专利名称：显示基板及其制造方法和具有其的显示面板的制作方法
显示基板及其制造方法和具有其的显示面板技术领域
本发明的实施方式总体而言涉及一种平板显示器。更具体而言，本发明的实施方式涉及一种显示基板，在其暴露的表面上具有减小的台阶差，以及制造该显示基板的方法和具有该显示基板的显示面板。
背景技术：
平板显示器的显示面板典型地包括多个像素以显示颜色。像素区域通常由光阻挡层限定，多个滤色器设置在像素区域中。
最近，随着像素尺寸缩小，光敏有机材料的使用不断增加，该光敏有机材料通过光刻工艺应用于光阻挡层和滤色器。
然而，光刻工艺典型地需要涂敷、曝光、显影和固化工艺，延长了显示基板的制造时间，并增加了其成本。
此外，如果有机材料应用于滤色器和光阻挡层，则在滤色器与光阻挡层之间的边界区域处可能发生高度上的台阶差，所以需要额外的工艺来形成覆盖层(overcoat layer)。发明内容
本发明的示范性实施方式提供一种显示基板，其是更平的或更平坦的，其暴露的表面在高度上的台阶差减小。
本发明的示范性实施方式还提供一种制造这种显示基板的方法。
本发明的示范性实施方式进一步提供一种具有这种显示基板的显示面板。
根据示范性实施方式，显示基板包括基底基板，具有多个像素区域，每个像素区域包括多个子像素区域；光阻挡层图案，设置在相邻的子像素区域之间；和多个滤色器图案，对应于子像素区域。
光阻挡层图案和多个滤色器图案的上表面共同形成大体上平的表面。
滤色器图案和光阻挡层图案的至少之一可以包括倒楔形边缘部分，与具有倒楔形边缘部分的图案相邻的图案的边缘部分可以是楔形的，从而在该倒楔形边缘部分的下部分处交叠倒楔形边缘部分。
光阻挡层图案可以具有基本上等于或小于滤色器图案的厚度的厚度。光阻挡层图案的厚度可以基本上等于滤色器图案的厚度，所以基底基板的暴露滤色器图案和光阻挡层图案的表面基本上是平坦的。
滤色器图案的高度可以基本上等于或大于光阻挡层图案的高度，光阻挡层图案的上表面与滤色器图案的边缘部分之间的交点的高度可以大于光阻挡层图案的上表面的其他部分的高度。
光阻挡层图案的边缘部分可以是楔形的，设置在光阻挡层图案之间的滤色器图案之一的边缘部分可以是倒楔形的，同时交叠光阻挡层图案的边缘部分。
光阻挡层图案的高度可以基本上等于或大于滤色器图案之一的高度，滤色器图案的上表面与光阻挡层图案的边缘部分之间的交点的高度可以大于滤色器图案的上表面的其他部分的高度。
滤色器图案之一在其上表面的中心处可以具有最小的高度。
根据示范性实施方式，提供一种制造显示基板的方法。根据该方法，制备具有多个像素区域的基底基板，每个像素区域包括多个子像素区域，基底基板还具有包括多个子像素区域的第一区域、位于相邻的子像素区域之间的第二区域以及除了第一区域和第二区域之外的第三区域。光敏有机材料图案形成在第一区域上但是不在第三区域和第二区域上。 然后，除了第一区域之外的基底基板形成非光敏有机材料图案，使得光敏有机材料图案和非光敏有机材料图案的上表面共同形成大体上平的表面。
光敏有机材料图案的与非光敏有机材料图案相邻的边缘部分可以是楔形的。
非光敏有机材料图案可以这样形成在形成有光敏有机材料图案的基底基板的整个表面上涂敷非光敏有机材料；显影非光敏有机材料以图案化非光敏有机材料，使得非光敏有机材料仅保留在光敏有机材料图案之间的区域中；和固化被显影的非光敏有机材料。
根据示范性实施方式，显示面板包括阵列基板、面对阵列基板的相对基板、和插设在阵列基板与相对基板之间的液晶层。
阵列基板和相对基板之一可以包括基底基板，具有多个像素区域，每个像素区域包括多个子像素区域；光阻挡层图案，大体上定义子像素区域；和多个滤色器图案，对应于子像素区域。光阻挡层图案和多个滤色器图案的上表面可以共同形成大体上平的表面。
滤色器图案和光阻挡层图案的至少之一可以包括倒楔形边缘部分，与具有倒楔形边缘部分的图案相邻的图案的边缘部分可以是楔形的，从而在该倒楔形边缘部分的下部分处交叠倒楔形边缘部分。
如上所述，滤色器的边缘部分交叠光阻挡层图案的楔形边缘部分，使得两者之间在高度上的台阶差可以减小，即使不提供覆盖层，显示基板也可以具有基本平的表面。
此外，能够制造显示基板而不执行曝光工艺，使得制造工艺能够简化。
当结合附图考虑时，通过参考以下详细描述，本发明的上述和其他优点将变得明显，在附图中
