光致抗蚀剂组合物的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更为详细地讲，涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂组合物，其常温稳定性优良、变色少且透射率优良，从而即便省略HMDS工序，也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
【专利说明】光致抗蚀剂组合物
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物(PHOTORESIST COMPOSITION)，更为详细地讲，涉及包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序的基板微细图案形成用光致抗蚀剂组合物及使用了该光致抗蚀剂组合物的微细图案形成方法，其中，该光致抗蚀剂组合物常温稳定性优良、变色少且透射率优良，从而即便省略HMDS工序，也不存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
【背景技术】
[0002]通常，在半导体或平板显示装置上，为了形成绝缘膜或保护膜而使用光致抗蚀剂组合物，光致抗蚀剂组合物为了提高与基板的粘结力而含有三聚氰胺类交联剂或硅烷类交联剂。
[0003]但在使用含有三聚氰胺类交联剂或硅烷类交联剂的光致抗蚀剂组合物而形成微细图案时，由于光致抗蚀剂的粘结力降低，因而必须通过HMDS(hexamethyldisilazane,六甲基二硅氮烷)喷雾工序来确保粘结力。这是由于在不进行HMDS喷雾工序时，经微细化的图案有可能在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时图案变形之故。
[0004]为了解决上述问题，在韩国公开专利公报第10-2009-39930号中记载了一种光致抗蚀剂组合物，其含有5?50重量％的有机高分子、10?30重量％的感光性物质、3?5重量％的在末端含有异氰酸酯基的硅烷类偶联剂、以及剩余量的溶剂，而能够省略HMDS喷雾工序。但上述申请也是常温时稳定性降低、所形成图案的颜色产生变化且透射率降低，要在氮化硅膜上形成含有半色调工序的0.1?IOym的微细图案时，有在半色调部分与氮化硅膜的紧贴性不良的问题。
【发明内容】
[0005]技术课题
[0006]考虑到如上所述的现有技术的问题，本发明的目的在于提供一种基板的微细图案形成用光致抗蚀剂组合物，其包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调(halftone)的工序，上述光致抗蚀剂组合物能够彻底减少执行工序时由于HMDS所产生的HMDS气体性气泡及微粒性不良，能够降低工序费用而节省面板的制造费用，而且常温稳定性优良、变色少且透射率优良，并且与氮化硅膜的粘结力优良，从而即便省略HMDS工序，也不会存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
[0007]本发明的另一目的在于提供一种包括使用上述光致抗蚀剂而在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调的工序的微细图案形成方法。
[0008]本发明的其他目的在于提供一种具有通过上述本发明而得到的微细电路图案的电子器件。
[0009]解决问题的方案
[0010]为了达到上述目的，本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有:(a)丙烯酸类共聚物10?30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物作为单体进行聚合而制造且重量平均分子量为4，000?9，000 ； (b)在末端基含有异氰酸酯基(-NCO)的硅烷偶联剂0.1?2重fi% ；(c)感光剂I?15重量％，以及(d)剩余量的溶剂。
[0011]而且，本发明提供一种基板的微细图案形成方法，其包括利用光致抗蚀剂组合物而在基板的氮化硅膜上形成半色调的工序，上述基板的微细图案形成方法，其特征在于，使用上述光致抗蚀剂组合物。
[0012]而且，本发明提供一种电子器件，其包括具有通过上述制造方法而得到的微细电路图案的基板。
[0013]发明效果
[0014]根据本发明的光致抗蚀剂组合物，是包括在基板的氮化硅膜(SiNx)上形成半色调的工序的基板的0.1?10 μ m微细图案形成用光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物能够彻底减少执行工序时由于HMDS所产生的HMDS气体性气泡及微粒性不良，能够降低工序费用而节省面板的制造费用，而且常温稳定性优良、变色少且透射率优良，并且与氮化硅膜的粘结力优良，从而即便省略HMDS工序，也不会存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1是根据本发明的实施例1的粘结性实验的结果。
[0016]图2是根据比较例2的粘结性实验的结果。
【具体实施方式】
[0017]本发明的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有:(a)丙烯酸类共聚物10?30重量(b)在末端基含有异氰酸酯基(-NC0)的硅烷偶联剂0.1?2重量(c)感光剂I?15重量以及，(d)剩余量的溶剂，其中，丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物作为单体聚合而制造且重量平均分子量为4，000?9，000。
