专利名称：非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液的制作方法
技术领域：
本发明涉及化学技术领域，尤其涉及一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液。
背景技术：
光刻技术作为半导体产业的关键技术之一，在半导体加工领域具有非常广泛的应用。以平板显示技术为例，平板显示技术中精细图案的获得，一般是通过光刻技术实现。光刻技术包括光刻胶的曝光、显影等エ艺，由于光刻胶在曝光前后在显影液的溶解性能会有不同，因此，进行曝光后，光刻胶的曝光区与未曝光区依赖于溶解性能的不同，分为可溶区和不溶区，可溶区溶于光刻胶显影液，而不溶区留下，即光刻胶可以根据曝光的图形选择性的溶于光刻胶显影液，从而形成需要的图形。而为了获得良好的图案，需要对光刻胶进行高 精度的显影，因此对光刻胶显影液的显影性提出更高的要求。但通常情况下，光刻胶为疏水性，曝光后由于光刻胶的可溶区被不可溶区包围，显影液很难充分接触到可溶区，尤其是两者边缘部分，造成图形边缘的可溶性光刻胶溶解并不充分，图案边缘部分显影性差，使显影液的显影性降低。现有技术中，为了提高显影液对光刻胶可溶区的溶解性，以提高显影液的显影性，通常在显影液中添加非离子表面活性剤，添加非离子表面活性剂能够改善显影液对光刻胶的润湿性，使曝光后光刻胶的可溶区具有了很好的溶解性。但添加非离子表面活性剂后，显影液对光刻胶的不溶区的溶解性常常也会相应变高，从而导致光刻胶不可溶区的表面和边缘也容易被显影液溶解，造成光刻图形畸变，从而影响显影液的显影性的有效提高。
发明内容
本发明的主要目的在于，提供一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液，能够有效提高光刻胶显影液的显影性。为达到上述目的，本发明采用如下技术方案本发明实施例提供了一种非离子表面活性剤，所述非离子表面活性剂为具有结构式I的物质；结构式I :
权利要求
1.一种非离子表面活性剤，其特征在于，所述非离子表面活性剂为具有结构式I的物质； 结构式I :
2.根据权利要求I所述的非离子表面活性剤，其特征在于，所述nl为5，所述n2为9，所述ml为10,所述m2为7。
3.根据权利要求I所述的非离子表面活性剤，其特征在于，所述nl为10，所述n2为15，所述ml为20，所述m2为15。
4.一种非离子表面活性剂的制备方法,其特征在于,包括 向四氢呋喃中加入2-溴丙基对苯酚、正丁基锂和三甲氧基硼，进行反应以得到第一生成物； 向四氢呋喃中加入所述第一生成物、苯基溴代こ烯醚、三苯基磷钯、八水合氢氧化钡和甲醇，进行反应以得到所述非离子表面活性剤。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述向四氢呋喃中加入2-溴丙基对苯酚、正丁基锂和三甲氧基硼，进行反应以得到第一生成物包括 将2-溴丙基对苯酚溶解在四氢呋喃中； 向所述溶解有2-溴丙基对苯酚的四氢呋喃中加入正丁基锂； 向所述溶解有2-溴丙基对苯酚并加入正丁基锂的四氢呋喃中加入三甲氧基硼，进行反应以得到第一生成物； 所述向四氢呋喃中加入所述第一生成物、苯基溴代こ烯醚、三苯基磷钯、八水合氢氧化钡和甲醇，进行反应以得到所述非离子表面活性剂包括 将所述第一生成物和苯基溴代こ烯醚溶解在四氢呋喃中； 向所述溶解有所述第一生成物和苯基溴代こ烯醚的四氢呋喃中加入三苯基磷钯、八水合氢氧化钡和甲醇，进行反应以得到所述非离子表面活性剤。
6.一种光刻胶显影液，包括碱性物质和去离子水，其特征在于，所述光刻胶显影液还包括至少ー种权利要求I至3中任一项所述的非离子表面活性剤。
7.根据权利要求6所述的光刻胶显影液，其特征在于，在所述光刻胶显影液中，所述碱性物质与所述去离子水的质量比为I : 10000至I : 100，所述非离子表面活性剂与所述去离子水的质量比为I : 200至2 25。
8.根据权利要求7所述的光刻胶显影液，其特征在于，在所述光刻胶显影液中，所述碱性物质与所述去离子水的质量比为I : 10000至I : 200，所述非离子表面活性剂与所述去离子水的质量比为I : 200至3 50。
9.根据权利要求8所述的光刻胶显影液，其特征在于，所述光刻胶显影液中，所述碱性物质与所述去离子水的质量比为3 1000，所述非离子表面活性剂与所述去离子水的质量比为I : 40。
10.根据权利要求8所述的光刻胶显影液，其特征在于，所述光刻胶显影液中，所述碱性物质与所述去离子水的质量比为3 1000，所述非离子表面活性剂与所述去离子水的质量比为3 100。
11.上述权利要求I至3中任意一项所述的非离子表面活性剂用于光刻胶显影液中的用途。
全文摘要
本发明实施例公开了一种非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液，为提高光刻胶显影液的显影性而发明。本发明公开的非离子表面活性剂，为具有结构式1的物质；结构式1在结构式1中R1代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素，R2代表氢、烷基、烷氧基、芳香基或卤素；n1为5至20的整数；n2为4至15的整数；m1为5至23的整数；m2为4至18的整数。本发明可用于光刻胶显影液中。
文档编号G03F7/32GK102652910SQ20111026084
公开日2012年9月5日 申请日期2011年9月5日 优先权日2011年9月5日
发明者李琳 申请人:京东方科技集团股份有限公司