图I是示出根据本发明的一个实施方式的显示面板的透视图2是沿图I的线1-1’截取的截面图3是示出在根据本发明的一个实施方式的显示面板中使用的显示基板的透视图4是图3的“A”部分的放大视图5是沿图4的线11-11’截取的截面 图6至图8是示出制造在根据本发明的一个实施方式的显示面板中使用的显示基板的步骤的截面图9是示出在根据本发明的另一实施方式的显示面板中使用的显示基板的截面图；以及
图10是示出在根据本发明的再一实施方式的显示面板中使用的显示基板的截面图。
具体实施方式
本发明可以以各种形式被修改并可以不限于以下实施方式，而是包括各种应用和修改。提供以下实施方式以阐明本发明中公开的技术精神，并向本领域普通技术人员充分传达本发明的技术精神。因此，本发明的范围不应限于以下实施方式。
当描述每个附图时，相似的附图标记指定相似的部件。此外，为了清晰的解释或者强调，简化或夸大了附图以及以下实施方式的层和区域的尺寸，相同的附图标记代表相同的部件。为了关于不同部件进行解释，使用术语“第一”和“第二”，这些部件不限于术语 “第一”和“第二”。术语“第一”和“第二”仅用于区分一个部件与另一部件。例如，第一部件可以被命名为第二部件，而不偏离本发明的范围。类似地，第二部件可以被命名为第一部件。在说明书中单数表达包括多数的含义，除非在上下文中单数的含义明显不同于多数的含义。
在以下描述中，术语“包括”或“具有”可以表示说明书中描述的特征、数字、步骤、 操作、部件、部分或其组合的存在，可以不排除另一特征、另一数字、另一步骤、另一操作、另一部件、另一部分或其组合的存在或增加。
在下文，将参考附图详细描述本发明的示范性实施方式。
图I是示出根据本发明的一个实施方式的显示面板的透视图，图2是沿图I的线 1-1’截取的截面图。
参考图I和图2，根据本发明的一个实施方式的显示面板显示图像并可以是诸如液晶显示(LCD)面板和电泳显示面板的各种类型的显示面板之一。在本实施方式中，显示面板是LCD面板。
显示面板具有矩形板形，该矩形板形具有长侧边和相对的短侧边。此外，显示面板包括阵列基板100、相对基板200和插设在其间的液晶层300。
根据本发明的一个实施方式，阵列基板100可以包括大体上以矩阵形式形成在基底基板110上的多个像素(未示出)。每个像素包括大体上在平行于阵列基板100的一个边缘的第一方向延伸的栅线(未示出)、大体上在垂至于第一方向的第二方向延伸同时交叉栅线的数据线(未示出)、和像素电极(未示出)。此外，每个像素包括相应于像素电极电连接到栅线和数据线的薄膜晶体管(未示出)。薄膜晶体管开关供应到像素电极的驱动信号。此外，驱动IC(未示出)可以设置在阵列基板100的一侧。驱动IC接收各种外部信号，并响应于外部信号而输出驱动信号，从而驱动显不面板。
相对基板200可以包括面对像素电极的公共电极(未示出)。
液晶层300根据施加到像素电极和公共电极的电压而沿特定方向配向，由此调节从背光单元(未示出)供应的光的透射，使得图像显示在显示面板上。
同时，像素包括多个子像素区域以允许显示面板显示具有各种颜色的图像。多个滤色器图案120—一对应地设置在子像素区域中。每个像素可以包括至少红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B，虽然可以构思颜色的任何组合和数量。例如，每个像素还可以包括黄色滤色器图案(未示出)。
光阻挡层图案130提供在两个相邻的滤色器图案120之间以阻挡光。即，光阻挡层图案130设置在相邻的子像素区域之间。
虽然已经描述了滤色器图案120和光阻挡层图案130排列在阵列基板100上，但本发明不限于此。例如，滤色器图案120和光阻挡层图案130可以改为形成在相对基板200上。
图3是示出根据本发明的一个实施方式的显示面板中使用的显示基板的透视图， 图4是图3的部分“A”的放大视图，图5是沿图4的线11-11’截取的截面图。
参考图3至图5，阵列基板100和相对基板200之一可以用作显示基板(即，可以包括多个像素)。在示出的实施方式中，阵列基板100用作显示基板。
显示面板中使用的显示基板包括基底基板110、形成在基底基板110上的滤色器图案120、和光阻挡层图案130。
