专利名称：彩色滤光片基板的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种彩色滤光片基板的制作方法，尤指一种提升彩色滤光片基板生产良率的制作方法。
背景技术：
为加强液晶显示面板的功能多样性及改善显示质量，现今已有于彩色滤光片基板设置双面结构的制程技术的发展。举例而言，在广视角技术的平面内转换型an-Plane Switching, IPS)面板以及边缘电场转换型(Fringe Field Switching, FFS)面板中，可于彩色滤光片基板面对显示面的一侧增设透明导电层以减少电荷的累积，此抗静电处理可避免静电对广视角技术面板的显示质量造成影响。另外，在电容式触控液晶显示面板中，可设置透明导电层于彩色滤光片基板面对显示面的一侧，以形成触控感应垫层。由上述可知，液晶显示面板发展的相关技术中，常见需于彩色滤光片基板面对液晶分子的入光面的相对一侧，也就是面对显示面的一侧，另外形成一透明导电层。然而在进行此一面对显示面的透明导电层的制程时，将可能对彩色滤光片基板上面对入光面的已形成的结构造成化学上或物理上的损伤，因此，如何避免此类异常对具有双面结构的彩色滤光片基板的良率影响为相关技术者所关注的议题。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种彩色滤光片基板的制作方法，以增加彩色滤光片
基板生产良率。本发明的第一较佳实施例提供一种制造彩色滤光片基板的方法，包括下列步骤。 提供一基板，且基板具有一第一表面及一第二表面。形成复数个色阻单元于基板的第二表面上。形成一保护结构于基板的第二表面上，且此保护结构覆盖色阻单元。翻转基板。形成一透明导电层于基板的第一表面上。最后，以一剥除手段去除保护结构。本发明的第二较佳实施例提供一种制造彩色滤光片基板的方法，包括下列步骤。 提供一基板，且基板具有一第一表面及一第二表面。形成一第一透明导电层于基板的第一表面上。形成一第一保护结构于基板的第一表面上，且第一保护结构覆盖第一透明导电层。 翻转基板。形成复数个色阻单元于基板的第二表面上。形成一第二透明导电层于基板的第二表面上。形成一第二保护结构于基板的第二表面上，且第二保护结构覆盖第二透明导电层与色阻单元。再次翻转基板。图案化第一透明导电层。最后，以一剥除手段去除第一保护结构及第二保护结构。本发明在具有双面结构的彩色滤光片基板制造过程中，使用一保护结构覆盖位于同一表面上的已形成结构，当基板的另一相对表面上进行制程时，保护结构可避免覆盖的已形成结构因非预期的影响而损伤，并在彩色滤光片基板的双面结构完成后，将此保护结构去除。本发明保护结构的设置有助于维护制程中各已形成组件的功能完整，藉以提升彩色滤光片基板的生产良率。
图1至图5绘示了本发明第一较佳实施例的制造彩色滤光片基板的方法示意图。图6至图10绘示了本发明第二较佳实施例的制造彩色滤光片基板的方法示意图。主要组件符号说明
10基底12第一表面14第二表面16色阻单元18黑色矩阵层20平坦层22光阻间隙子24保护结构26透明导电层28滚轮30第一透明导电层32第一保护结构34第二透明导电层36第二保护结构
具体实施例方式请参考图1至图5，图1至图5绘示了本发明第一较佳实施例的制造彩色滤光片基板的方法示意图。如图1所示，首先，提供一基板10，基板10的材料可为玻璃或其它透光材料例如透明高分子材料，但不以此为限，且基板10具有一第一表面12及一第二表面14， 此时，将基板的第二表面14朝上。接着，形成复数个色阻单元16于基板10的第二表面14 上。色阻单元16的材料可为染色型树脂，用以将入射光染为所需色光，例如红光、绿光或蓝光。在第二表面上14也可选择性形成一黑色矩阵层18 (Black matrix)于各色阻单元16 之间，用以阻隔相邻色阻单元16的入射光的漏光，本实施例的黑色矩阵层18可在色阻单元 16形成之前设置，但不以此为限，黑色矩阵层18也可在色阻单元16形成之后设置，或设置于相对的另一基板(图未示)上。然后，选择性形成一平坦层20于第二表面14上，平坦层 20位于色阻单元16及黑色矩阵层18上用以提供一平整面，平坦层20可为透明绝缘材料例如树脂，但不以此限。此外，也可选择性形成至少一光阻间隙子22 (Photo spacer)于平坦层20上，用以维持基板10及相对基板的另一基板之间的固定间距。如图2所示，形成一保护结构M于基板10的第二表面14上，且保护结构M可全面性覆盖第二表面14与位于第二表面上14已形成的各结构例如黑色矩阵层18、色阻单元16、平坦层20以及光阻间隙子22等。