专利名称：一种超薄液晶盒的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种液晶盒的制作方法。
背景技术：
为了更多的减少重量和节约电路的利用空间，需要将液晶显示器件作得更薄，这些主要应用在超薄手机上。
要制作超薄液晶显示器件，就需要制作超薄的液晶盒，目前主要有两种方法。
第一种方法就是直接采用超薄透明基板制作液晶盒，如采用0.35mm或0.3mm的透明基板(ITO玻璃)，使用正常的液晶生产工艺进行生产。此种制作方法的优点就是生产工艺不需改变，但是此种方法具有很大的局限性，一是因为对于透明基板生产厂家来说，在目前设备条件下，厚度小于0.4mm透明基板很难生产；二是因为对于液晶器件制作厂家来说，在目前设备条件下，厚度小于0.4mm透明基板几乎不能进行工艺处理，因为透明基板太薄，机械强度大大减少，因此在前面的清洗、贴盒等工序中都会直接导致透明基板的破碎。
第二种方法就是机械研磨、抛光方法制作液晶盒，通过CeO2(二氧化铈)抛光粉将单个液晶显示器件的厚度减薄。此种方法虽然没有设备和工艺的限制，但是因为在研磨、抛光过程中，巨大的应力会直接影响到液晶显示器件内部的PI(Plyimide)配向层，引起显示紊乱。同时由于在研磨过程中会划伤引线，因此良品率也受到限制。
发明内容本发明就是为了解决现有技术中工艺要求高、良品率低的问题，提出了一种制作超薄液晶盒的方法。
为实现上述目的，本发明提供了一种超薄液晶盒的制作方法，包括如下步骤A、对透明基板进行预制备；B、丝印边框胶和导电点，同时丝印防水防腐保护框；C、将上下透明基板贴合形成液晶盒；
D、通过高温高压将边框胶、导电点和防水防腐保护框固化；E、用化学腐蚀剂对液晶盒进行化学腐蚀，一直蚀刻到所需要的透明基板厚度，形成超薄液晶盒。
优选的是，在步骤A中所述预制备包括步骤A1、在透明基板上涂光刻胶，依次进行曝光，显影；A2、将光刻胶固化后进行酸刻操作，刻出点阵图形和引线等所需图案；A3、制作配向层。
防水防腐保护框为液晶盒四周边框上的防水防酸保护框。
优选的是，在步骤B之前，先利用曝光技术生产制作防水防酸保护框所需要的丝网。
进一步优选的是，在步骤B中，丝印防水防酸保护框的方法是通过丝网将防水防酸涂料印刷到透明基板上。
所述防水防酸涂料是正常液晶生产过程所用到的边框胶。
优选的是，化学腐蚀剂主要成份为氢氟酸、盐酸、硝酸以及少量的表面活性剂。
进一步优选的是，化学腐蚀剂主要成份的浓度范围为氢氟酸10-20％，盐酸1-2％，硝酸5-10％，其余为水和表面活性剂。
化学腐蚀时的温度范围为20℃-50℃。
一种超薄液晶盒的制作方法，包括如下步骤在透明基板上丝印防水防腐保护框，将上下透明基板贴合形成液晶盒，用化学腐蚀剂对液晶盒进行化学腐蚀，一直蚀刻到所需要的透明基板厚度，形成超薄液晶盒。
防水防腐保护框为液晶盒四周边框上的防水防酸保护框。
丝印防水防酸保护框的方法是先利用曝光技术生产制作防水防酸保护框所需要的丝网，通过丝网将防水防酸涂料印刷到透明基板上，防水防酸涂料是正常液晶生产过程所用到的边框胶。
化学腐蚀剂主要成份为氢氟酸、盐酸、硝酸以及少量的表面活性剂。浓度范围为氢氟酸10-20％，盐酸1-2％，硝酸5-10％，其余为水和表面活性剂，化学腐蚀时的温度范围为20℃-50℃。
本发明的有益效果是
由于在本发明所提供的超薄液晶盒的制作方法中，在化学腐蚀步骤之前，透明基板厚度均是正常透明基板的厚度，因此不会造成超薄的透明基板在前面的工序中易破碎的现象，所以透明基板工艺要求不高。
本发明所提供的超薄液晶盒的制作方法，因为采用的化学腐蚀步骤是化学过程，可以通过控制化学腐蚀剂的浓度和温度来控制反应的剧烈程度，因此避免了机械研磨、抛光方法中所产生的巨大应力效应，不会造成显示紊乱。
本发明所提供的超薄液晶盒的制作方法，在化学腐蚀步骤前，利用正常液晶生产过程所用到的边框胶作为原料制作了防水防酸保护框，防水防酸保护框的作用是，在化学腐蚀时防止水和酸等杂质进入液晶盒母板，从而污染液晶盒、腐蚀ITO引线以及图案等。
本发明所提供的超薄液晶盒的制作方法，所采用的化学腐蚀剂的所有成份均是常用的普通化学试剂，价格便宜；由于对添加的生产设备没有很高的工艺要求，因此工艺简单、操作控制方便；除了化学腐蚀工艺与正常液晶生产工艺不同外，其它工艺基本相同，因此不需增加过多的生产设备，节省了生产成本。
