感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显 ...的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种感光性膜，其具有临时支撑体及光固化性树脂层，所述光固化性树脂层至少含有(A)白色无机颜料、(B)单体、(C)粘合剂、(D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为1μm～40μm，所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％～75质量％，根据所述感光性膜，能够以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层。
【专利说明】感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型 输入装置、以及具备其的图像显示装置
【技术领域】
[0001] 本发明涉及用于制造能够以静电电容的变化来检测出手指的接触位置的静电电 容型输入装置的装饰用感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法、及通过该制造方法获 得的静电电容型输入装置以及具备该静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装置。
【背景技术】
[0002] 在手机、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来有如下设 备，在液晶装置等的表面配置有面板型输入装置，能够通过一边参照液晶装置的图像显示 区域所显示的指示图像，一边使手指或触摸笔等接触显示该指示图像的部位，由此输入与 指示图像对应的信息。
[0003] 这种输入装置（触摸面板）有电阻膜型、静电电容型等。但是，电阻膜型的输入装 置由于是膜和玻璃的2片结构，且是通过对膜进行按压而使其短路的结构，所以具有操作 温度范围窄、或经时变化弱的缺点。
[0004] 与此相对，静电电容型的输入装置具有只要仅在一片基板上形成透光性导电膜即 可的优点。该静电电容型的输入装置中，有如下类型的装置，例如在相互交叉的方向上使电 极图案延伸存在，在手指等接触时，探测电极间的静电电容变化来检测出输入位置（例如 参照下述专利文献1)。
[0005] 另外，作为静电电容型的输入装置，也有如下类型的装置：在对透光性导电膜的两 端施加同相、同电位的交流电，探测手指接触或接近而形成电容器时所流通的微弱电流，检 测出输入位置。作为这种静电电容型输入装置，公开有如下静电电容型输入装置，其具备： 多个第一透明电极图案，将多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而形成；多个 第二透明电极图案，经由层间绝缘层与所述第一透明电极图案电绝缘，且由在与第一方向 交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分构成（例如参照下述专利文献2)。但是，该静 电电容型输入装置由于在所制作的静电电容型输入装置上层叠前面板，所以存在静电电容 型输入装置变厚，并且变重的问题。
[0006] 进而，公开有在前面板的非接触侧表面一体化地形成掩模层、读出电路、层间绝缘 层的静电电容型触摸面板（例如参照下述专利文献3)。该专利文献3中，由于前面板和静 电电容型输入装置一体化，所以静电电容型触摸面板可薄层/轻量化，可根据需要在所述 掩模层和前面板之间设置多种色调（黑、白、浅色系、金属色等）的装饰层，其中特别要求提 高白色装饰层的明度和白色度。
[0007] 目前，作为设置该装饰层的方法，主流是利用液体抗蚀剂涂布或网版印刷等。
[0008] 另一方面，在液晶或有机EL显示器上具备静电电容型触摸面板的智能手机或平 板电脑中，开发且发表了在前面板（直接以手指接触的面）上使用以康宁公司的大猩猩玻 璃为代表的强化玻璃的结构。
[0009] 若想要在该基板上，使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网版印刷墨液来形成白色装 饰层，则为了使用遮盖力小的液体抗蚀剂或网版印刷墨液形成白色装饰层，必须分成数次 进行液体抗蚀剂涂布及网版印刷，存在产生由此引起的泡、不均匀，存在着因工序数目多而 引起收率降低等、不容易降低成本的问题。
[0010] 现有技术文献
[0011] 专利文献
[0012] 专利文献1 :日本特开2007-122326号公报
[0013] 专利文献2 :日本专利第4506785号
[0014] 专利文献3 :日本特开2009-193587号公报
【发明内容】
[0015] 发明所要解决的课题
[0016] 本发明人进行研究而得知，在通过所述文献中记载的方法形成白色装饰层的情况 下，无法获得满足明度、白色度、网状结构、粘附、显影残渣、不均匀的全部特性的性能的白 色装饰层。
[0017] 另外可知，也难以高收率地获得满足所述特性的白色装饰层。
[0018] 本发明所要解决的课题在于，提供一种能够以高收率获得明度、白色度、网状结 构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层的感光性膜。
[0019] 随之，本发明的课题在于，提供能够以简便工序高质量地制造出使用了满足所述 特性的感光性膜、且可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置制造方 法、及利用该制造方法获得的静电电容型输入装置以及使用了该静电电容型输入装置的图 像显示装置。
[0020] 解决问题的方法
[0021] [1] 一种感光性膜，其具有临时支撑体和光固化性树脂层，其中，
[0022] 所述光固化性树脂层至少含有（A)白色无机颜料、(B)单体、（C)粘合剂、(D)光聚 合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为1?40μπι，所述白色无机颜料相对于所述光固化 性树脂层的总固体成分的含有率为20?75质量％。
[0023] [2]如[1]所述的感光性膜，其中，所述白色无机颜料优选为金红石型氧化钛。
[0024] [3]如[1]或[2]所述的感光性膜，其中，所述（B)单体的固体成分相对于所述（C) 粘合剂的固体成分的含量比率B/C优选为0. 4以上。
[0025] [4]如[1]?[3]中任一项所述的感光性膜，其中，优选在所述临时支撑体和所述 光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
[0026] [5] -种静电电容型输入装置的制造方法，
[0027] 所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的至少下述 (1)及⑶?（5)的元件，
[0028] (1)装饰层；
[0029] (3)多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存 在而形成；
[0030] (4)多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一 方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分；
[0031] (5)绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘，
[0032] 该制造方法包含：
[0033] 将[1]?[4]中任一项所述的感光性膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触 侧而至少形成下述（1)装饰层的工序。
[0034] [6]如[5]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选所述静电电容型输 入装置还具有：
[0035] (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述 第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件。
[0036] [7]如[5]或[6]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述第二电极图 案优选为透明电极图案。
[0037] [8]如[5]?[7]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选在 所述（1)装饰层的与所述前面板相反侧的面上还设置（2)掩模层。
[0038] [9]如[8]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选将所述第一透明电 极图案及所述第二电极图案的至少之一遍及所述前面板的非接触面、以及所述掩模层的与 所述前面板相反侧的面这两个区域而设置。
[0039] [10]如[8]或[9]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选所述静电电 容型输入装置还具有：
[0040] (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述 第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
[0041] 且将所述（6)其它导电性元件至少设置于所述掩模层的、与前面板相反侧的面 侧。
[0042] [11]如[5]?[10]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选 以覆盖所述（1)及（3)?（5)的元件的全部或一部分的方式进一步设置透明保护层。
[0043] [12]如[11]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
[0044] 优选使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层和光固化性树脂层的感光性膜形成 所述透明保护层。
[0045] [13]如[5]?[12]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选 所述静电电容型输入装置还具有：
[0046] (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述 第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
[0047] 所述第二电极图案为透明电极图案，
[0048] 通过使用由依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所 形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，以形成所述第一透明电极图案、所述第二 透明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
[0049] [14]如[5]?[13]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，优选 所述静电电容型输入装置还具有：
[0050] (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述 第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件，
[0051] 所述第二电极图案为透明电极图案，