[0018]在本发明中，上述丙烯酸类共聚物能够将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物作为单体并在溶剂及聚合引发剂的存在下聚合之后，将未反应单体去除而得到。
[0019]在本发明所使用的上述i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物能够将丙烯酸、甲基丙烯酸等的不饱和单羧酸；顺丁烯二酸、反丁烯二酸、柠康酸、甲基阿康酸(methaconic acid)、衣康酸等不饱和二羧酸；或它们的不饱和二羧酸的酐等单独或混合2种以上而使用，特别是从共聚合反应性及对于作为显影液的碱水溶液的溶解性角度来讲，更理想的是使用甲基丙烯酸。
[0020]优选地，上述不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物相对于全体总单体，含有量为15?30重量份。在其含量为上述范围内时，所制成的共聚物通过与含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂的协同效应，即便在氮化硅膜上的半色调也能够确保粘结力，且所形成的图案的透射率及常温稳定性优良。[0021]本发明所使用的上述ii)含环氧基的不饱和化合物能够使用丙烯酸环氧丙酯、甲基丙烯酸环氧丙酯、α -乙基丙烯酸环氧丙酯、α -正丙基丙烯酸环氧丙酯、α -正丁基丙烯酸环氧丙酯、丙烯酸-β -甲基环氧丙酯、甲基丙烯酸-β -甲基环氧丙酯、丙烯酸-β -乙基环氧丙酯、甲基丙烯酸-β -乙基环氧丙酯、丙烯酸_3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸_3，4-环氧丁酯、丙烯酸_6，7-环氧庚酯、甲基丙烯酸_6，7-环氧庚酯、α -乙基丙烯酸_6，7_环氧庚酯、邻乙烯基苯甲基缩水甘油醚(o-vinylbenzylglycidylether)、间乙烯基苯甲基缩水甘油醚、或对乙烯基苯甲基缩水甘油醚、3，4-环氧环己基甲基丙烯酸酯等，且能够将上述化合物单独或混合2种以上而使用。
[0022]特别是从提高共聚合反应性及所得到的图案的耐热性的角度来讲，更理想的是上述含环氧基的不饱和化合物使用甲基丙烯酸环氧丙酯。
[0023]上述含环氧基的不饱和化合物相对于全体总单体，最好含有量为15?30重量份。在其含量为上述范围内时，所制成的共聚物通过与含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂的协同效应，即便在氮化硅膜上的半色调也能够确保粘结力，且所形成的图案的透射率及常温稳定性优良。
[0024]在本发明所使用的上述iii)烯烃类不饱和化合物，能够使用甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸双环戊烯基酯、丙烯酸二环戊酯、甲基丙烯酸二环戊烯酯、甲基丙烯酸二环戊酯、1-金刚烷基丙烯酸酯、1-金刚烷基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸二环戊氧基乙酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊氧基乙酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯(2-hydroxyethylmethacrylate)、苯乙烯、σ -甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1，3- 丁二烯、异戊二烯、或2，3- 二甲基1，3- 丁二烯等，能够将上述化合物单独或混合2种以上而使用。
[0025]特别是从共聚合反应性及对于作为显影液的碱水溶液的溶解性角度来讲，更理想的是上述烯烃类不饱和化合物以苯乙烯60?80 ;丙烯酸异冰片酯5?20 ;以及，丙烯酸-2-羟基乙酯15?40的重量比率混合而使用。
[0026]上述烯烃类不饱和化合物相对于全体总单体，最好含有量为40?70重量份。在其含量为上述范围内时，所制成的共聚物通过与含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂的协同效应，即便在氮化硅膜上的半色调也能够确保粘结力，且所形成的图案的透射率及常温稳定性优良。
[0027]为了将如上所述单体进行溶液(Solution)聚合所使用的溶剂，能够将甲醇、乙
醇、苯甲醇、己醇等的醇类；乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯等的乙二醇烷基醚乙酸酯类；乙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯等的乙二醇烷基醚丙酸酯类；乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等的乙二醇单烷基醚类；二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚等的二乙二醇烷基醚类；丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类；丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等的丙二醇烷基醚丙酸酯类；丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚等的丙二醇单烷基醚类；二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等的二丙二醇二烷基醚类；丁二醇单甲醚、丁二醇单乙醚等的丁二醇单甲醚类；二丁二醇二甲醚、二丁二醇二乙醚等的二丁二醇烷基醚类；四氢呋喃、甲苯、二氧杂环己烷等单独或混合2种以上而使用。