基底基板110包括多个像素，每个像素具有多个子像素区域。基底基板110可以是阵列基板100和相对基板200之一。
如果阵列基板100用作基底基板110，则多个像素(未示出)以矩阵形式形成在阵列基板100上。此外，像素电极(未示出)可以形成在每个像素中。
如果改为相对基板200用作基底基板110，则多个像素区域可以通过光阻挡层图案130而限定在相对基板200上。在此情形下，阵列基板100可以包括面对像素电极的公共电极(未示出)。
滤色器图案120可以包括至少红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B，其一一对应地相应于子像素区域形成，以形成一个像素。此外，每个像素还可以包括黄色滤色器图案(未示出)。
光阻挡层图案130设置在两个相邻的滤色器图案120之间。此外，光阻挡层图案 130阻挡外部光或环境光，从而提高显示面板和显示装置的对比度。
滤色器图案120和光阻挡层图案130的其中之一可以具有倒楔形 (reverse-tapered)边缘部分,另一图案可以具有楔形边缘部分。具有楔形边缘部分的图案的边缘与下面的基板形成包括锐角的角度，该图案的宽度随着与基板的距离增加而变小。 具有倒楔形边缘部分的图案的边缘与下面的基板形成包括锐角的角度，该图案的宽度随着与基板的距离增加而增加。可以看出，具有倒楔形边缘的图案的边缘与具有楔形边缘的图案的边缘交叠，且它们本身将是倒楔形的而不是楔形的。此外，图案的边缘部分，与具有倒楔形边缘部分的图案相邻，成楔形同时与倒楔形边缘部分交叠。
具体地，红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B—一对应地排列在子像素区域上，每个滤色器图案120具有楔形边缘部分，即，楔形侧面，使得其宽度大体上随着与基板距离的增加而减小。
光阻挡层图案130设置在两个相邻的滤色器图案120之间，光阻挡层图案130的边缘部分是倒楔形的，同时与滤色器图案120的边缘部分交叠，即，光阻挡层图案130具有倒楔形侧面。
此外，光阻挡层图案130的厚度d2基本等于或小于滤色器图案120的厚度dl。优选地，光阻挡层图案130的厚度d2基本等于滤色器图案120的厚度dl。
光阻挡层图案130的边缘部分可以仅交叠滤色器图案120的楔形边缘部分，而不交叠图案120的剩余部分。因此，根据本发明的显示基板可以最小化滤色器图案120与光阻挡层图案130之间的高度上的台阶差。
特别地，如果光阻挡层图案130的厚度d2等于滤色器图案120的厚度dl，则滤色器图案120和光阻挡层图案130的上表面可以共同形成平化的表面(即，几乎或基本上平的或平坦的表面)。因此，可以不需要用于平化(flatten)或平坦化显示基板的表面的覆盖层。
否则，台阶差可能发生在滤色器的边缘部分处，显示基板的上表面可能具有相对高的粗糙度。因此，常常需要额外的工艺以平化或平坦化显示基板的上表面。
图6至图8是示出用于制造上述显示面板中使用的显示基板的工艺的截面图。
参考图6，首先制备基底基板110。如上所述，基底基板110已经具有在其上制成的多个像素，且每个像素包括多个子像素区域。此外，基底基板110可以包括玻璃基板或塑料基板。
如果阵列基板100用作显示基板，则基底基板110可以包括以矩阵图案布置的多个像素(未示出)、栅线(未示出)、数据线(未示出)、像素电极(未示出)和薄膜晶体管 (未示出)。
或者，如果相对基板200用作显示基板，则基底基板110可以改为包括面对阵列基板100的像素电极的公共电极(未示出)。
在制备基底基板110之后，光敏有机材料图案形成在基底基板110的一个表面上。 光敏有机材料图案可以形成为多个滤色器图案120。滤色器图案120可以包括至少红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B。此外，滤色器图案120还可以包括黄色滤色器图案(未示出)。
根据本实施方式，滤色器图案120包括红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案 120G和蓝色滤色器图案120B，其用作光敏有机材料图案。
