平均显影一片基板12所需供应至该集液槽15中的补充液41量a；2、设定该马达控制器31，使其得以连控于该流量阀44，而得以由一片一次地提供补充液41量a，或是多片一次(例如显影300片后提供补充液41量300a)的批次式方法，对该集液槽15添加补充液41量。
再者，在进行上述的TMAH补充时，该消泡单元5与过滤单元6亦同步地进行消泡步骤与过滤步骤，使得该控制单元3与补充单元4可单纯地依据已显影的基板片数，提供预定量的补充液于该集液槽15中，而让该显影溶液14的TMAH维持于2.38重量％的浓度。
因此，该显影装置1中的集液槽15内的显影溶液14，将依顺着该回流单元16而被输送，另并同步地经过本发明显影溶液回收处理装置的过滤单元6以滤除掉其中的光阻剂121与其它杂质残渣后，继而被输送至待显影的各基板12的上方处后，流出该喷洒头163以冲洒于该等基板12，溶洗其上的欲去除的光阻剂121，遗留形成有特定图谱的光阻剂122。之后，该显影溶液14将会通过该消泡单元5以消除泡沫，继而被回收至该集液槽15内。
而透过该计数单元2所测得的计数值，以及马达控制器31的联机控制，使该流量阀44依该计数值而被适时且适度地启闭，以输送适量的补充液41至该集液槽15中，而因为该过滤单元6已将光阻剂121及其它杂质去除，是以该控制单元3及补充单元4得以单纯地就该计数单元2所获得的计数值，而调控欲提供至该补充槽15的补充量，使得该显影溶液14中TMAH得以维持在该适当浓度。
由以上说明，可知本发明是由计数经显影的基板12数量，来决定该补充单元4中流量阀44的作动时机及启闭程度，由此将适量的补充液41提供至该集液槽15内，以使其中的显影溶液14中的TMAH维持在2.38重量％。另配合消泡单元5与过滤单元6的设置，将可使该等基板12被运行地更顺畅，且同步地滤除该显影溶液14中的杂质，于是除了可精准地掌控该显影溶液中TMAH的浓度以外，并具有可延缓该显影溶液14的劣化速率、增长使用时限、增进作业流畅度、降低厂商的相关成本负荷，提升产品后续良率等优点。
惟以上所述的，仅为本发明的较佳实施例而已，当不能以此限定本发明实施的范围，即凡是依本发明申请专利范围及发明说明内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本发明专利涵盖的范围内。
权利要求
1.一种显影溶液回收处理装置，是装设在一用以运行涂布有光阻剂以待显影的各基板的显影装置上；该显影装置包含有一用以运行各基板的运行单元、一设置于该运行单元下方并容装含有一碱化合物的显影溶液的集液槽，及连通该集液槽并使该显影溶液循环地至各基板上以洗除各基板上的光阻剂的回流单元；其特征在于，该显影溶液回收处理装置则包含有一计数单元，用以计数经显影的基板数量而获得一计数值；一补充单元，是连接于该集液糟，并提供一含碱化合物的补充液至该集液槽；以及一控制单元，是连控该计数单元及该补充单元，并依据该计数值来操控该补充单元的该含碱化合物的补充液供应至该集液槽的量。
2.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该补充单元包括具有该含碱化合物的补充液、一容置该补充液的补充槽、一连通于该补充槽与该集液槽的一补充管路，及一设置在该补充管路上以控制该补充液的输出量的一流量阀；其中，该补充液是被输送至该集液槽内，且该补充液中碱化合物的浓度是大于该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度。
3.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该控制单元是包括有择自于以下所构成的群组马达控制器、PID控制器、PI控制器，以及DCS控制器。
4.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中还包含有一设置在该显影装置的运行单元下方，供该显影溶液通过以消除其泡沫的消泡单元。
5.依据权利要求4项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该消泡单元是为一消泡板与一设置于该消泡板的一吸附材，该消泡板为一形成有复数供该显影溶液通过的通孔，且为耐酸碱的材质所制成。
6.依据权利要求1项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中还包含有一连接该集液槽的一过滤单元，其是设置在该显影装置的該回流单元上，以供该显影溶液流经而滤除所含的光阻剂与杂质后再流回至该集液槽内，而使该显影溶液中的光阻剂浓度在0.001重量％以下。
7.依据权利要求6项所述的显影溶液回收处理装置，其特征在于，其中，该过滤单元是包括有择自于以下所构成的群组微滤膜、超滤膜、纳米滤膜、逆渗透膜、离子交换树脂管柱、电气透析设备、电解设备，以及此等的组合。
8.一种显影溶液回收处理方法，是在一欲显影涂布有光阻剂的各基板的显影装置内部与外部实施，其含有一容装含有碱化合物的显影溶液的集液槽；其特征在于，该显影溶液回收处理方法包含的步骤为一计数步骤是以一计数单元来计数已显影过的基板，而获得一计数值；以及一补充步骤是以一控制单元对应该计数值，而调控一含有碱化合物补充液的补充单元，使其将该含碱化合物补充液适度地提供至该集液槽内，并维持该集液槽内显影溶液中碱化合物的浓度控制在2.5重量％以下。
9.依据权利要求8项所述的显影溶液回收处理方法，其特征在于，其中还包含一消泡步骤，其是以一消泡单元来消除该显影溶液的泡沫。
10.依据权利要求8项所述的显影溶液回收处理方法，其特征在于，其中还包含一过滤步骤，其是以一过滤单元来过滤该显影溶液，以使其所含的光阻剂浓度控制在0.0O1重量％以下。
全文摘要
一种显影溶液回收处理方法，以将显影溶液中碱化合物控制在一适当浓度，该显影溶液是重复溶洗复数基板上的欲去除的光阻剂，包含以一计数单元来计数已显影的基板而获得一计数值的计数步骤，及以一控制单元来就计数值，适度调控一含有碱化合物补充液的补充单元的补充步骤；本发明亦请求一显影溶液回收处理装置，包含有一计数单元、一补充单元，及一控制单元；由此装置的运作而可有精确掌控该显影溶液浓度值、降低成本、延缓显影溶液劣化等功效。
文档编号G03F7/26GK1991594SQ20051013520
公开日2007年7月4日 申请日期2005年12月27日 优先权日2005年12月27日
发明者蔡宏明 申请人:奇美实业股份有限公司