[0028]为了将如上所述的单体进行溶液(Solution)聚合而使用的聚合引发剂能够使用自由基聚合引发剂，具体而言，能够使用2，2-偶氮二异丁腈、2，2-偶氮双(2，4- 二甲基戊臆)、2，2-偶氮双(4-甲氧基2，4- 二甲基戍臆)、1，I’ -偶氮双(环己烧-1-甲臆)、或偶氮二异丁酸二甲酯等。
[0029]将如上所述的单体在溶剂及聚合引发剂存在下进行自由基反应，且通过沉淀及过滤、真空干燥(VacuumDrying)工序而去除未反应单体而得到的丙烯酸类共聚物,其聚苯乙烯换算重量平均分子量(Mw)以4，000~9，000为宜，最好为5，000~7，000。在为上述范围内时，通过与含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂的协同效应，即便在氮化硅膜上的半色调也能够确保粘结力，且所形成的图案的透射率及常温稳定性优良。
[0030]上述丙烯酸类共聚物能够以10~30重量％包含在本发明的感光性树脂组合物中，此时，图案的轮廓及显影性优良，即便在氮化硅膜上的半色调也能够确保粘结力，且所形成的图案的透射率及常温稳定性优良。
[0031]本发明的感光性树脂组合物包含在(b)末端基含有异氰酸酯基(-NC0)的硅烷偶联剂。上述在末端基含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂能够使用选自由二异氰酸酯乙氧基乙基硅烷、二异氛酸酷甲氧基乙基硅烷、二异氛酸酷乙氧基丙基硅烷、二异氛酸酷甲氧基丙基娃烷、3-异氰酸酯丁基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯羟乙基乙氧基硅烷、3-异氰酸酯羟乙基甲氧基硅烷、3-异氰酸酯丙基二 乙氧基硅烷、3-异氰酸酯丙基甲氧基硅烷、3-异氰酸酯乙基三乙氧基硅烷、3-异氰酸酯乙基三甲氧基硅烷、以及3-异氰酸酯丁基三乙氧基硅烷所组成的组中的I种或2种以上。
[0032]上述在末端基含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂能够在本发明的感光性树脂组合物中的含有量为0.1~2重量％，在其含量小于0.1重量％时，无法在氮化硅膜上的半色调图案部分确保粘结力，大于2重量％时，存在常温稳定性降低且所形成的图案的透射率降低的问题。
[0033]在本发明的感光性树脂组合物中，上述(C)感光剂能够使用公知的感光剂化合物，作为具体的例子，能够使用1，2-醌二叠氮4-磺酸酯、1，2-醌二叠氮5-磺酸酯、或
1,2-醌二叠氮6-磺酸酯等。
[0034]上述感光剂在本发明的感光性树脂组合物中的含有量可为I~30重量％，此时，能够同时满足图案的轮廓及显影性。
[0035]而且，在本发明所使用的上述(d)溶剂，使有机绝缘膜具有平坦性且防止产生涂敷斑纹，从而形成均匀的图案轮廓(pattern profile)。
[0036]上述溶剂能够使用在感光性树脂组合物所使用的公知的溶剂，作为具体的例子，
有甲醇、乙醇、苯甲醇、己醇等的醇类；乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯等的乙二醇烷基醚乙酸酯类；乙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯等的乙二醇烷基醚丙酸酯类；乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等的乙二醇单烷基醚类；二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚等的二乙二醇烷基醚类；丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯等的丙二醇烷基醚乙酸酯类；丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等的丙二醇烷基醚丙酸酯类；丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚等的丙二醇单烷基醚类；二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等的二丙二醇二烷基醚类；丁二醇单甲醚、丁二醇单乙醚等的丁二醇单甲醚类；二丁二醇二甲醚、二丁二醇二乙醚等的二丁二醇烷基酿类等。
[0037]上述溶剂以全体感光性树脂组合物的剩余量包含，最好含有50~90重量％。在其为上述范围内时，能够同时提高感光性树脂组合物的涂敷性及修正稳定性。
[0038]由如上所述的成分所组成的本发明的感光性树脂组合物根据需要能够进一步含有0.01~10重量％的可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂(radical scavenger)、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂。当然，上述可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂能够使用在感光性树脂组合物所使用的公知的物质。
[0039]由如上所述的成分所组成的本发明的感光性树脂组合物的固体含量以10~50重量％为宜，具有上述范围的固体含量的组合物，最好通过0.01~0.2μηι的微孔过滤器(miIlipore filter)等过滤之后使用。