[0052] 将依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及导电性光固化性树脂层的感光性膜的该 导电性固化性树脂层进行转印，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及 所述导电性元件中的至少之一。
[0053] [15]如[5]?[14]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，
[0054] 优选对所述前面板的非接触面进行表面处理，
[0055] 在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置[1]?[4]中任一项所述 的感光性膜。
[0056] [16]如[15]所述的静电电容型输入装置的制造方法，在所述前面板的表面处理 中优选使用硅烷化合物。
[0057] [17]如[5]?[16]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，优选所述前 面板在至少一部分具有开口部。
[0058] [18] -种静电电容型输入装置，其是按照[5]?[17]中任一项所述的静电电容型 输入装置的制造方法制造的。
[0059] [19] -种图像显示装置，其具备[18]所述的静电电容型输入装置作为构成元件。
[0060] 发明效果
[0061] 根据本发明，能够提供一种可以高收率获得明度、白色度、网状结构、粘附、显影残 渣、不均匀均良好的白色装饰层的感光性膜。
[0062] 根据本发明，还可提供一种能够以简便工序高质量地制造出使用了满足所述特性 的感光性膜的、可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置制造方法、 及利用该制造方法获得的静电电容型输入装置以及使用了该静电电容型输入装置的图像 显示装置。
【专利附图】
【附图说明】
[0063][图1]是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。
[0064][图2]是表示本发明的前面板的一例的说明图。
[0065][图3]是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。 [0066][图4]是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的上表面图。
[0067][图5]是表示形成有装饰层、掩模层的前面板的一例的上表面图。
[0068][图6]是表不形成有第一透明电极图案的前面板的一例的上表面图。
[0069][图7]是表示形成有第一及第二透明电极图案的前面板的一例的上表面图。
[0070] [图8]是表示形成有和第一及第二透明电极图案不同的其它导电性元件的前面 板的一例的上表面图。
[0071] [图9]是表示金属纳米线剖面的说明图。
[0072] [图10]是表示半切的方法的说明图。
[0073] [图11]是表示在前面板的X-X'剖面形成装饰层所使用的转印膜的半切方法的说 明图。
[0074] [图12]是表示在前面板的Y-Y'剖面形成装饰层所使用的转印膜的半切方法的说 明图。
[0075][图13]是表示模切方法的说明图。
[0076] [图14]是表示在前面板的X-X'剖面形成装饰层所使用的转印膜的模切方法的说 明图。
[0077] [图15]是表示在前面板的Y-Y'剖面形成装饰层所使用的转印膜的模切方法的说 明图。
[0078] 符号说明
[0079] 1 :前面板
[0080] 2a :装饰层
[0081] 2b :掩模层
[0082] 3:第一透明电极图案
[0083] 3a :衬垫部分
[0084] 3b :连接部分
[0085] 4:第二透明电极图案
[0086] 5 :绝缘层
[0087] 6:导电性元件
[0088] 7 :透明保护层
[0089] 8:开口部
[0090] 10:静电电容型输入装置
[0091] 11 :强化处理玻璃
[0092] 12:其它的导电性元件
[0093] 21 :临时支撑体
[0094] 22 :热塑性树脂层
[0095] 23:中间层
[0096] 24 :着色层
[0097] 25 :覆盖膜
[0098] 31 :非图像部
[00"] 32:图像部
[0100] 33:刀刃
[0101] (：:第1方向
[0102] D :第2方向
【具体实施方式】
[0103] 下面，对本发明的感光性膜、静电电容型输入装置的制造方法、静电电容型输入装 置及图像显示装置进行说明。
[0104] 以下所记载的构成要件的说明基于本发明的代表性实施方式，但本发明不限定于 这样的实施方式。此外，本申请说明书中的"?"以含有其前后记载的数值作为下限值及上 限值的含义来使用。
[0105] [感光性膜]
[0106] 本发明的感光性膜具有临时支撑体及光固化性树脂层，所述光固化性树脂层至少 含有（A)白色无机颜料、（B)单体、（C)粘合剂、（D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的 厚度为1 μ m?40 μ m，且所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含 有率为20质量％?75质量％。
[0107] 由于具有这种构成，本发明的感光性膜能够以高收率获得明度、白色度、网状结 构、粘附、显影残渣、不均匀均良好的白色装饰层。
[0108] 本发明的感光性膜具有临时支撑体及光固化性树脂层。另外，也可以在临时支撑 体和光固化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
[0109] 本发明中使用的感光性膜可以为负型材料，也可以为正型材料。
[0110] 〈临时支撑体〉
[0111] 作为临时支撑体，可使用具有挠性，且在加压下或在加压及加热下不会产生明显 变形、收缩或伸长的材料。作为上述支撑体的例子可举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、三乙 酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中，特别优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯 膜。
[0112] 临时支撑体的厚度没有特别限制，通常为5 μ m?200 μ m的范围，就操作容易度、 通用性等方面而言，特别优选为IOym?150μηι的范围。
[0113] 另外，临时支撑体可以为透明的，也可以含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐 等。
[0114] 另外，对于临时支撑体，可利用日本特开2005-221726记载的方法等赋予导电性。
[0115] 〈光固化性树脂层〉
[0116] 对于本发明的感光性膜而言，所述光固化性树脂层至少含有（A)白色无机颜料、 (B)单体、（C)粘合剂、（D)光聚合引发剂，所述光固化性树脂层的厚度为Ιμπι?40 μπι，且 所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％?75质 量％。
[0117] (厚度）
[0118] 从用于提高将本发明的感光性膜作为静电电容型输入装置的装饰层的光固化性 树脂层的遮盖力的观点出发，所述光固化性树脂层的厚度需为1 μ m?40 μ m。
[0119] 所述光固化性树脂层的厚度更优选为1.5μπι?38μπι，特别优选为1.8μπι? 35 μ m〇
[0120] (组成）
[0121] -(A)白色无机颜料-
[0122] 作为所述光固化性树脂层中使用的所述白色无机颜料，可使用日本特开 2005-7765公报的段落[0015]或段落[0114]中记载的白色颜料。
[0123] 具体而言,优选为氧化钛（金红石型）、氧化钛（锐钛矿型）、氧化锌、锌钡白、轻质 碳酸钙、白碳、氧化铝、氢氧化铝、硫酸钡。更优选为氧化钛（金红石型）、氧化钛（锐钛矿 型）、氧化锌，进一步优选为氧化钛（金红石型）、氧化钛（锐钛矿型），进而更优选为金红石 型氧化钛。
[0124] 氧化钛的表面可进行二氧化硅处理、氧化铝处理、有机物处理。
[0125] 由此可抑制氧化钛的催化剂活性，可改善耐热性、褪光性等。
[0126] 所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质 量％?75质量％，由此能够形成具有良好的明度及白色度，且同时满足其它所要求的特性 的装饰层。另外，从在将本发明的感光性膜用于后述本发明的静电电容型输入装置的制造 方法时，能够充分缩短显影时间的观点出发，所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂 层的总固体成分的含有率也需为20质量％?75质量％。
[0127] 所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率更优选为 25质量％?60质量％，进一步优选为30质量％?50质量％。
[0128] 本说明书中所述的总固体成分是指从所述光固化性树脂层中去除了溶剂等不挥 发成分的总质量。
[0129] 所述白色无机颜料（此外，关于后述的掩模层中使用的其他着色剂也同样）期望 作为分散液使用。该分散液可通过将所述白色无机颜料和颜料分散剂预先混合而获得的组 成物添加于后述有机溶剂（或载色剂）中，使其分散而制备。所谓载色剂是指在涂料处于 液体状态时使颜料分散的媒质的部分，包含液态且和所述颜料结合而形成涂膜的成分（粘 合剂）以及将其溶解稀释的成分（有机溶剂）。
[0130] 作为使所述白色无机颜料分散时使用的分散机，没有特别限制，例如可举出：朝仓 书店2000年发行的朝仓邦造著"颜料词典"第一版第438项中记载的捏合机、辊磨机、研磨 机、超级磨机、溶解器、均质机、砂磨机等公知的分散机。进而也可以通过该文献第310页记 载的机械性磨碎，利用摩擦力来进行微粉碎。
[0131] 从分散稳定性及遮盖力的观点出发，作为本发明中使用的所述白色无机颜料（装 饰层形成用着色剂）的白色无机颜料，优选初级粒子的平均粒径为〇. 16 μ m?0. 3 μ m的颜 料，进一步优选初级粒子的平均粒径为〇. 18 μ m?0. 27 μ m的颜料。进而特别优选初级粒 子的平均粒径为〇. 19 μ m?0. 25 μ m的颜料。若初级粒子的平均粒径为0. 16 μ m，则存在遮 盖力急剧下降而容易看到掩模层的基底，或引起粘度上升。另一方面，若初级粒子的平均粒 径超过0. 3 μ m，则白色度下降，同时遮盖力急剧下降，另外涂布时的表面状况恶化。
[0132] 此外，在此所说的"初级粒子的平均粒径"是指在将粒子的电子显微镜拍摄图像设 定为同面积的圆时的直径，另外，所谓"数均粒径"是对多个粒子求出所述粒径，是指其100 个的平均值。
[0133] 另一方面，在以分散液、涂布液中的平均粒径进行测定的情况下，可使用激光散射 HORIBA H(株式会社堀场Advanced techno公司制）。
[0134] -(B)单体-
[0135] 作为所述光固化性树脂层中使用的所述单体，只要不违反本发明的主旨，则没有 特别限制，可使用公知的聚合性化合物。
[0136] 作为所述聚合性化合物，可使用日本专利第4098550号的段落[0023]?段落 [0024]中记载的聚合性化合物。
[0137] 对于本发明的感光性膜而言，所述（B)单体的固体成分相对于所述（C)粘合剂的 固体成分的含量比率B/C优选为0. 4以上，更优选为0. 58?0. 95,特别优选为0. 6?0. 9。
[0138] -(C)粘合剂-
[0139] 所述光固化性树脂层中使用的所述粘合剂只要不违反本发明的主旨，就没有特别 限制，可使用公知的聚合性化合物。