保护结构M的材料可包括酚醛树脂，其组成成份比例例如酚醛树脂15%至25%，尤以17%为较佳；光反应起始剂(Wioto-initiatoiOO. 5% 至3%，尤以2. 2%为较佳；以及溶剂例如丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)大于70%，尤以80. 8%为较佳，但不以此为限。在保护结构对覆盖第二表面上14所有已形成结构后，如图3所示， 翻转基板10，使基板10的朝上面转为第一表面12，此时，相对第一表面12的第二表面14 由图1至图2中的基板的朝上面转为基板10的朝下面。翻转动作可藉由机械手臂完成，将基板10进行180度旋转，但不以此为限，值得注意的是，任何可将基板10朝向固定方向的原始面改为与原始面相对的另一平面的动作皆属此处所述的翻转，此外，文中所述的朝上面、朝下面、第一表面及第二表面皆为相对位置的描述，也就是说朝上面、朝下面、第一表面及第二表面的垂直轴可沿立体空间中的任一方向。在经过翻转使第一表面12朝上后，如图4所示，形成一透明导电层沈于基板10的第一表面12上，透明导电层沈的材料可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)，但不以此为限。值得注意的是，形成透明导电层26的手段例如可采用一氧化铟锡溅镀制程，但不以此为限，在此过程中，反应机台的传送用机械手臂(图未示)及滚轮观会与基板10的朝下面有所接触，覆盖基板10的第二表面14 (目前基板的朝下面)的保护结构M可做为一缓冲层，以释放接触点的应力，避免其直接作用于第二表面14上的已形成结构造成破坏， 例如刮伤Scratch)或轮痕(Roller mark)等等。在第一表面12完成透明导电层沈的制作后，如图5所示，以一剥除手段去除第二表面14上的保护结构M，例如可使用一碱性剥除液除去保护结构对，碱性剥除液的成分包括氢氧化钾(KOH)，但不以此为限。至此，完成本发明第一较佳实施例的彩色滤光片基板。当此彩色滤光片基板提供于液晶显示器包括平面内转换型面板或边缘电场转换型面板时，透明导电层26可作为一静电防护层。在本实施例中，保护结构M全面覆盖其下方所有已形成的结构，于第一表面12进行透明导电层26制程时，提供具有保护结构M的第二表面14完整防护，使位于第二表面 14上的已形成结构不会与化学反应气体或是机台机械组件直接接触，避免非预期的异常发生，有利于后续彩色滤光片基板的生产良率。本发明的彩色滤光片基板并不以上述实施例为限。下文将依序介绍本发明的其它较佳实施例的彩色滤光片基板制作方法，且为了便于比较各实施例的相异处并简化说明， 在下文的各实施例中使用相同的符号标注相同的组件，且主要针对各实施例的相异处进行说明，而不再对重复部分进行赘述。请参考图6至图10，图6至图10绘示了本发明第二较佳实施例的制造彩色滤光片基板的方法示意图。如图6所示，首先，提供一基板10，基板10具有一第一表面12及一第二表面14，且将基板的第一表面12朝上。接着，形成一第一透明导电层30于基板10的第一表面12上，第一透明导电层30的材料可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)，但不以此为限。然后，形成一第一保护结构32于基板10的第一表面12上，此时，第一透明导电层 30位于第一保护结构32与基板10之间。第一保护结构32的材料包括酚醛树脂，其组成成份比例例如酚醛树脂15%至25%，尤以17%为较佳；光反应起始剂(Wioto-initiatoiOO. 5% 至3%，尤以2. 2%为较佳；以及溶剂例如丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)大于70%，尤以80. 8%为较佳，但不以此为限。第一保护结构32可选择性进行一图案化制程，例如使用一光罩搭配微影暨蚀刻制程。在其它实施例中，第一保护结构可不进行图案化制程，或是于后续制程中再进行图案化。接着，如图7所示，翻转基板10，使基板10的朝上面转为第二表面14，此时，相对第二表面14的第一表面12会由第6图中的基板的朝上面转为基板10的朝下面，也就是说，经过翻转后，第一透明导电层30以及第一保护结构32会位于基板10的朝下面。翻转动作可藉由机械手臂完成，将基板进行180度旋转，但不以此为限，值得注意的是，任何可将基板10朝向固定方向的原始面改为与原始面相对的另一平面的动作皆属此处所述的翻转，此外，文中所述的朝上面、朝下面、第一表面及第二表面皆为相对位置的描述。