具体地，光敏有机材料涂覆在基底基板110上。光敏有机材料可以包括正型光敏有机材料和负型光敏有机材料之一。光敏有机材料可以包括感光剂和各种添加剂。感光剂至少可以包括聚合物粘结剂、PAC (感光化合物)、PAG (光酸发生剂)和PI (聚酰亚胺)的至少一种。此外，光敏有机材料还可以包括红色、绿色和蓝色颜料之一。例如，光敏有机材料还可以包括红色颜料。
在光敏有机材料已经被涂覆在基底基板110上之后，通过使用掩模(未示出)照射光到光敏有机材料的特定部分上，光敏有机材料经受曝光工艺。此时，在子像素区域之一处，例如在红色子像素区域处，正光敏有机材料可以不被曝光。
在已经执行曝光工艺之后，被曝光的光敏有机材料被显影以图案化包括红色、绿色和蓝色颜料之一的光敏有机材料。在显影工艺中，被曝光的区域中的光敏有机材料的显影速度可以不同于未曝光区域中的光敏有机材料的显影速度。具体地，被曝光区域中的光敏有机材料的显影速度高于未曝光区域中的光敏有机材料的显影速度。因此，在完成显影工艺之后，光敏有机材料的边缘部分可以渐缩。
然后，被图案化的光敏有机材料被固化，由此形成光敏有机材料图案,例如,红色滤色器图案120R。
在形成红色滤色器图案120R之后，对于每种剩余的颜色，重复涂覆、曝光、显影和固化工艺，由此在绿色子像素区域中形成绿色滤色器图案120G并在蓝色子像素区域中形成蓝色滤色器图案120B。
参考图7，在形成了红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B之后，非光敏有机材料被涂覆在基底基板110的整个表面上，由此形成非光敏有机材料层130A。非光敏有机材料层可以包括粘结剂、增塑剂和添加剂。非光敏有机材料还可以包括黑色颜料。
粘结剂可以包括选自不饱和羧酸(carboxylic acid)、不饱和羧酸酐(carboxylic anhydride)、包含环氧基团的不饱和化合物、丙烯基共聚物及其任意混合物或组合构成的组的一种。此外，丙烯基共聚物可以以如下已知方式制备使用烯烃(olefin)基不饱和化合物作为单体执行共聚然后除去未反应的单体。
增塑剂可以包括诸如邻苯二甲酸二辛酯(dioctyl phthalate)或邻苯二甲酸二异壬酯(diisononyl phthalate)的邻苯二甲酸酯基增塑剂、诸如己二酸二辛酯的己二酸基增塑剂、诸如磷酸三甲苯酯(tricresyl phosphate)的磷酸盐基增塑剂和诸如2, 2,4_三甲基 _1，3-戍二醇单异丁酸酯(2, 2,4-trimethyl-l, 3-pentanediol monoisobutyrate)的单异丁酸酯基增塑剂的其中之一。
此外，添加剂可以包括环氧树脂、粘合剂和表面活性剂。环氧树脂可以包括双酚A 型环氧树脂、苯酚酚醛(Phenol novolac)型环氧树脂、甲酚醛型环氧树脂、脂环族环氧树脂、缩水甘油醚型环氧树脂和缩水甘油胺型环氧树脂之一。特别地，环氧树脂可以包括双酚 A型环氧树脂、甲酚醛型环氧树脂和缩水甘油醚型环氧树脂。
粘合剂可以包括具有诸如羧基、甲基丙烯酰(methacryl)基团、异氰酸酯基、或环氧基团的反应性取代基的硅烷偶联剂。具体地，粘合剂可以包括Y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基娃烧(y -methacryloxypropyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙酰氧基娃烧 (viny ltriacetoxy si lane)、乙烯基三甲氧基娃烧(viny ltrimethoxy si lane) > y -异氰酸酯基丙基三乙氧基娃烧(y -isocyanatepropyltriethoxysilane) > Y-缩水甘油氧基三甲氧基娃烧(Y-glycidoxytrimethoxysilane),或P-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基娃烧 (^ -(3,4-epoxy cyclo hexyl)ethyltrimethoxysilane)。