[0140] 在本发明的感光性膜为负型材料的情况下，光固化性树脂层中优选含有碱可溶性 树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发系。进而可使用着色剂、添加剂等，但不限于 此。
[0141] 本发明中使用的感光性膜中所含的碱可溶性树脂可使用日本特开2011-95716号 公报的段落[0025]、日本特开2010-237589号公报的段落[0033]?段落[0052]中记载的 聚合物。
[0142] 在所述感光性膜为正型材料的情况下，可在光固化性树脂层中使用例如日本特开 2005-221726记载的材料等，但不限于此。
[0143] -(D)光聚合引发剂-
[0144] 作为所述光固化性树脂层中使用的所述光聚合引发剂，可使用日本特开 2011-95716号公报中记载的[0031]?[0042]中记载的聚合性化合物。作为这样的光聚 合引发剂，可举出 " Irgacure-651，'、" Irgacure_184D，'、" Irgacure_1800，'、" Irgacure-907，'、 "Irgacure_369，'、"Irgacure 0XE01，'、"Irgacure 0XE02"（以上为 Ciba Speciality Chemicals 公司制）。
[0145] -添加剂-
[0146] 进而，所述光固化性树脂层也可以使用添加剂。作为所述添加剂，例如可举出：日 本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本特开2009-237362号公报的段落[0060]? [0071]中记载的表面活性剂、或日本专利第4502784号公报的段落[0018]中记载的热聚合 防止剂、以及日本特开2000-310706号公报的段落[0058]?[0071]中记载的其它添加剂。
[0147] -溶剂-
[0148] 另外，作为通过涂布来制造本发明的感光性膜时的溶剂，可使用日本特开 2011-95716号公报的段落[0043]?[0044]中记载的溶剂。
[0149] 以上，以本发明的感光性膜为负型材料的情况为中心进行说明，但所述感光性膜 也可以为正型材料。
[0150] (光固化性树脂层的粘度）
[0151] 光固化性树脂层的KKTC下测定的粘度处于2000?50000Pa .sec的范围，进一步 优选满足下式（A)。
[0152] 式㈧：热塑性树脂层的粘度 <光固化性树脂层的粘度
[0153] 在此，各层的粘度可按如下方式进行测定。通过大气压及减压干燥，从热塑性树脂 层或光固化性树脂层用涂布液中去除溶剂并将其作为测定样品，例如使用Vibron(DD-III 型：东洋鲍德温（株）制）作为测定器，在测定起始温度50°C、测定结束温度150°C、升温速 度5°C /分钟及频率lHz/deg的条件下进行测定，可使用KKTC的测定值。
[0154] 〈热塑性树脂层〉
[0155] 本发明的感光性膜优选在临时支撑体和着色感光性树脂层之间设置热塑性树脂 层。所述热塑性树脂层优选为碱可溶性。热塑性树脂层以可吸收基底表面的凹凸（也包含 由已形成的图像等引起的凹凸等）的方式承担着作为缓冲材料的作用，优选具有可根据对 象面的凹凸来变形的性质。
[0156] 热塑性树脂层优选含有日本特开平5-72724号公报中记载的有机高分子物质作 为成分的方式，特别优选含有选自以维氏（Vicat)法[具体而言，利用美国材料试验法 ASTMD1235的聚合物软化点测定法]测得的软化点约为80°C以下的有机高分子物质中的至 少1种物质的方式。
[0157] 具体而言，可举出：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的 乙烯共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯和乙酸乙烯酯或其 皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏氯乙烯、偏氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯和（甲基）丙烯 酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯和（甲基）丙烯酸酯或其皂 化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸丁酯和乙酸乙烯酯等的 (甲基）丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二 甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂等有机高分子。
[0158] 热塑性树脂层的层厚优选为3 μ m?30 μ m。在热塑性树脂层的层厚低于3 μ m的 情况下，存在层压时的追随性不充分，无法完全吸收基底表面的凹凸的情况。另外，在层厚 超过30 μ m的情况下，存在下述情况：形成热塑性树脂层时的干燥（去除溶剂）会对临时支 撑体施加负荷，或热塑性树脂层的显影需要时间，使工艺适应性恶化。作为所述热塑性树脂 层的层厚，进一步优选为4 μ m?25 μ m，特别优选为5 μ m?20 μ m。
[0159] 热塑性树脂层可将含有热塑性有机高分子的制备液进行涂布等来形成，涂布等时 使用的制备液可使用溶剂来制备。对于溶剂，只要是可溶解构成该层的高分子成分的溶剂， 就没有特别限制，例如可举出：甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇 等。
[0160] 优选所述热塑性树脂层的100°C下测定的粘度处于1000?IOOOOPa *sec的范围。
[0161] 〈其它层〉
[0162] 本发明中使用的感光性膜，可以在光固化性树脂层和热塑性树脂层之间设置中间 层、或在光固化性树脂层的表面进一部设置保护膜等来适当构成。
[0163] 基于防止涂布多层时及涂布后的保存时的成分混合的目的，优选在本发明中使用 的感光性膜中设置中间层。作为中间层优选为日本特开平5-72724号公报中作为"分离层" 记载的具有氧阻隔功能的氧阻隔膜，曝光时的灵敏度提高，可降低曝光机的时间负荷，生产 率提高。
[0164] 作为所述中间层及保护膜，可适当使用日本特开2006-259138号公报的段落 [0083]?[0087]及[0093]中记载的物质。
[0165] 〈感光性膜的制作方法〉
[0166] 本发明的感光性膜可根据日本特开2006-259138号公报的段落[0094]?[0098] 中记载的感光性转印材料的制作方法来制作。
[0167] 具体而言，在形成具有中间层的本发明的感光性膜的情况下，可通过如下操作来 适当制作：在临时支撑体上涂布将添加剂和热塑性有机高分子一起溶解而成的溶解液（热 塑性树脂层用涂布液），使其干燥而设置热塑性树脂层后，在该热塑性树脂层上涂布向不溶 解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备的制备液（中间层用涂布液），使其干 燥而层叠中间层，在该中间层上进一步涂布使用不溶解中间层的溶剂所制备的着色感光性 树脂层用涂布液，使其干燥而层叠着色感光性树脂层。
[0168] [静电电容型输入装置的制造方法]
[0169] 本发明的静电电容型输入装置的制造方法（以下也称为本发明的制造方法）中， 包含将本发明的感光性膜的所述着色层转印于所述前面板的非接触侧而至少形成下述（1) 装饰层的工序，其中，所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的 至少下述⑴及（3)?（5)的元件。
[0170] (1)装饰层
[0171] (3)多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存 在而形成
[0172] (4)多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一 方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分
[0173] (5)绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘
[0174] 本发明的静电电容型输入装置还具有下述（6)。
[0175] (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述 第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件
[0176] 另外，本发明的静电电容型输入装置的第二电极图案也可以为透明电极图案。需 要说明的是，本说明书中有时代替第二电极图案而对第二透明电极图案进行说明，但第二 电极图案的优选方式也和第二透明电极图案的优选方式相同。
[0177] 进而，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选在所述前面板的非接触侧的 所述（1)装饰层的、与所述前面板相反侧的面上进一步设置（2)掩模层。
[0178] 〈静电电容型输入装置的构成〉
[0179] 首先，对利用本发明的制造方法形成的静电电容型输入装置的构成进行说明。图1 是表示本发明的静电电容型输入装置中优选的构成的剖面图。图1中，静电电容型输入装 置10由前面板1、装饰层2a、掩模层2b、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层 5、导电性元件6、透明保护层7构成。
[0180] 前面板1由玻璃基板等透光性基板构成，可使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表 的强化玻璃等。另外，图1中，将前面层1的设置各元件的一侧称为非接触面。本发明的静 电电容型输入装置10中，使手指等与前面板1的接触面（非接触面的相反面）接触等而进 行输入。以下，有时将前面板称为"基材"。
[0181] 另外，在前面板1的非接触面上设有掩模层2b。掩模层2b是在触摸面板前面板的 非接触侧形成的显示区域周围的框状的图案，为了看不到引伸配线等而形成。
[0182] 装饰层2a以装饰为目的而形成于掩模层2b上，即触摸面板前面板的非接触侧和 掩模层2b之间。
[0183] 如图2所示，在本发明的静电电容型输入装置10中，优选以覆盖前面板1的一部 分区域（图2中输入面以外的区域）的方式设置装饰层2a、掩模层2b。进而，如图2所示， 可以在前面板1上，在所述前面板的一部分设置开口部8。可以在开口部8设置按压的机械 性开关。作为基材来使用的强化玻璃的强度高，加工困难，因此，通常为了形成所述开口部 8而在强化处理前形成开口部8,然后进行强化处理。但是，若要在具有该开口部8的强化 处理后的基板上，使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网版印刷墨液来形成白色装饰层透明电 极图案，则可能引起以下问题：抗蚀剂成分自开口部泄漏、或抗蚀剂成分自将遮光图案最大 限度地形成至前面板的边界为止所必须的掩模层的玻璃端渗出，污染基板背侧，但使用本 发明的感光性膜在具有开口部8的基材上形成装饰层2a的情况下，也可以解决上述问题。