使第二表面14朝上后，请继续参考图7，与第一实施例相同依序形成复数个色阻单元16、选择性形成一黑色矩阵层18以及选择性形成一平坦层20于基板10的第二表面14 上。与第一实施例不同之处在于本实施例中另形成一第二透明导电层34于基板10的第二表面上14，第二透明导电层34的材料可包括氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)，但不以此为限。值得注意的是，在本实施例中，基板10的第一表面12具有第一保护结构32，可对其下方的第一透明导电层30提供保护，使第一透明导电层30在第二表面14进行上述制程时不受到影响，例如在形成第二透明导电层34例如进行一氧化铟锡溅镀制程时，第一保护结构32可做为缓冲层，使第一透明导电层30不会直接接触反应机台的传送用机械手臂(图未示)及滚轮观，避免第一透明导电层30上发生刮伤或轮痕等缺陷。在其它实施例中，第二透明导电层34也可选择性进行一图案化制程，第一保护结构32在第二透明导电层34进行图案化制程时，可作为一屏蔽层，隔绝光阻液、蚀刻液或是清洗液等化学溶剂接触第一表面12上受第一保护结构32覆盖的第一透明导电层30，避免第一透明导电层30发生未预期的化学反应引起的结构毁损或化学溶剂残留。另外，再形成一第二保护结构36于基板10的第二表面14上，且第二保护结构36 覆盖所有已形成于第二表面14上的结构，举例而言，第二透明导电层34、平坦层20、色阻单元16以及黑色矩阵层18等。第二保护结构的36材料包括酚醛树脂，其组成成份比例例如酚醛树脂15%至25%，尤以17%为较佳；光反应起始剂(Photo-initiator) 0. 5%至3%，尤以 2. 2%为较佳；以及溶剂例如丙二醇单甲基醚酯(PGMEA)大于70%，尤以80. 8%为较佳，但不以此为限。随后，如图8所示，再次翻转基板10，使基板10的朝上面转为第一表面12，此时， 相对第一表面12的第二表面14会由第7图中的基板10的朝上面转为基板10的朝下面， 也就是说，经过此翻转后，第一透明导电层30以及第一保护结构32目前位于基板10的朝上面。接下来，如图9所示，对第一透明导电层30进行一图案化制程。在本实施例中，第一保护结构32已进行过图案化，因此可使用已图案化的第一保护结构32作为蚀刻屏蔽，定义第一透明导电层30的图案。在其它实施例中，例如在第一保护结构尚未进行图案化的实施例，则可对未图案化的第一保护结构与第一透明导电层使用相同光罩以定义出相同图案，但不以此为限。值得注意的是，在本实施例中，基板10的第二表面14具有第二保护结构36，可对其覆盖的第二表面14提供保护，使第二表面14上已形成的各结构在基板10的第一表面12进行其它制程时不受到影响，例如第二保护结构36可做为缓冲层，使第二表面 14上已形成的各结构不会直接接触反应机台的传送用机械手臂(图未示)及滚轮观，避免第二表面14上已形成的各结构发生刮伤或轮痕等缺陷。此外，第二保护结构36在第一透明导电层30进行图案化制程时，也可做为一屏蔽层，隔绝光阻液、蚀刻液或是清洗液等化学溶剂接触第二表面14上已形成的各结构，避免第二表面上14已形成的各结构发生未预期的化学反应引起的结构毁损或化学溶剂残留。分别位于基板10的第一表面12及第二表面14的双面结构设置完成后，如图10所示，同时以一剥除手段去除第一保护结构32及第二保护结构36，例如使用一碱性剥除液， 碱性剥除液的成分包括氢氧化钾(KOH)，但不以此为限。值得注意的是，第一保护结构32及第二保护结构36于接触光阻液、蚀刻液或是清洗液时，需维护其下方的各已形成结构的完整，因此，第一保护结构32及第二保护结构36的材料需具低化学活性，尤以耐酸性材料为佳，且为能以碱性剥除液去除，第一保护结构32及第二保护结构36的材料更佳为同时具备耐酸性及不耐碱性。至此，完成本发明第二较佳实施例的彩色滤光片基板。当此彩色滤光片基板应用在电容式触控面板时，第一透明导电层30可为一触控感应垫层，用于侦测触控发生时的电容改变，并藉此电容改变量计算出触控点所在位置。综上所述，本发明在具有双面结构的彩色滤光片基板制造过程中，使用一耐酸不耐碱性质的保护结构覆盖位于同一表面上的已形成结构，当基板的另一相对表面上进行制程时，保护结构可避免覆盖的已形成结构因非预期的影响而损伤，并在彩色滤光片基板的双面结构完成后，以碱性剥除液将此保护结构去除。本发明保护结构的设置有助于维护制程中各已形成组件的功能完整，藉以提升彩色滤光片基板的生产良率。以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。