表面活性剂可以包括聚氧乙烯辛基苯基醚(polyoxyethyleneoctylphenylether) 或聚氧乙烯壬基苯基醚(polyoxyethylenenonylphenylether)。
参考图8，在形成非光敏有机材料层130A之后，非光敏有机材料层130A被显影并固化，由此形成非光敏有机材料图案，例如光阻挡层图案130。
具体地，非光敏有机材料层130A被显影而不曝光非光敏有机材料层130A。由于非光敏有机材料层130A没有感光剂，所以非光敏有机材料层130A不经受曝光工艺。
随着非光敏有机材料层130A被显影，其被逐渐去除，所以非光敏有机材料层130A 的厚度逐渐减小。此时，非光敏有机材料层130A被图案化，同时调节非光敏有机材料层 130A的显影时间，使得一些非光敏有机材料层130A可以保留在光敏有机材料图案之间， 即，在红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B之间。
由于滤色器图案120 (其是光敏有机材料图案)的边缘部分具有楔形形状或轮廓 (即有角的边缘或侧面)，所以非光敏有机材料层130A的边缘部分在图案化工艺之后可以具有倒楔形。此外，在图案化工艺之后，非光敏有机材料层130A的厚度可以大体上等于或小于光敏有机材料图案的厚度。
在完成显影工艺之后，非光敏有机材料层130A被固化。
虽然已经描述了光阻挡层图案130是非光敏有机材料图案，但是本发明不限于此。例如，红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B之一可以是非光敏有机材料图案。
如上所述，根据制造显示基板的上述方法，通过调节非光敏有机材料的显影时间， 非光敏有机材料图案的厚度可以被调节得基本等于光敏有机材料图案的厚度。因此，由光敏有机材料图案和非光敏有机材料图案的上表面形成的显示基板的上表面被制得更平或更平坦。由于显示基板具有更平的表面，所以不需要且可以省略额外的覆盖层或平坦化层。
此外，根据上述方法，当形成非光敏有机材料图案(即，光阻挡层图案130)时，可以省略曝光工艺。因此，用于显示基板的制造工艺可以简化，制造时间可以减少。结果，制造显示基板的成本可以降低。
上述方法也可以包括向非光敏有机材料添加彩色颜料，因为能够不用执行曝光工艺而形成非光敏有机材料图案。特别地，如果非光敏有机材料图案用作光阻挡层图案，则具有显示基板的显示面板和显示装置的对比度可以提高。
在下文，将参考图9和图10描述本发明的其他实施方式。在以下描述中，相同的附图标记将指代前面参考图I至图8描述的元件和结构，因此将省略其详细的描述。
图9是示出根据本发明的另一实施方式的显示面板中使用的显示基板的截面图。
参考图9，多个滤色器图案120和光阻挡层图案130形成在基底基板110上。
滤色器图案120可以包括至少红色滤色器图案120R、绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B，它们一一对应地对应于各个子像素区域。此外，滤色器图案120可以具有楔形边缘部分。
每个光阻挡层图案130设置在两个相邻的滤色器图案120之间，每个光阻挡层图案130的边缘部分交叠相邻的滤色器图案120的边缘部分。
如从形成有滤色器图案120和光阻挡层图案130的基底基板110的表面所测得的，滤色器图案120的高度hi可以基本等于或大于光阻挡层图案130的高度。S卩，滤色器图案120可以处于与光阻挡层图案130相同或比其高的高度。
此外，每个光阻挡层图案130的上表面的接触相应的滤色器图案120之处的高度 h2可以比光阻挡层图案130的上表面的其他区域的高度高。特别地，光阻挡层图案130在两个相邻滤色器图案120之间的中心处可以具有最小的高度h3。即，当从图9的角度观看时，光阻挡层图案130可以具有凹入的上表面，其高度在其外边缘处更大。
当通过使用具有各向同性蚀刻性质的显影剂显影光阻挡层图案130时，可能产生光阻挡层图案130的高度差。S卩，由于各向同性蚀刻的特性，光阻挡层图案130的在滤色器图案120边缘处的高度h2可以基本等于或高于光阻挡层图案130的其他区域的高度。
图10是示出根据本发明再一实施方式的显示面板中使用的显示基板的截面图。