[0184] 在前面板1的非接触面形成有：多个第一透明电极图案3,其由多个衬垫部分经由 连接部分在第一方向延伸存在而形成；多个第二透明电极图案4,其与第一透明电极图案3 电绝缘、且由在与所述第一方向交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分构成；绝缘层 5,其将第一透明电极图案3和第二透明电极图案4电绝缘。所述第一透明电极图案3、第二 透明电极图案4及后述的导电性元件6例如可利用ITO(Indium Tin Oxide)或IZO(Indium Zinc Oxide)等透光性导电性金属氧化膜来制作。作为这种金属膜，可举出：ΙΤ0膜；Al、 2]1、(：11、？6、附、0、]/[0等金属膜 ；5;[02等金属氧化膜等。此时，各元件的膜厚可设为10111]1? 200nm。另外，通过烧成将非晶的ITO膜制成多晶的ITO膜，因此，也可以降低电阻。另外， 所述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4及后述导电性元件6也可以使用具有后述 的光固化性树脂层的感光性膜来制造，该光固化性树脂层使用了导电性纤维。除此以外， 在由ITO等形成第一透明电极图案等的情况下，可以以日本专利第4506785号公报的段落 [0014]?[0016]等为参考。
[0185] 另外，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少之一可遍及前面板1的 非接触面、以及掩模层2的与前面板1相反侧的面这两个区域来设置。图1中，示出第二透 明电极图案遍及前面板1的非接触面、以及掩模层2的与前面板1相反侧的面的两区域设 置的图。由此，即便是在遍及需要一定厚度的掩模层及前面板背面而层压感光性膜的情况 下，通过使用本发明的具有特定层结构的感光性膜，能够在不使用真空层压机等高价设备 的条件下，以简单的工序进行在掩模部分边界不产生泡的层压。
[0186] 使用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4进行说明。图3是表示本 发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示，第一透明电 极图案3是衬垫部分3a经由连接部分3b在第一方向延伸存在而形成的。另外，第二透明 电极图案4通过绝缘层5与第一透明电极图案3电绝缘，由在与第一方向交叉的方向（图3 中的第二方向）延伸而形成的多个衬垫部分构成。在此，在形成第一透明电极图案3的情 况下，可以将所述衬垫部分3a和连接部分3b -体化地制作，也可以仅制作连接部分3b，将 衬垫部分3a和第二透明电极图案4制作（构图）为一体。在将衬垫部分3a和第二透明电 极图案4制作（构图）为一体的情况下，如图3所示，以连接部分3b的一部分和衬垫部分 3a的一部分连结、且第一透明电极图案3和第二透明电极图案4通过绝缘层5电绝缘的方 式形成各层。
[0187] 图1中，在掩模层2的与前面板1的相反侧的面侧设置有导电性元件6。导电性元 件6是与所述第一透明电极图案3及所述第二电极图案4的至少之一电连接、且与所述第 一透明电极图案3及所述第二电极图案4不同的其它元件。图1中，表示导电性元件6连 接于第二透明电极图案4的图。
[0188] 另外，图1中，以覆盖全部的各构成元件的方式设置有透明保护层7。透明保护层 7也可以以仅覆盖一部分的各构成元件的方式构成。绝缘层5和透明保护层7可以为同一 材料，也可以为不同材料。作为构成绝缘层5和透明保护层7的材料优选为表面硬度、耐热 性高的材料，可使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。
[0189] 以下，关于本发明的制造方法，对各层的详情进行说明。
[0190] 作为本发明的制造方法的过程中形成的方式例，可举出图4?图8的方式。图4 是表示形成有开口部8的强化处理玻璃11的一例的上表面图。图5是表示形成有装饰层 2a、掩模层2b的前面板的一例的上表面图。图6是表不形成有第一透明电极图案3的前面 板的一例的上表面图。图7是表不形成有第一透明电极图案3和第二透明电极图案4的前 面板的一例的上表面图。图8是表示形成有与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同 的其它导电性兀件6的前面板的一例的上表面图。其中，图6?图8是用于表不从前面板 的装饰层2a侧观察的情况下，前面板内部所存在的第一透明电极图案3、第二透明电极图 案4、其它导电性元件6的配置的概念图，也可以由于利用装饰层2a而不能从装饰层2a侧 肉眼观察这些内部的部件。另外，图6?图8中可具有掩模层2b，也可以不具有掩模层2b。 这些图表示将所述说明具体化的例子，本发明的范围并不通过这些图而作限定性解释。
[0191] 〈⑴装饰层〉
[0192] 本发明的制造方法的特征在于，使用本发明的感光性膜至少形成所述（1)装饰 层。
[0193] 若使用所述感光性膜来形成所述装饰层2a等，则在具有开口部的基板（前面板） 上也不存在抗蚀剂成分自开口部分的泄漏，尤其是不存在抗蚀剂成分从将遮光图案尽可能 形成至前面板的边界为止所必须的掩模层的玻璃端的渗出，因此，不会污染基板背侧，能够 以简单的工序来制造具有薄层/轻量化的优点的触摸面板。
[0194] 使用本发明的感光性膜来形成所述装饰层的方法，通常在使用转印膜的情况下， 若着色层含有光固化性树脂，则可利用通常的光刻的方法来形成。层压于基材上后，曝光成 所需的图案式样，在负型材料的情况下对非曝光部分进行显影处理而去除，在正型材料的 情况下对曝光部分进行显影处理而去除，由此可获得图案。此时，显影可利用不同的溶液将 热塑性树脂层及光固化性层显影去除，也可以利用同一溶液来去除。在此，关于本发明的转 印膜，可以利用下述的通过半切的转印方法或通过模切的转印方法，使用本发明的转印膜 来形成装饰层。
[0195] 通过半切的转印方法中，首先，如图10?图12所示，用剃刀等预切至装饰层的图 像部32和非图像部31的边界后，用胶带去除非图像部31的保护膜、装饰层及中间层，进而 同样去除图像部32的保护膜，向基板上转印装饰层图案。
[0196] 另一方面，在模切的转印方法中，首先，如图13?图15所示，利用剃刀等以贯通全 层的方式预切至装饰层的图像部32和非图像部31的边界后，利用胶带将除去了所述一部 分区域的所述着色层（非图像部31)后所残留的图像部32的保护膜去除，在基板上转印装 饰层图案。
[0197] 接着，通过显影去除热塑性树脂层及中间层，由此可形成装饰层图案。
[0198] 也可以根据需要组合刷子或高压喷射器等公知的显影设备。显影后，也可以根据 需要进行后曝光、后烘烤。
[0199] 另外，为了提高由后述转印工序中的层压实现的感光性树脂层的粘附性，可预先 对基材（前面板）的非接触面实施表面处理。作为所述表面处理，优选实施使用硅烷化合 物的表面处理（硅烷偶合处理）。作为硅烷偶合剂，优选具有与感光性树脂相互作用的官 能基的硅烷偶合剂。例如通过喷淋而吹附硅烷偶合液（Ν-β (氨基乙基）Y-氨基丙基三甲 氧基硅烷0. 3质量％水溶液，商品名：ΚΒΜ603,信越化学（株）制）20秒，并进行纯水喷淋清 洗。然后，通过加热使其反应。可以使用加热槽，也可以通过层压机对基板预加热来促进反 应。
[0200] 对于使用本发明的感光性膜来形成永久材料的情况，以形成装饰层的方法为例， 对使用本发明感光性膜的图案化方法进行说明。
[0201] 所述形成装饰层的方法可举出具有以下工序的方法：覆盖膜去除工序，自本发明 的感光性膜去除所述覆盖膜；转印工序，将去除所述覆盖膜的所述感光性转印材料的所述 感光性树脂层转印于基材上；曝光工序，将转印于基材上的所述感光性树脂层进行曝光； 显影工序，将经曝光的感光性树脂层进行显影而获得图案图像。
[0202] 在以通常的光刻方式形成图像的情况下，可举出具有以下工序的方法：覆盖膜去 除工序，从所述感光性膜去除所述覆盖膜；转印工序，将去除了所述覆盖膜的所述感光性转 印材料的所述感光性树脂层转印于基材上。
[0203] 所述形成装饰层的方法也优选包含以下工序：半切工序，在所述转印膜的一部分 形成贯通所述着色层、且不贯通所述临时支撑体的深度的切口；将由所述切口包围的区域 中至少一部分区域的所述着色层去除的工序；使用将所述一部分区域的所述着色层去除后 的所述转印膜形成所述（1)装饰层的工序。
[0204] 另外，所述形成装饰层的方法也优选包含以下工序：模切工序，在所述转印膜的一 部分形成自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口；使用将所述一部分区域的所述着色层 去除后的所述转印膜形成所述（1)装饰层的工序。
[0205] 关于将在所述转印膜的一部分形成贯通所述着色层、且不贯通所述临时支撑体的 深度的切口的工序、形成自所述着色层贯通所述临时支撑体的切口的工序，也将其称为对 着色层中所转印的图像部预先进行预切的工序。需要说明的是，将形成如上所述的贯通所 述着色层、且不贯通所述临时支撑体的深度的切口的情况也称为半切。将形成自所述着色 层贯通所述临时支撑体的切口的情况也称为模切。
[0206] 关于将所述切口包围的区域中的至少一部分区域的所述着色层去除的工序，也将 其称为将未转印的非图像部的着色层去除的工序。
[0207] 进而，在本发明的转印膜包含保护膜、中间层或热塑性树脂层的情况下，将所述切 口包围的区域中的至少一部分区域的所述着色层去除的工序优选为将非图像部的保护膜 及着色层、及图像部的保护膜去除的工序。
[0208] 关于使用除去了所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜来形成所述（1) 装饰层的工序，也将其称为将所述图像部的着色层转印于基材上的转印工序。
[0209] 进而，在本发明的转印膜含有保护膜、中间层或热塑性树脂层的情况下，关于使用 除去了所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜来形成所述（1)装饰层的工序，优选 为将去除了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的着色层转印于基材上的转印工序。
[0210] 该情况下，进一步使用将所述一部分区域的所述着色层去除后的所述转印膜来形 成所述（1)装饰层的工序，优选为包含将转印于基材上的临时支撑体剥离的工序。
[0211] 该情况下，关于进一步使用去除了所述一部分区域的所述着色层后的所述转印膜 来形成所述（1)装饰层的工序，优选为包含将热塑性树脂层及中间层去除的工序。
[0212] 本发明的制造方法更优选为具有以下工序的方法：对本发明的转印膜的着色层中 的转印的图像部预先进行预切的工序；将非图像部的保护膜及着色层、及图像部的保护膜 去除的工序；将去除了所述保护膜的所述转印膜的所述图像部的着色层转印于基材上的 转印工序；将转印于基材上的临时支撑体剥离的工序；将热塑性树脂层及中间层去除的工 序。
[0213] 另一方面，在所述着色层具有光固化性树脂层的情况下形成所述装饰层的方法， 可举出具有以下工序的方法：自所述转印膜去除所述保护膜的保护膜去除工序；将去除了 所述保护膜的所述感光性转印材料的所述光固化性树脂层转印于基材上的转印工序。该情 况下，优选在所述转印工序后，进一步具有将所转印的光固化性树脂层进行后曝光的工序。
[0214] (预切工序）
[0215] 本发明的制造方法在不利用通常的光刻方式来形成图像的情况下，需要在转印以 前在着色层上形成图像部。
[0216] 作为预切的种类，有如下工序：在所述转印膜的一部分形成贯通所述着色层、且不 贯通所述临时支撑体的深度的切口的工序（半切工序）；形成从所述着色层贯通所述临时 支撑体的切口的工序（模切工序）。
[0217] (i)半切工序
[0218] 首先，以下对半切工序进行说明。
[0219] 作为所述形成切口的方法，没有特别限制，可利用刀刃、激光等任意方法来形成切 口，优选利用刀刃形成切口。另外，刀刃的构造没有特别限定。
[0220] 在所述转印膜例如以临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜的顺序 层叠而构成时，例如可通过使用刀刃或激光形成自保护膜上贯通保护膜、着色层、中间层而 到达热塑性树脂层的一部分的切口，可以将转印的图像部和未转印的非图像部之间分离。