本发明的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
图1为本发明实施例的步骤流程图；图2a为本发明实施例的上透明基板的结构图；图2b为本发明实施例的下透明基板的结构图；图3为本发明实施例的上下透明基板贴合后的液晶盒母板结构图；图4为本发明实施例的化学腐蚀前后液晶盒的厚度示意图。
图中1.上层透明基板，2.下层透明基板，3.液晶盒母板，4.液晶盒，5.防水防酸保护框。
具体实施方式
实施例一，如图1所示，超薄液晶盒的制作方法包括如下步骤第一步，用丙酮、超声波、酒精、纯净水、毛刷等先后清洗上、下层透明基板1和2，清除吸附在透明基板表面的各种有害杂质或油污，防止污染PI配向层以及液晶原材料。
第二步，在透明基板上涂光刻胶，预固化后进行曝光，显影，固化后进行酸刻(利用光刻胶的保护作用，用盐酸、硝酸以及纯净水形成的混合液蚀刻)，刻出点阵图形和引线等所需图案；
并且，利用曝光技术生产制作防水防酸保护框所需要的丝网。
第三步，在蚀刻完成后的透明基板表面滚涂PI配向材料，然后通过摩擦机摩擦形成PI配向层。
第四步，如图2a、2b所示，上层透明基板1和下层透明基板2，丝印好边框胶和导电点，同时丝印好防水防酸保护框5，防水防酸保护框位于液晶盒母板四周边框上。其中，丝印防水防酸保护框5时是采用的第二步中所制作的防水防酸保护框5所需要的丝网，将防水防酸涂料印刷到透明基板上。该防水防酸保护涂料为正常液晶生产过程所用到的边框胶，如三井公司的XN-665、XN-5A等。
第五步，如图3所示，把上层透明基板1和下层透明基板2对叠，利用封接材料贴合起来，制成间隙为特定厚度的液晶盒母板3(液晶盒母板3可分切成多个单个的液晶盒4)。
第六步，通过高温高压将边框胶、导电点和防水防酸保护框5完全固化。
第七步，如图4所示，将上述步骤中经贴合、固化形成的液晶盒母板(该液晶盒包括相互面对的形成有透明电极的第一透明基板和第二透明基板。)进行化学腐蚀，一直蚀刻到所需要的透明基板厚度。化学腐蚀剂为氢氟酸、盐酸、硝酸以及少量的表面活性剂的混合液，化学腐蚀剂主要成份的浓度范围为氢氟酸10-20％，盐酸1-2％，硝酸5-10％，其余为水和表面活性剂，优选的是，其浓度百分比为氢氟酸20％、盐酸2％、硝酸10％、表面活性剂0.5％、其余为纯净水。超薄液晶盒的厚度由蚀刻速度和时间来控制，蚀刻时间越长厚度越小，蚀刻速度则由化学腐蚀剂的浓度和温度两个参数来控制。化学腐蚀的温度范围为20℃-50℃，优选的蚀刻温度为22+/-2度。蚀刻速度范围为4-15.4um/min，优选的蚀刻速度约为10um/min。化学蚀刻前液晶盒的厚度为1.02mm，经过20分钟的化学蚀刻后，液晶盒母板的厚度削减为0.81mm。蚀刻结果如表1所示，蚀刻前平整度(波峰-波谷)为0.075-0.072mm，蚀刻后平整度(波峰-波谷)为0.061-0.059mm，所以化学蚀刻后，没有影响透明基板的高平整度，可以达到+/-30um的技术要求。
第八步，用清洗液将化学腐蚀剂以及腐蚀所产生的废物清洗干净，然后烘干，以免残留物对以后的工序造成影响。
第九步，将以上步骤所生产的大片液晶盒母板3切割成所需的一个一个的液晶盒4。
此后，在第一透明基板和第二透明基板之间密封液晶，并在透明基板的外侧板面附着偏光片后，即形成液晶显示器。
表1
实施例二，与实施例一的不同之处在于，在步骤七，将蚀刻后的厚度设定为0.6mm，化学蚀刻前液晶盒母板的厚度为1.03mm，化学腐蚀剂浓度百分比为氢氟酸20％、盐酸2％、硝酸10％、表面活性剂0.5％、其余为纯净水，蚀刻温度为22+/-2度，经过40分钟的化学蚀刻，液晶盒母板的厚度削减为0.59mm。蚀刻结果如表1所示，蚀刻前平整度(波峰-波谷)为0.080-0.075mm，蚀刻后平整度(波峰-波谷)为0.051-0.045mm，所以化学蚀刻后，没有影响透明基板的高平整度，可以达到+/-30um的技术要求。
本方法相对于现有的超薄液晶制作方法，具有工艺要求低，成本低，良品率高等特点。利用本方法，可以制作厚度小于1.0mm的超薄液晶显示器，包括液晶盒和上下偏光片。可以制作的超薄液晶显示器类型包括TN、STN、FSTN、CSTN、TFT等各种液晶显示器件。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明由所提交的权利要求书确定的专利保护范围。