参考图10，绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B设置在基底基板110的子像素区域上，光阻挡层图案130形成在基底基板110上以大体上定义子像素区域。绿色滤色器图案120G、蓝色滤色器图案120B和光阻挡层图案130可以通过使用光敏有机材料执行光刻工艺而形成，如前面所述。特别地，首先形成光阻挡层图案130以定义子像素区域，并且光阻挡层图案130具有楔形边缘部分。
红色滤色器图案120R包含非光敏有机材料，并设置在没有被绿色滤色器图案 120G或蓝色滤色器图案120B占据的剩余的子像素区域上。
由于红色滤色器图案120R通过使用非光敏有机材料形成，所以红色滤色器图案 120R的边缘部分可以是倒楔形的，因为它与相邻的光阻挡层图案130的形状一致。
此外，红色滤色器图案120R的厚度大体上等于或小于光阻挡层图案130的厚度。
根据本实施方式，红色滤色器图案120R具有设置在两个楔形图案之间的倒楔形边缘部分，但本发明不限于此。绿色滤色器图案120G和蓝色滤色器图案120B之一可以具有设置在两个楔形图案之间的倒楔形边缘部分。实际上，本发明构思任何颜色的滤色器或滤色器的任何图案能够形成有这样的倒楔形边缘。
因此，具有根据本发明的显示基板的显示面板能改善其色彩再现性质。
虽然已经描述了本发明的示范性实施方式，但是应该理解，本发明不应被局限于这些示范性实施方式，而是本领域的普通技术人员可以在如权利要求所述的本发明的精神和范围内进行各种变化和修改。
本申请要求于2010年12月21日提交的韩国专利申请No. 10-2010-0131735的优先权，其整个内容通过引用合并在此。
权利要求
1.一种显不基板，包括基底基板，包括多个像素区域，每个像素区域包括多个子像素区域；光阻挡层图案，设置在相邻的子像素区域之间；和多个滤色器图案，对应于所述子像素区域，其中所述滤色器图案和所述光阻挡层图案的至少之一具有倒楔形边缘部分且其他图案具有楔形边缘部分，具有所述楔形边缘部分的图案的边缘部分与所述倒楔形边缘部分交叠。
2.根据权利要求I所述的显示基板，其中每个滤色器图案的边缘部分是楔形的，所述光阻挡层图案的边缘部分是倒楔形的，且同时交叠相邻滤色器图案的所述边缘部分。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其中所述光阻挡层图案具有大体上等于或小于所述相邻滤色器图案的厚度。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其中所述光阻挡层图案的厚度基本上等于所述滤色器图案的厚度，使得所述基底基板的上表面基本上是平坦的。
5.根据权利要求2所述的显示基板，其中所述滤色器图案的高度基本上等于或大于所述光阻挡层图案的高度，所述光阻挡层图案的上表面与所述滤色器图案的所述边缘部分之间的交点的高度大于所述光阻挡层图案的所述上表面的其他部分的高度。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其中所述光阻挡层图案在所述上表面的中心处具有最小的闻度。
7.根据权利要求I所述的显示基板，其中所述光阻挡层图案的边缘部分是楔形的，所述滤色器图案之一的边缘部分是倒楔形的，从而交叠所述光阻挡层图案的所述边缘部分。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其中所述光阻挡层图案的高度基本上等于或大于所述滤色器图案之一的高度，所述滤色器图案之一的上表面与所述光阻挡层图案的所述边缘部分之间的交点的高度大于所述滤色器图案之一的所述上表面的其他部分的高度。
9.根据权利要求8所述的显示基板，其中所述滤色器图案之一在所述上表面的中心处具有最小的闻度。
10.一种制造显示基板的方法，所述方法包括制备包括多个像素区域的基底基板，每个像素区域包括多个子像素区域，所述基底基板还具有包括所述多个子像素区域的第一区域、位于相邻的子像素区域之间的第二区域以及在相邻像素区域之间的第三区域；在除了所述第一区域、第二区域和第三区域的其中之一之外的所述基底基板上形成光敏有机材料图案；和在除了形成所述光敏有机材料图案的区域之外的所述基底基板上形成非光敏有机材料图案，使得所述光敏有机材料图案和非光敏有机材料图案的上表面共同形成大体上平的表面。