[0221] -去除非图像部的着色层的工序_
[0222] 要将通过半切而预切的着色层的图像部选择性地转印于基板上，需要研究不使非 图像部转印。方法之一是在转印前去除非图像部的着色层的方法，且为去除保护膜后，将非 图像部的着色层和中间层同时剥离的方法。另一方法是剥落非图像部上的保护膜，接着将 着色层和中间层同时剥离，进而剥落图像部上的保护膜的方法。从直至将要转印之前保护 着色层的图像部的观点出发，优选为后者的方法。
[0223] (ii)模切工序
[0224] 接着，以下对在所述转印膜的一部分形成从所述着色层贯通所述临时支撑体的切 口的工序（模切工序）进行说明。
[0225] 作为所述形成切口的方法，与半切相同，没有特别限制，可利用刀刃、激光等任意 方法形成切口，优选为利用刀刃形成切口。另外，刀刃的构造没有特别限定。
[0226] 在所述转印膜例如以临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜的顺序 层叠而构成时，例如通过使用刀刃或激光，形成自保护膜上贯穿保护膜、着色层、中间层、热 塑性树脂层、所述临时支撑体的切口，可以将转印的图像部和未转印的非图像部之间分离。
[0227] (转印工序）
[0228] 所述转印工序是将去除了所述覆盖膜的所述感光性膜的所述光固化性树脂层转 印于基材上的工序。
[0229] 此时，优选为通过将所述感光性膜的光固化性树脂层层压于基材上后，去除临时 支撑体来进行的方法。
[0230] 光固化性树脂层向基材表面的转印（贴合）通过将光固化性树脂层重叠于基材表 面，进行加压、加热来进行。在进行贴合时，可使用层压机、真空层压机、及能够进一步提高 生产率的自动切割层压机等公知的层压机。
[0231] (对基材上的感光性树脂组成物进行曝光的工序）
[0232] 在利用通常的光刻方式来形成图像的情况、使用所述感光性膜而将装饰层应用于 基板上的情况下，所述曝光工序优选为将转印于基材上的所述光固化性树脂层进行曝光的 工序。
[0233] 具体而言，可举出如下方法：在形成于所述基材上的光固化性树脂层的上方配置 规定的掩模，然后经由该掩模、热塑性树脂层以及中间层而从掩模上方进行曝光。
[0234] 在此，作为所述曝光的光源，只要是能够照射可将光固化性树脂层进行固化的波 长区域的光（例如365nm、405nm等）的光源，就可以适当选定来使用。具体而言，可举出 超高压水银灯、高压水银灯、金属卤化物灯等。曝光量通常为5?200mJ/cm 2左右，优选为 10 ?100mJ/cm2 左右。
[0235] (显影工序）
[0236] 在利用通常的光刻方式来形成图像的情况下，所述显影可使用显影液来进行。作 为所述显影液，没有特别限定，可使用日本特开平5-72724号公报中记载的显影液等公知 的显影液。此外，显影液优选为光固化性树脂层进行溶解型的显影行为的显影液，例如优选 为以0. 05?5mol/L的浓度含有pKa = 7?13的化合物的显影液，进而也可以添加少量和 水具有混合性的有机溶剂。作为和水具有混合性的有机溶剂可举出：甲醇、乙醇、2-丙醇、 1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单-正丁醚、苄醇、丙酮、甲 基乙基酮、环已酮、ε-己内酯、Y-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、 乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。该有机溶剂的浓度优选为0.1质 量％?30质量％。
[0237] 另外，所述显影液中可进一步添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选为 0.01质量％?10质量％。
[0238] 作为所述显影的方式，可以为浸置显影、喷淋显影、喷淋及旋转显影、浸渍显影等 的任一种。在此，若对所述喷淋显影进行说明，则可通过喷淋对曝光后的光固化性树脂层吹 附显影液，由此去除未固化部分。
[0239] 另外，在设置热塑性树脂层或中间层的情况下，优选为在显影之前，通过喷淋等来 吹附光固化性树脂层的溶解性低的碱性液，去除热塑性树脂层、中间层等。另外，优选为在 显影之后，一边通过喷淋吹附清洗剂等，利用刷子等进行擦拭，一边去除显影残渣。显影液 的液温度优选为20°C?40°C，另外，显影液的pH值优选为8?13。
[0240] 另一方面，在将通过半切或模切而预切的着色层转印于基材上的情况下，预先形 成所需图案时，可以不包含通常的光刻形式的所述曝光工序或所述显影工序。在该情况下 也设置有热塑性树脂层或中间层的情况下，也可以包含：在转印工序后，将所述热塑性树脂 层和中间层去除的工序，可使用与通常在光刻方式中使用的所述碱显影液相同的显影液， 进行将所述热塑性树脂层和中间层去除的工序。
[0241] (后曝光工序）
[0242] 所述显影工序后也可以包含进行后曝光的工序。
[0243] 所述后曝光工序可仅从所述感光性树脂组成物的与所述基材相接的一侧的表面 方向来进行，也可以仅从不与所述透明基材相接的一侧的表面方向来进行，也可以从两个 面的方向来进行。
[0244] (其它工序）
[0245] 本发明的制造方法也可以包含后烘烤工序等其它工序。
[0246] 此外，作为所述曝光工序、显影工序、及其它工序的例子，也可以将日本特开 2006-23696号公报的段落编号[0035]?[0051]中记载的方法适用于本发明中。
[0247] 此外，构图曝光可在剥离临时支撑体之后进行，也可以在剥离临时支撑体之前进 行曝光，然后剥离临时支撑体。可以为经由掩模的曝光，也可以为使用激光等的数字曝光。
[0248] 〈⑵掩模层〉
[0249] 在本发明的制造方法中，除装饰层2a以外，优选掩模层2b、第一透明电极图案3、 第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性元件6、及根据需要的透明保护层7的至少一个元件 通过使用临时支撑体上层叠有所述感光性树脂组成物的感光性膜来形成，更优选使用依次 具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜来形成。
[0250] 例如，在形成黑色的掩模层2的情况下，可通过使用具有黑色光固化性树脂层作 为所述光固化性树脂层的感光性膜，在所述前面板1的表面转印所述黑色光固化性树脂层 而形成。
[0251] 进而，在需要遮光性的掩模层2b的形成中，可通过使用特定层结构的感光性膜来 防止感光性膜层压时产生气泡，所述特定层结构为在光固化性树脂层和临时支撑体之间具 有热塑性树脂层，可由此形成无光泄漏的高质量的掩模层2b等。
[0252] 在将所述感光性膜的所述光固化性树脂层作为掩模层使用的情况下，可以在光固 化性树脂层中使用着色剂。作为本发明中使用的着色剂，可适宜使用公知的着色剂（有机 颜料、无机颜料、染料等）。此外，本发明中可使用白色、黑色、红色、蓝色、绿色等颜料的混合 物等。
[0253] 尤其是在将所述感光性膜的所述光固化性树脂层作为黑色的掩模层使用的情况 下，从光学浓度的观点出发，优选含有黑色着色剂。黑色着色剂例如可举出碳黑、钛碳、氧化 铁、氧化钛、石墨等，其中，优选为碳黑。
[0254] 为了作为其它颜色的掩模层使用，也可以将日本专利第4546276号公报的段 落[0183]?[0185]等中记载的颜料、或染料混合使用。具体而言，可适宜使用日本特 开2005-17716号公报的段落编号[0038]?[0054]中记载的颜料及染料、日本特开 2004-361447号公报的段落编号[0068]?[0072]中记载的颜料、日本特开2005-17521号 公报的段落编号[0080]?[0088]中记载的着色剂等。
[0255] 从分散稳定性的观点出发，本发明中使用的装饰层以外所使用的着色剂优选数均 粒径为0. 001 μ m?0. 1 μ m的着色剂，进一步优选为0. 01 μ m?0. 08 μ m的着色剂。此外， 在此所谓的"粒径"是指将粒子的电子显微镜拍摄图像设定为同面积的圆时的直径，另外， 所谓"数均粒径"是对多个粒子求出所述粒径，是指其100个的平均值。
[0256] 〈(3)多个衬垫部分经由连接部分而在第一方向延伸存在而形成的多个第一透明 电极图案〉
[0257] 本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选通过使用由依次具有临时支撑体、 热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻 处理，形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性元件中的至少之 〇
[0258] 另一方面，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选使用依次具有临时支撑 体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜形成所述第一透明电极图案、所述第二透 明电极图案及所述导电性元件中的至少之一。所述使用依次具有临时支撑体及导电性光固 化性树脂层的转印膜来形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述导电性 元件中的至少之一，具体而言，是指将依次具有临时支撑体及导电性光固化性树脂层的转 印膜的该导电性光固化性树脂层进行转印而形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电 极图案及所述导电性元件中的至少之一。
[0259] S卩，所述第一透明电极图案3优选通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂 层的感光性膜来形成。
[0260] (蚀刻处理）
[0261] 在通过蚀刻处理来形成所述第一透明电极图案3的情况下，首先在形成有掩模层 2等的前面板1的非接触面上，通过溅射形成ITO等的透明电极层。接着，使用具有蚀刻用 光固化性树脂层作为所述光固化性树脂层的感光性膜，通过曝光、显影而在所述透明电极 层上形成蚀刻图案。然后，可通过对透明电极层进行蚀刻，构图透明电极，去除蚀刻图案来 形成第一透明电极图案3等。
[0262] 在将本发明的感光性膜作为抗蚀剂（蚀刻图案）来使用的情况下，也可以与所述 方法同样地获得抗蚀剂图案。所述蚀刻可利用日本特开2010-152155公报的段落[0048]? [0054]等中记载的公知方法来应用蚀刻、抗蚀剂剥离。
[0263] 例如，作为蚀刻的方法，可举出通常进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀 刻中使用的蚀刻液只要根据蚀刻的对象来适当选择酸性类型或碱性类型的蚀刻液即可。作 为酸性类型的蚀刻液可例示：盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等酸性成分单独的水溶液，酸性成分 和氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可以使用将多种酸性成分组 合而成的成分。另外，作为碱性类型的蚀刻液可例示：氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲 基氢氧化铵之类的有机胺的盐等碱成分单独的水溶液，碱成分和高锰酸钾等盐的混合水溶 液等。碱成分也可以使用将多种碱成分组合而成的成分。
[0264] 蚀刻液的温度没有特别限定，优选为45°C以下。本发明中作为蚀刻掩模（蚀刻图 案）来使用的树脂图案通过使用所述光固化性树脂层来形成，由此，对所述温度范围中的 酸性及碱性的蚀刻液发挥特别优异的耐性。因此，在蚀刻工序中防止树脂图案剥离，对不存 在树脂图案的部分进行选择性蚀刻。