[0040]而且，本发明提供一种利用了上述感光性树脂组合物的微细图案形成方法以及含有通过上述方法所形成的微细图案的电子器件。上述电子器件，理想的是，为具有0.1~10 μ m的微细图案的半导体或平板显示装置，更理想的是，为具有0.1~4μπι线宽(linewidth)大小的微细图案的半导体或平板显示装置。
[0041]本发明的微细图案形成方法，其特征在于，使用上述感光性树脂组合物作为包括在氮化硅膜(SiNx)上形成半色调的工序的基板的微细图案形成用光致抗蚀剂组合物。除了使用上述感光性树脂组合物以外，能够使用公知的微细图案形成方法。
[0042]作为具体的一例，形成有机绝缘膜的方法如下。
[0043]首先，将本发明的感光性树脂组合物使用喷雾法、辊涂法、旋涂法等涂敷在形成有氮化硅膜的基板表面，且通过预烘干将溶剂去除而形成涂敷膜。此时，上述预烘干以在80~115°C的温度下实施I~15分钟为宜。
[0044]其后，按照预先准备的图案在上述所形成的涂敷膜照射可见光线、紫外线、远紫外线、电子射线、X射线等，并以显影液进行显影，且将不必要的部分去除而形成规定的图案。
[0045]上述显影液最好使用碱水溶液,具体而言,能够使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等的无机碱类；乙胺、正丙胺等的I级胺类；二乙胺、正丙胺等的2级胺类；三甲胺、甲基二乙胺、二甲基乙胺、三乙胺等的3级胺类；二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等的醇胺类；或四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等4级铵盐的水溶液等。此时，上述显影液使碱性化合物溶解成0.1~10重量％的浓度而使用，也能够添加适当量的如甲醇、乙醇等的水溶性有机溶剂及表面活性剂。
[0046]而且，使用如上所述的显影液进行显影之后，使用超纯水进行30~90秒钟清洗而去除不必要的部分并进行干燥而形成图案，而且对上述所形成的图案照射紫外线等的光线之后，将图案使用烤箱等的加热装置，在150~250°C的温度下进行30~90分钟加热处理而能够得到最后图案。
[0047]本发明的使用感光性树脂组合物的微细图案的形成方法，由于在形成0.1~IOym的微细图案时能够省略HMDS喷雾工序，因而能够彻底减少由于HMDS工序所产生的HMDS气体性气泡及微粒性不良，能够降低工序费用而节省面板的制造费用，而且常温稳定性优良、变色少且透射率优良，并且与氮化硅膜的粘结力优良，从而即便省略HMDS工序，也不会存在经微细化的图案在执行显影工序时产生遗失，或者在执行后工序时产生图案变形的危险。
[0048]以下，为了便于理解本发明而提示优选实施例，但下述实施例只是例示本发明而已，本发明的范围并非限定于下述实施例。
[0049]实施例
[0050]实施例1
[0051]丙烯酸类共聚物制造
[0052]在具备冷却管和搅拌器的烧瓶中，装入2，2’ -偶氮双(2，4- 二甲基戊腈)10重量份、丙二醇单甲醚乙酸酯200重量份、甲基丙烯酸20重量份、甲基丙烯酸环氧丙酯25重量份、苯乙烯40重量份、丙烯酸-2-羟基乙酯5重量份、以及丙烯酸异冰片酯10重量份，且进行氮取代之后，缓慢地搅拌。使上述反应溶液升温至55 °C且将该温度维持24小时而制造了包含丙烯酸类共聚物的聚合物溶液。
[0053]上述包含丙烯酸类共聚物的聚合物溶液的固体浓度为50重量％，聚合物的重量平均分子量为5，000。此时，重量平均分子量是使用GPC所测定的聚苯乙烯换算平均分子量。
[0054]制造1，2-醌二叠氮化合物
[0055]使4，4’-[1-[4-[1-[4_羟苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚I摩尔与1，2-二叠氮基萘醌-5-磺酸[氯化物]2摩尔进行缩合反应而制造了 4，4’-[1-[4-[1-[4_羟苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1，2-二叠氮基萘醌-5-磺酸酯。
[0056]制造感光性树脂组合物
[0057]将上述所制造的含有丙烯酸类共聚物的聚合物溶液100重量份、上述所制造的4，4’-[1-[4-[1-[4_羟苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚1，2-二叠氮基萘醌-5-磺酸酯25重量份、以及在末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂5重量份进行了混合。而且，添加二乙二醇二甲醚后进行溶解以便使得上述混合物的固体浓度成为30重量％重量份，并使用0.05 μ m的微孔过滤器进行过滤而制造了感光性树脂组合物。在本实施例中，上述硅烷偶联剂的含量最后为1.875重量％。
[0058]实施例2
[0059]除了在上述实施例1的感光性树脂组合物制造中，使用在末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂I重量份以外，以与上述实施例1相同的方法实施并制造了感光性树脂组合物。在本实施例中，上述硅烷偶联剂的含量最后为0.375重量％。
[0060]比较例I
[0061]除了在上述实施例1的制造感光性树脂组合物中，使用三聚氰胺类交联剂代替在末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂以外，以与上述实施例1相同的方法实施并制造了感光性树脂组合物。
[0062]比较例2