11.根据权利要求10所述的方法，其中所述光敏有机材料图案的与所述非光敏有机材料图案相邻的边缘部分是楔形的。
12.根据权利要求11所述的方法，其中形成非光敏有机材料图案还包括在形成有所述光敏有机材料图案的所述基底基板的整个表面上涂敷非光敏有机材料；显影所述非光敏有机材料以图案化所述非光敏有机材料，使得所述非光敏有机材料仅保留在所述光敏有机材料图案之间的区域中；和固化被显影的非光敏有机材料。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述非光敏有机材料图案的厚度大体上等于或小于所述光敏有机材料图案的厚度。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述非光敏有机材料图案的厚度大体上等于所述光敏有机材料图案的厚度，使得所述基底基板的上表面基本上平坦。
15.根据权利要求12所述的方法，其中所述非光敏有机材料图案的边缘部分是倒楔形的，同时交叠所述光敏有机材料图案的相邻边缘部分。
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述光敏有机材料图案的高度大体上等于或大于所述非光敏有机材料图案的高度，所述非光敏有机材料图案的上表面与所述光敏有机材料图案的边缘部分之间的交点的高度大于所述非光敏有机材料图案的上表面的其他部分的高度。
17.根据权利要求15所述的方法，其中所述光敏有机材料图案包括滤色器图案，所述非光敏有机材料图案包括光阻挡层图案。
18.根据权利要求15所述的方法，其中所述光敏有机材料图案包括光阻挡层图案，所述非光敏有机材料图案包括滤色器图案。
19.根据权利要求10所述的方法，其中形成光敏有机材料图案还包括涂敷光敏有机材料；使用掩模曝光所述光敏有机材料；通过显影被曝光的光敏有机材料来图案化所述光敏有机材料；和固化被图案化的光敏有机材料。
20.—种显不面板,包括阵列基板；面对所述阵列基板的相对基板；和液晶层，插设在所述阵列基板与所述相对基板之间，其中所述阵列基板和所述相对基板之一包括基底基板，包括多个像素区域，每个像素区域包括多个子像素区域；光阻挡层图案，大体上定义所述子像素区域；和多个滤色器图案，对应于所述子像素区域，以及其中所述光阻挡层图案和所述多个滤色器图案的上表面共同形成大体上平的表面。
21.根据权利要求20所述的显示面板，其中所述滤色器图案和所述光阻挡层图案的至少之一具有倒楔形边缘部分，与包括所述倒楔形边缘部分的图案相邻的图案的边缘部分是楔形的，从而在该倒楔形边缘部分的下部分处交叠所述倒楔形边缘部分。
22.根据权利要求21所述的显示面板，其中每个滤色器图案的边缘部分是楔形的，所述光阻挡层图案的边缘部分是倒楔形的，同时交叠相邻的滤色器图案的边缘部分。
23.根据权利要求22所述的显示面板，其中所述光阻挡层图案的厚度大体上等于或小于所述相邻的滤色器图案的厚度。
24.根据权利要求23所述的显示面板，其中所述光阻挡层图案的厚度基本上等于所述滤色器图案的厚度，使得所述基底基板的上表面基本上是平坦的。
25.根据权利要求20所述的显示面板，其中所述光阻挡层图案包括非光敏材料，所述滤色器图案包括光敏材料。
26.根据权利要求21所述的显示面板，其中所述光阻挡层图案的边缘部分是楔形的， 所述滤色器图案之一的边缘部分是倒楔形的，从而交叠所述光阻挡层图案的所述边缘部分。
27.根据权利要求26所述的显示面板，其中所述滤色器图案之一包括非光敏材料，剩余的所述滤色器图案和所述光阻挡层图案每个包括光敏材料。
全文摘要
本发明公开一种显示基板及其制造方法和具有其的显示面板。显示面板包括基底基板，具有多个像素区域，其中每个像素区域包括多个子像素区域；光阻挡层图案，大体上定义子像素区域；和多个滤色器图案。光阻挡层图案和多个滤色器图案的上表面共同形成大体上平的表面。
文档编号G02B5/20GK102540560SQ20111043230
公开日2012年7月4日 申请日期2011年12月21日 优先权日2010年12月21日
发明者全佑奭, 姜勋, 崔津荣, 赵荣济, 金载星 申请人:三星电子株式会社