[0265] 在上述蚀刻后，为了防止生产线污染，也可以根据需要进行清洗工序、干燥工序。 关于清洗工序，例如在常温下利用纯水将基材清洗10秒?300秒而进行，关于干燥工序，只 要使用鼓风机并适当调整鼓风机压力（〇. 1?5kg/cm2左右）进行即可。
[0266] 接着，作为树脂图案的剥离方法，没有特别限定，例如可举出在30°C?80°C、优选 为50°C?80°C下，将基材浸渍在搅拌中的剥离液中5?30分钟的方法。本发明中作为蚀刻 掩模使用的树脂图案在如上所述45°C以下表现出优异的耐药液性，若药液温度成为50°C 以上，则表现出因碱性剥离液而膨润的性质。通过这种性质，若使用50°C?80°C的剥离液 来进行剥离工序，则具有工序时间缩短、树脂图案的剥离残渣减少的优点。即，通过在所述 蚀刻工序和剥离工序之间设置药液温度差，本发明中作为蚀刻掩模使用的树脂图案在蚀刻 工序中发挥良好的耐药液性，另一方面，在剥离工序中表现出良好的剥离性，可同时满足耐 药液性和剥离性这两种相反的特性。
[0267] 作为剥离液，例如可举出使氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分、或叔胺、季铵盐等 有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或它们的混合溶液中得到的剥离液。也 可以使用上述剥离液，通过喷射法、喷淋法、浸置法等来剥离。
[0268] (使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜的方法）
[0269] 另外，也可以使用本发明的感光性膜作为提离材料来形成第一透明电极图案、第 二透明电极图案及其它导电性部件。该情况下，可通过使用本发明的感光性膜构图后，在基 材整面上形成透明导电层，然后连同所堆积的透明导电层一起进行本发明的光固化性树脂 层的溶解去除，从而获得所需的透明导电层图案（提离法）。
[0270] 在使用具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成所述第一透明电极图案3 的情况下，可通过在所述前面板1的表面转印所述导电性光固化性树脂层而形成。
[0271] 若使用所述具有导电性光固化性树脂层的感光性膜来形成所述第一透明电极图 案3,则在具有开口部的基板（前面板）上也没有抗蚀剂成分从开口部分的泄漏，不会污染 基板背侧，能够以简略的工序来制造具有薄层/轻量化的优点的触摸面板。
[0272] 进而，第一透明电极图案3的形成中，可通过使用具有特定层结构的本发明的感 光性膜，来防止感光性膜层压时的气泡产生，形成导电性优异且电阻小的第一透明电极图 案3,所述特定层结构在导电性光固化性树脂层和临时支撑体之间具备热塑性树脂层。
[0273] 另外，在感光性膜具有导电性光固化性树脂层的情况下，在所述光固化性树脂层 中含有导电性纤维等。
[0274] ?导电性光固化性树脂层（导电性纤维）?
[0275] 在将所述层叠有导电性光固化性树脂层的感光性膜用于形成透明电极图案、或其 它导电性元件的情况下，可将以下的导电性纤维等用于光固化性树脂层。
[0276] 作为导电性纤维的结构，没有特别限制，可根据目的来适当选择，优选为实心结构 及中空结构的任一种。
[0277] 在此，有时将实心结构的纤维称为"线"，有时将中空结构的纤维称为"管"。另外， 有时将平均短轴长度为5nm?1，OOOnm且平均长轴长度为1 μ m?100 μ m的导电性纤维称 为"纳米线"。
[0278] 另外，有时将平均短轴长度为Inm?1，OOOnm、平均长轴长度为0· 1 μ m? 1，000 μ m且具有中空结构的导电性纤维称为"纳米管"。
[0279] 作为所述导电性纤维的材料，只要具有导电性，则没有特别限制，可根据目的来适 当选择，优选为金属及碳的至少任意之一，这些材料中，所述导电性纤维特别优选金属纳米 线、金属纳米管、及碳纳米管的至少任意之一。
[0280] -金属纳米线-
[0281] --金属一
[0282] 作为所述金属纳米线的材料，没有特别限制，例如优选为选自长元素周期表 (IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期中的至少1种金属，更优选为选自第2族? 第14族中的至少1种金属，进一步优选为选自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、 第12族、第13族及第14族中的至少1种金属，特别优选作为主成分而含有。
[0283] 作为所述金属，例如可举出：铜、银、金、钼、钮、镍、锡、钴、铭、铱、铁、钌、锇、猛、钥、 钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、这些金属的合金等。这些金属中，从导电性优异的方面出发，优选 为主要含有银的金属、或含有银和银以外的金属的合金的金属。
[0284] 所述主要含有银是指金属纳米线中含有银50质量％以上，优选含有90质量％以 上。
[0285] 所述以与银以合金形式进行使用的金属可举出钼、锇、钯及铱等。这些金属可单独 使用1种，也可以组合使用2种以上。
[0286] -形状一
[0287] 作为所述金属纳米线的形状，没有特别限制，可根据目的适当选择，例如可采取圆 柱状、长方体状、剖面成为多边形的柱状等任意的形状，但在需要高透明性的用途中，优选 为圆柱状、剖面的多边形的角圆润的剖面形状。
[0288] 所述金属纳米线的剖面形状可通过在基材上涂布金属纳米线水分散液，利用透射 型电子显微镜（TEM)观察剖面而调查。
[0289] 所述所谓金属纳米线的剖面的角是指将剖面的各边延长、自相邻的边垂下的垂线 相交的点的周边部。另外，所谓"剖面的各边"是指将这些相邻的角和角连结的直线。该情 况下，将所述"剖面的外周长度"相对于所述"剖面的各边"的总长度的比例作为锐利度。在 例如图9所示的金属纳米线剖面中，锐利度能够以实线表示的剖面的外周长度和虚线表示 的五角形的外周长度的比例来表示。将该锐利度为75%以下的剖面形状定义为角圆润的剖 面形状。所述锐利度优选为60%以下，更优选为50%以下。若所述锐利度超过75%，存在 以下情况：在该角中局部存在电子，可能因等离体子吸收增加而残留黄化等，从而导致透明 性恶化。另外，有时图案的边缘部的直线性下降而产生不稳定。所述锐利度的下限优选为 30%，更优选为40%。
[0290] -平均短轴长度及平均长轴长度一
[0291] 所述金属纳米线的平均短轴长度（有时称为"平均短轴径"、"平均直径"）优选为 150nm以下，更优选为Inm?40nm，进一步优选为IOnm?40nm，特别优选为15nm?35nm。
[0292] 若所述平均短轴长度低于lnm，则存在耐氧化性恶化，耐久性变差的情况，若超过 150nm，则存在产生由金属纳米线引起的散射，无法获得充分的透明性的情况。
[0293] 所述金属纳米线的平均短轴长度是使用透射型电子显微镜（TEM，日本电子（株） 制，JEM-2000FX)来观察300个金属纳米线，根据其平均值来求出金属纳米线的平均短轴长 度。需要说明的是，所述金属纳米线的短轴不为圆形的情况下的短轴长度是将最长者作为 短轴长度。
[0294] 所述金属纳米线的平均长轴长度（有时称为"平均长度"）优选为1 μ m?40 μ m， 更优选为3 μ m?35 μ m，进一步优选为5 μ m?30 μ m。
[0295] 若所述平均长轴长度低于1 μ m，则存在难以形成密集的网状物，无法获得充分的 导电性的情况，若超过40 μ m，则存在金属纳米线过长而在制造时会缠绕，在制造过程中产 生凝聚物的情况。
[0296] 关于所述金属纳米线的平均长轴长度，使用例如透射型电子显微镜（TEM，日本电 子（株）制，JEM?2000FX)来观察300个金属纳米线，并根据其平均值来求出金属纳米线 的平均长轴长度。此外，在所述金属纳米线弯曲的情况下，考虑到将其弧作为圆，将根据其 半径及曲率算出的值作为长轴长度。
[0297] 从涂布液的稳定性、涂布时的干燥或构图时的显影时间等工艺适应性的观点出 发，导电性光固化性树脂层的层厚优选为〇· I μ m?20 μ m，进一步优选为0· 5 μ m?18 μ m， 特别优选为1 μ m?15 μ m。从导电性及涂布液的稳定性的观点出发，所述导电性纤维相对 于所述导电性光固化性树脂层的总固体成分的含量优选为〇. 01质量％?50质量％，进一 步优选为〇. 05质量％?30质量％，特别优选为0. 1质量％?20质量％。
[0298] 〈⑷与所述第一透明电极图案电绝缘、且由在与所述第一方向交叉的方向延伸存 在而形成的多个衬垫部分构成的多个第二透明电极图案〉
[0299] 所述第二透明电极图案4可通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的 感光性膜来形成。此时的优选方式和所述第一透明电极图案3的形成方法相同。
[0300] 〈(5)将所述第一透明电极图案和所述第二透明电极图案电绝缘的绝缘层〉
[0301] 在形成绝缘层5的情况下，可通过使用具有绝缘性的光固化性树脂层作为所述光 固化性树脂层的本发明感光性膜，在形成有第一透明电极图案的所述前面板1的表面转印 所述光固化性树脂层来形成。
[0302] 此外，在使用所述感光性膜形成绝缘层的情况下，从保持绝缘性的观点出发，光 固化性树脂层的层厚优选为〇· Iym?5μπι，进一步优选为0· 3μπι?3μπι，特别优选为 0. 5 μ m ~ 2 μ m。
[0303] 〈(6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述 第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件〉
[0304] 所述其它导电性元件6可通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的感 光性膜来形成。
[0305] 所述第二透明电极图案4可通过蚀刻处理或使用具有导电性光固化性树脂层的 感光性膜来形成。此时的优选方式和所述第一透明电极图案3的形成方法相同。
[0306] 〈(7)透明保护层〉
[0307] 在形成透明保护层7的情况下，可通过使用具有透明的光固化性树脂层作为所述 光固化性树脂层的感光性膜，在形成有各元件的所述前面板1的表面转印所述光固化性树 脂层而形成。
[0308] 在使用所述感光性膜形成透明保护层的情况下，从发挥充分的表面保护能力的观 点出发，光固化性树脂层的层厚优选为〇· 5 μ m?10 μ m，进一步优选为0· 8 μ m?5 μ m，特 别优选为I U m?3 μ m。
[0309] 《静电电容型输入装置、及具备静电电容型输入装置作为构成元件的图像显示装 置》
[0310] 利用本发明的制造方法而获得的静电电容型输入装置、及具备该静电电容型输入 装置作为构成元件的图像显示装置可应用：《最新触摸面板技术》（2009年7月6日发行， TechnoTimes (株））、三谷雄二主编且由CMC出版（2004年12月）的"触摸面板的技术和开 发"、2009平板显示器国际论坛（FPD International2009Forum)T-ll讲演文本、赛普拉斯半 导体公司（Cypress Semiconductor Corporation)的应用批注AN2292等中公开的结构。
[0311] 实施例
[0312] 以下，利用实施例对本发明进一步进行具体说明。
[0313] 以下的实施例所示的材料、用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明 的宗旨，则可适当变更。因此，本发明的范围并不通过以下所示的具体例作限定性解释。需 要说明的是，只要无特别说明，则" ％ "及"份"为质量基准。
[0314] [实施例1]
[0315] ?本发明的感光性膜的制备?