权利要求
1.一种制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于，包括 提供一基板，该基板包含一第一表面及一第二表面； 形成复数个色阻单元于该基板的该第二表面上；形成一保护结构于该基板的该第二表面上，且该保护结构覆盖该等色阻单元； 翻转该基板；形成一透明导电层于该基板的该第一表面上；以及以一剥除手段去除该保护结构。
2.根据权利要求1所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述保护结构是全面性覆盖该基板的该第二表面与该等色阻单元。
3.根据权利要求1所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述保护结构的材料包括酚醛树脂。
4.根据权利要求1所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于其中于形成该保护结构之前，另包括形成一平坦层于该基板的该第二表面上，且该保护结构覆盖该平坦层。
5.根据权利要求4所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于其中于形成该保护结构之前，另包括形成至少一光阻间隙子于该平坦层上，且该保护结构覆盖该光阻间隙子。
6.根据权利要求1所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述透明导电层包括一静电防护层。
7.根据权利要求1所述的制造彩色滤光片基板的方法，其中该剥除手段包括以一碱性剥除液除去该保护结构。
8.—种制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于，包括 提供一基板，该基板包含一第一表面及一第二表面； 形成一第一透明导电层于该基板的该第一表面上；形成一第一保护结构于该基板的该第一表面上，且该第一保护结构覆盖该第一透明导电层；翻转该基板；形成复数个色阻单元于该基板的该第二表面上； 形成一第二透明导电层于该基板的该第二表面上；形成一第二保护结构于该基板的该第二表面上，且该第二保护结构覆盖该第二透明导电层与该等色阻单元； 翻转该基板；图案化该第一透明导电层；以及以一剥除手段去除该第一保护结构及该第二保护结构。
9.根据权利要求8所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于另包括对该第一保护结构进行一图案化制程。
10.根据权利要求9所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述图案化制程是于形成该等色阻单元之前进行。
11.根据权利要求9所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述图案化制程是于形成该第二保护结构之后进行。
12.根据权利要求8所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述第一保护结构及该第二保护结构的材料包括酚醛树脂。
13.根据权利要求8所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于另包括于形成该第二透明导电层之前，先形成一平坦层于该基板的该第二表面上。
14.根据权利要求8所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述第一透明导电层包括一触控感应垫层。
15.根据权利要求8所述的制造彩色滤光片基板的方法，其特征在于所述剥除手段包括以一碱性剥除液除去该第一保护结构及该第二保护结构。
全文摘要
本发明涉及一种彩色滤光片基板的制作方法，包括下列步骤。提供一基板，且基板具有一第一表面及一第二表面。形成复数个色阻单元于基板的第二表面上。形成一保护结构于基板的第二表面上，且此保护结构覆盖色阻单元。翻转基板。形成一透明导电层于基板的第一表面上。最后，以一剥除手段去除保护结构。
文档编号G02F1/1335GK102213862SQ201110173078
公开日2011年10月12日 申请日期2011年6月24日 优先权日2011年6月24日
发明者汤逢锦, 洪文进, 谢文仁 申请人:中华映管股份有限公司, 福州华映视讯有限公司