权利要求
1.一种超薄液晶盒的制作方法，其特征在于包括如下步骤A、对透明基板进行预制备；B、丝印边框胶和导电点，同时丝印防水防腐保护框；C、将上下透明基板贴合形成液晶盒；D、通过高温高压将边框胶、导电点和防水防腐保护框固化；E、用化学腐蚀剂对液晶盒进行化学腐蚀，一直蚀刻到所需要的透明基板厚度，形成超薄液晶盒。
2.如权利要求1所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，在步骤A中所述预制备包括步骤A1、在透明基板上涂光刻胶，依次进行曝光，显影；A2、将光刻胶固化后进行酸刻操作，刻出点阵图形和引线等所需图案；A3、制作配向层。
3.如权利要求1或2所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，所述防水防腐保护框为液晶盒四周边框上的防水防酸保护框。
4.如权利要求3所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，在步骤B之前，先利用曝光技术生产制作防水防酸保护框所需要的丝网。
5.如权利要求4所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，在步骤B中，丝印防水防酸保护框的方法是通过丝网将防水防酸涂料印刷到透明基板上。
6.如权利要求5所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，所述防水防酸涂料是正常液晶生产过程所用到的边框胶。
7.如权利要求1所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，步骤E中，化学腐蚀剂主要成份为氢氟酸、盐酸、硝酸以及少量的表面活性剂。
8.如权利要求7所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，化学腐蚀剂主要成份的浓度范围为氢氟酸10-20％，盐酸1-2％，硝酸5-10％，其余为水和表面活性剂。
9.如权利要求1所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，化学腐蚀时的温度范围为20℃-50℃。
10.一种超薄液晶盒的制作方法，其特征在于包括如下步骤在透明基板上丝印防水防腐保护框，将上下透明基板贴合形成液晶盒，用化学腐蚀剂对液晶盒进行化学腐蚀，一直蚀刻到所需要的透明基板厚度，形成超薄液晶盒。
11.如权利要求10所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，所述防水防腐保护框为液晶盒四周边框上的防水防酸保护框。
12.如权利要求11所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，丝印防水防酸保护框的方法是先利用曝光技术生产制作防水防酸保护框所需要的丝网，通过丝网将防水防酸涂料印刷到透明基板上，防水防酸涂料是正常液晶生产过程所用到的边框胶。
13.如权利要求10所述的超薄液晶盒的制作方法，其特征在于，化学腐蚀剂主要成份为氢氟酸、盐酸、硝酸以及少量的表面活性剂。浓度范围为氢氟酸10-20％，盐酸1-2％，硝酸5-10％，其余为水和表面活性剂，化学腐蚀时的温度范围为20℃-50℃。
全文摘要
本发明提供了一种超薄液晶盒的制作方法，包括如下步骤在透明基板上涂光刻胶，依次进行曝光，显影和酸刻操作，制作配向层，丝印边框胶、导电点和防水防腐保护框，将上下透明基板贴合形成液晶盒，通过高温高压将边框胶、导电点和防水防腐保护框固化，用化学腐蚀剂对液晶盒进行化学腐蚀，一直蚀刻到所需要的透明基板厚度，形成超薄液晶盒。本发明解决了现有技术工艺要求高、良品率低的问题。
文档编号G02F1/13GK101089688SQ20061002121
公开日2007年12月19日 申请日期2006年6月14日 优先权日2006年6月14日
发明者林秦, 李作坤, 何志奇 申请人:比亚迪股份有限公司