[0316] 〈装饰层形成用感光性膜Ll即实施例1的感光性膜的制备〉
[0317] 使用狭缝状喷嘴将下述配方Hl构成的热塑性树脂层用涂布液涂布在厚度75 μ m 的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜临时支撑体上，使其干燥。接着，涂布由下述配方Pl构成的中 间层用涂布液，使其干燥。进而，涂布由下述配方Ll构成的白色光固化性树脂层用涂布液， 使其干燥。按照上述方式在临时支撑体上设置干燥膜厚为15. Iym的热塑性树脂层、干燥 膜厚为1.6μπι的中间层、及干燥膜厚为35μπι的白色光固化性树脂层，最后压接保护膜 (厚度12 μ m的聚丙烯膜）。由此来制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层（氧阻隔膜） 及白色光固化性树脂层成为一体的转印材料，将样品名作为装饰层形成用感光性膜Ll (实 施例1的感光性膜）。
[0318] (热塑性树脂层用涂布液：配方Hl)
[0319] ?甲醇 ：IU质量份 丙二醇笮甲醚乙酸? : 6.36质量份 ?Ψ?乙?ft! ; 52,4 成S份 ? Ψ坫丙烯酸IH_丙怖酸2-乙坫tJJI/ψ坫丙烯酸Tll/Ψ坫丙烯酸-共 聚物(并聚绀成比(摩尔比)=55/Η·7/4·5/28·8，分子M=丨〇万，TgN70°C) :5.83质M份 ?苯乙燥/丙帰酸共聚物(并聚组成比(摩尔比)=63/37, 麗均分子量=1力·，TgHlOOtC) : 13.6质量份 单体1(商品名：BPE-500，新屮村化学.1:业(株)_) :9.1质?份 碳氟系聚合物 ：0.54质S份
[0320] 所述碳氟系聚合物是 40 份的 C6F13CH2CH2OCOCh = CH2、55 份的 H(C)CH(CH3) CH2) 70C0CH = CH2和5份的H(OCHCH2) 70C0CH = CH2的共聚物，重均分子量3万，甲基乙基酮 30质量％溶液（商品名：Megafac F780F，大日本油墨化学工业（株）制）
[0321] 需要说明的是，热塑性树脂层用涂布液Hl的溶剂去除后的120°C的粘度为 1500Pa · sec〇
[0322] (中间层用涂布液：配方Pl)
[0323] -聚乙帰从-ffiC ; 32.2成M份 (商品名：PVA205,(株）nf乐I#制，Q化度= 88%,聚介度550) -聚乙烯J綱t咯烷酬 ：14.9质M份 (商品名：K-3〇? ISP I丨木(株)制） *蒸馏水 ^ 524质M份 5 429 MM份
[0324] (白色光固化性树脂层用涂布液：配方LI)
[0325] 中坫乙坫il(东燃化，(株)制） ：101质M份 ?ACRYBASE FF187(藤仓化成制，1丨丨战丙烯酸节!1/丨丨1战丙烯酸=
[0326] 72/28摩尔比的无规共聚物，it均分子SI 3万，丙二醇笮甲釀乙酸酯溶液 (i!y体成分40.5质s%) :Π 9质Jg份 广丨色颜料分散物1(下述组成） ：157质M份 对苯-：酚单屮_ : 0.077质M份 ? DPHA(：.......:季戊四醉六丙烯It酯，Π 本化药(株)制 :55.7质S份 ?2-1Π 基-1 -(4- ψ基硫苯基)-2-吗!#基-1丙酮 (BASF 口本株式会社制1RGACURE907) : 5.99质M份 表面活性剂(商品名：Megafac F-780F,大口本油堪(株)制） :1.0质M份
[0327] -白色颜料分散物1的组成_
[0328] ?氧化钛（氧化铝处理金红石型，初级粒径0. 2 μ m
[0329] :70.0 质量 ％
[0330] ?甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物，重均分子量3. 7万） :3. 5质量％
[0331] ?甲基乙基酮（东燃化学（株）制）：26· 5质量％
[0332] 〈装饰层形成用感光性膜Ll即实施例1的感光性膜的评价〉
[0333] (转印性的评价）
[0334] 将以上述方式制作的装饰层形成用感光性膜Ll (实施例1的感光性膜）的覆盖膜 剥离，用层压机贴合后，剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯膜制的临时支撑体，观察剥离后的膜表 面，以如下基准进行评价。C以上为实用水平。
[0335] 〈评价基准〉
[0336] A :遍及全面完全转印，转印性极其良好。
[0337] B :仅在膜的边缘存在少许转印残余，转印性良好。
[0338] C :膜整体存在少许转印残余，转印性普通。
[0339] D :在膜的各处存在膜状的感光性树脂的转印残余，转印性差。
[0340] 将评价结果记载于下述表1中。
[0341] ?本发明的静电电容型输入装置的制造?
[0342] 将按照上述获得的实施例1的感光性膜作为装饰层形成用感光性膜使用，制造实 施例1的静电电容型输入装置。
[0343] 《装饰层的形成》
[0344] 在形成有开口部（15πιπιΦ)的强化处理玻璃（300mmX400mmX0. 7mm)上，一边通过 喷淋来吹附调整为25°C的玻璃清洗剂液20秒，一边利用具有尼龙毛的旋转刷进行清洗，进 行纯水喷淋清洗后，通过喷淋来吹附硅烷偶合液（Ν-β氨基乙基）Y-基氨基丙基三甲氧基 硅烷〇. 3质量％水溶液，商品名：ΚΒΜ603,信越化学工业（株）制）20秒，进行纯水喷淋清 洗。利用基材预加热装置将该基材于140°C加热2分钟。从所得的装饰层形成用感光性膜 Ll (实施例1的感光性膜）去除覆盖膜，以去除后所露出的白色光固化性树脂层的表面和 所述硅烷偶合处理玻璃基材的表面接触的方式，在所得的硅烷偶合处理玻璃基材上进行叠 层，使用层压机（（株）日立工业制（Lamic II型）），在上述于120°C加热了的基材上，以橡 胶辊温度120°C、线压lOON/cm、搬送速度2. 5m/分钟进行层压。接着，在与热塑性树脂层的 界面剥离聚对苯二甲酸乙二醇酯的临时支撑体，去除临时支撑体。剥离临时支撑体后，利用 具有超高压水银灯的近接型曝光机（日立高新电子工程（株）制），在将基材和曝光掩模 (具有框图案的石英曝光掩模）垂直立起的状态下，将曝光掩模面和该白色光固化性树脂 层之间的距离设定为500μπι，以曝光量1000mJ/cm 2(i射线）进行图案曝光。
[0345] 接着，将三乙醇胺系显影液（含有三乙醇胺30质量％，以纯水将商品名： T-PD2 (富士胶片（株）制）稀释至10倍而成的溶液）在30°C，以扁平喷嘴压力0· IMPa进 行喷淋显影60秒，去除热塑性树脂层及中间层。接着，对该玻璃基材的上表面吹附空气而 控去液体后,通过喷淋吹附纯水10秒,进行纯水喷淋清洗,吹附空气而减少基材上的液体 积存。
[0346] 然后，使用碳酸钠/碳酸氢钠系显影液（以纯水将商品名：T-CDl (富士胶片（株） 制）稀释至5倍而成的溶液），在35°C将喷淋压力设定为0. IMPa，求出未曝光部能够完全显 影的时间（以下称为断点），以其1. 5倍的显影时间进行显影，利用纯水进行清洗。所述装 饰层形成用感光性膜LI (实施例1的感光性膜）的断点为110秒。
[0347] 接着，使用含表面活性剂的清洗液（以纯水将商品名：T-SD3 (富士胶片（株）制） 稀释至10倍而成的溶液），在33°C通过喷淋而以锥型喷嘴压力0. IMPa吹附44秒，进而利 用具有柔软尼龙毛的旋转刷擦拭所形成的图案像以残渣去除。进而，利用超高压清洗喷嘴， 以SMPa的压力喷射超纯水进行残渣去除，利用气刀控去水，进行80°C、10分钟的烘箱干燥。
[0348] 接着，在大气下，从基板的表面背面分别以曝光量1300mJ/cm2进行后曝光，进而在 真空烘箱中于15mmHg以下的条件下，进行240°C、30分钟的后烘烤处理，获得形成有膜厚 35 μ m的装饰层的前面板。从前面板的未形成装饰层的面测定明度，结果L值为83. 4。另 夕卜，以肉眼观察来判断白色度，结果无问题，为良好的水平。
[0349] (膜厚测定）
[0350] 在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板中，装饰层的膜厚使用表面粗糙度计 P-10(TENC0R社制）测定。将其结果记载于下述表1中。
[0351] 《形成有装饰层的前面板的评价》
[0352] (网状结构评价）
[0353] 将在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板在23°C、相对湿度50%环境下放置 24小时后，使用反射光及透过光，利用显微镜观察前面板的装饰层的表面、及与形成有装饰 层的面的相反面，根据下述基准进行评价。C以上为实用水平。