[0063]除了在上述实施例1的感光性树脂组合物中，使在末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂的最后含量为0.05重量％以外，以与上述实施例1相同的方法实施并制造了感光性树脂组合物。
[0064]比较例3[0065]除了在上述实施例1的感光性树脂组合物中，使在末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂的最后含量为4重量％以外，以与上述实施例1相同的方法实施并制造了感光性树脂组合物。
[0066]利用上述实施例1~2及比较例I~3的感光性树脂组合物而评价了与氮化硅膜的粘结力、透射率、常温稳定性。
[0067]a)粘结力:在蒸镀有500~3,000 A的SiNx的玻璃基板上未涂敷HMDS溶液的状
态下，将在上述实施例1~2及比较例I~2所制造的感光性树脂组合物溶液进行涂敷之后，以90~100°C在加热板上进行50~180秒钟预烘干而形成了膜。所涂敷的膜的厚度为0.2~4 μ m,使用具有I~5μηι的线与间隙(Line&Space)、接触孔与圆点(ContactHole&Dot)的图案的光罩而以波长为365nm且强度为10mW/cm2的紫外线对所得到的膜照射了 5~20秒钟。其后，以氢氧化四甲铵水溶液在19~27°C进行了 50秒至180秒钟的显影之后，使用超纯水进行了 I分钟清洗。其结果，如图1所示，在为实施例1的情况下，在2μπι图案全然未遗失，而在为实施例2的情况下，虽然未在附图中示出，但显出与实施例1同等的结果。
[0068]与此相反，在为比较例I的情况下，在4μπι图案产生了严重的遗失，在为比较例2的情况下，如图2所示，产生了一部分图案遗失。
[0069]b)透射率:在裸玻璃(Bare Glass)基板上涂敷了在上述实施例2、比较例I及比较例3所制造的感光性树脂组合物溶液之后，以90~100°C在加热板上进行50~180秒钟预烘干而形成了膜。所涂敷的膜的厚度为3 μ m，未使用光罩而以波长为365nm且强度为10mW/cm2的紫外线对涂敷有膜的裸玻璃(BareGlass)全体照射了 O~50秒钟。其后，使用对流式烤箱在220°C固化了 I个小时之后，使用紫外可见分光光度计(UvVisibleMeter)在400nm的波长下测定了透射率。
[0070]测定透射率，在400nm的波长中为90%以下时，判断为不良(Bad)，在为93%以上时判断为正常(Normal)，在为95%以上时判断为良好(Good)。
[0071]表1
[0072]
【权利要求】
1.一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有: (a)丙烯酸类共聚物10?30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物聚合而制造且重量平均分子量为 4，000 ?9，000 ； (b)在末端基含有异氰酸酯基(-NCO)的硅烷偶联剂0.1?2重量％ ; (c)感光剂I?15重量％;以及， (d)剩余量的溶剂。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于， 上述丙烯酸类共聚物使用:i)不饱和羧酸或其酐15?30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15?30重量份；以及，iii)烯烃类不饱和化合物40?70重量份，作为单体进行聚合而成。
3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于， 上述i)不饱和羧酸是甲基丙烯酸。
4.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于， 上述ii)含环氧基的不饱和化合物是甲基丙烯酸环氧丙酯。
5.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于， 上述iii)烯烃类不饱和化合物是苯乙烯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸异冰片酯的混合物。
6.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于， 上述丙烯酸类共聚物的重量平均分子量为5，000?7，000。
7.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于， 上述光致抗蚀剂组合物进一步含有0.01?10重量％的可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂。
8.一种基板的微细图案形成方法，包括利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调的工序，上述基板的微细图案形成方法的特征在于， 上述光致抗蚀剂组合物是权利要求1至7中任一项所述的光致抗蚀剂组合物。
9.一种形成有微细图案的基板，其特征在于， 上述微细图案通过权利要求8所述的方法形成。
10.根据权利要求9所述的形成有微细图案的基板，其特征在于，上述微细图案的线宽具有0.1?4 μ m。
11.一种电子器件，其特征在于， 包括权利要求9所记载的基板。
【文档编号】G03F7/004GK104011594SQ201280061667
【公开日】2014年8月27日 申请日期:2012年12月11日 优先权日:2011年12月13日
【发明者】尹赫敏, 吕泰勋, 李相勋, 金珍善, 尹柱豹, 金东明, 金镇祐, 朴璟镇, 李善熙, 黄致容 申请人:东进世美肯株式会社