[0354] 〈评价基准〉
[0355] A :在装饰层图案表面完全未确认到细小"褶皱"的产生，极其良好。
[0356] B :仅在装饰层图案表面的中央部确认产生一部分极其微弱的"褶皱"，但从形成有 装饰层的面的相反面无法辨认，良好。
[0357] C :在装饰层图案表面确认产生少量细小的"褶皱"等，但从形成有装饰层的面的相 反面无法辨认，是实用上无问题的水平，普通。
[0358] D :确认产生相当量的细小"褶皱"等，从形成有装饰层的面的相反面亦观察到微弱 的不均匀，为差的水平。
[0359] E :在整个面上确认产生细小"褶皱"等，从形成有装饰层的面的相反面亦观察到不 均匀，为极差的水平。
[0360] 将评价的结果记载于下述表1中。
[0361] (收率的评价）
[0362] 制作500片在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板，调查可使用的前面板的收 率。
[0363] 〈评价基准〉
[0364] A :收率超过94%，为非常良好的水平。
[0365] B :收率为91 %以上且低于94%，为良好的水平。
[0366] C :收率为88%以上且低于91%，普通。
[0367] D :收率为83%以上且低于88%，差。
[0368] E :收率低于83%，非常差。
[0369] 将评价的结果记载于下述表1中。
[0370] (装饰层粘附的评价）
[0371] 根据JIS K5600-5-6 :IS02409(交叉划线法），在强化处理玻璃上形成有装饰层的 前面板的装饰层上，以Imm宽度形成切口，利用玻璃纸胶带进行剥落，观察装饰层表面是否 存在剥落及针孔。C以上为实用水平。
[0372] 〈评价基准〉
[0373] A :装饰层成分完全未剥落，粘附，为非常良好的水平。
[0374] B :仅在切口边缘存在微少的装饰层成分的剥落，但完全不存在方格的部分，为良 好的水平。
[0375] C :装饰层成分的方格剥落为0 %以上且小于2 %，为实用水准，普通。
[0376] D :装饰层成分的方格剥落为2%以上且小于5%，确认到方格装饰层成分的剥落， 实用上必须修复，差。
[0377] E :确认到5%以上的方格装饰层成分的剥落，实用上必须修复，非常差。
[0378] 将评价的结果记载于下述表1中。
[0379] (显影残渣评价）
[0380] 在装饰层显影后，对所形成的装饰图案轮廓部分及周边部分进行SEM观察，以下 述基准来评价轮廓及周边是否残留残渣。实用水平为C以上。
[0381] 〈评价基准〉
[0382] A :完全未看到残渣，残渣极其良好。
[0383] B :仅在装饰图案的轮廓部分看到微少的残渔，残渣良好。
[0384] C :虽在装饰图案的轮廓部分看到少量残渣，但其它部分未看到残渣，为事实上无 问题的水平，残渣普通。
[0385] D :在装饰图案轮廓部分看到大量残渣，或不仅在装饰图案周边，而且在其以外的 基板上也看到残渣，差。
[0386] E :遍及基板整个面而确认到残渣，残渣非常差。
[0387] 将评价的结果记载于下述表1中。
[0388] (不均匀的评价）
[0389] 使60人从基板的表面背面观察所述形成于强化处理玻璃上的装饰层，根据下述 评价基准进行不均匀的评价。实用水平为C以上。
[0390] 〈评价基准〉
[0391] A :辨认到存在不均匀的人数0?1人
[0392] B :辨认到存在不均匀的人数2?3人
[0393] C :辨认到存在不均匀的人数4?5人
[0394] D :辨认到存在不均匀的人数6?10人
[0395] E :辨认到存在不均匀的人数11人以上
[0396] 将评价的结果记载于下述表1中。
[0397] (开口部污染的评价）
[0398] 利用显微镜观察在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的开口部，观察装饰层 成分是否作为污染存在。
[0399] 〈评价基准〉
[0400] A :在开口部完全未附着装饰层成分的污染，极其良好。
[0401] B :仅在开口部边缘确认到装饰层成分的微少污染，但为可使用的程度，良好。
[0402] C :在自开口部边缘至开口部内侧，确认到数μ m左右的装饰层成分的污染，但实 用上可使用，普通。
[0403] D :在自开口部边缘至开口部内侧，确认到装饰层成分的污染直至玻璃厚度的一 半，实用上必须修复，差。
[0404] E :在自开口部边缘通过开口部内侧直至玻璃的背侧，确认到装饰层成分的污染， 非常差。
[0405] 将评价的结果记载于下述表1中。
[0406](开口部缺陷的评价）
[0407] 对在强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的开口部周边进行显微镜观察，观察 是否存在装饰层成分的剥落及针孔。
[0408] 〈评价基准〉
[0409] A :开口部附近的基板的装饰层成分的剥落完全不存在，为非常良好的水平。
[0410] B :仅在开口部边缘存在微少的剥落，其它部分完全不存在剥落，为良好的水平。
[0411] C :确认到开口部边缘周边数μ m的装饰层成分的剥落，但实用上可使用，普通。
[0412] D :在开口部周边数mm宽度确认到装饰层成分的剥落，实用上必须修复，差。
[0413] E :在开口部周边数cm宽度确认到装饰层成分的剥落，实用上必须修复，非常差。
[0414] 《掩模层的形成》
[0415] 〈掩模层形成用感光性膜Kl的制备〉
[0416] 在所述装饰层形成用感光性膜Ll (实施例1的感光性膜）的制备中，除了将白色 光固化性树脂层用涂布液替代为由下述配方Kl构成的掩模层形成用光固化性树脂层用涂 布液以外，以与装饰层形成用感光性膜Ll (实施例1的感光性膜）的制备相同的方式，获得 掩模层形成用感光性膜Kl (掩模层光固化性树脂层的膜厚为2. 2 μ m)。
[0417] (黑色光固化性树脂层用涂布液）
[0418] 1C颜料分散物I f K述纟I [成） ：31.2质量份 R颜料分散物KT述组成） ：3.3质量份 MMPGAc(人赛璐化学(株)制） ：6.2质M份 Ψ基乙基酮(东燃化学(株)制） ：340质S份 环己酮(关东电化工业(株)制） ：8.5质M份 ?粘合剂2(甲堪丙烯酸苄酯/甲ft丙烯酸=78/22摩尔比的无规共聚物， 朮均分子量3.8万） ：10.8质量份 吩_嗪(东京化成(株)制） ：0.01质M份 ?DPHA(+ 戊μ·?:六丙烯酸|?，Π 木化药(株)制)的丙+ '.醉节Ψ醚乙 酸Pi溶液(76质a%) : 5.5质S份 2,4-双(+-:氣甲, -( (N#-双(乙氧苯羰某甲难)氨难-3, _溴苯 基'二嗪 ：0.4质量份 表而活性剂(商品名：Megafac F-780F，大丨_____丨本_!?!(株） 制） ：0.1质S份
[0419]
[0420] -K颜料分散物1的组成-
[0421] ?碳黑(商品名：Nipex35，徳W赛公nj制） ：丨3.1质M% /卜述分散剂丨 ：0.65质M% 粘合剂1(甲《丙烯酸节酯/甲裉丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物， it均分子量3.7力') :6.72质量％ 丙乂醇单Ψ酿乙酸-- ; 79.53质量％
[0422] [化学式1]
[0423]
【权利要求】
1. 一种感光性膜，其具有临时支撑体和光固化性树脂层，其中， 所述光固化性树脂层至少含有（A)白色无机颜料、(B)单体、（C)粘合剂、(D)光聚合引 发剂， 所述光固化性树脂层的厚度为1 μ m?40 μ m， 所述白色无机颜料相对于所述光固化性树脂层的总固体成分的含有率为20质量％? 75质量％。
2. 根据权利要求1所述的感光性膜，其中，所述白色无机颜料为金红石型氧化钛。
3. 根据权利要求1或2所述的感光性膜，其中， 所述⑶单体的固体成分相对于所述（C)粘合剂的固体成分的含量比率B/C为0.4以 上。
4. 根据权利要求1?3中任一项所述的感光性膜，其中，在所述临时支撑体和所述光固 化性树脂层之间具有热塑性树脂层。
5. -种静电电容型输入装置的制造方法， 所述静电电容型输入装置具有前面板、和在所述前面板的非接触侧的至少下述（1)及 ⑶?（5)的元件， (1)装饰层； (3) 多个第一透明电极图案，其由多个衬垫部分经由连接部分在第一方向延伸存在而 形成； (4) 多个第二电极图案，其与所述第一透明电极图案电绝缘、且包含在与所述第一方向 交叉的方向延伸存在而形成的多个衬垫部分； (5) 绝缘层，其将所述第一透明电极图案和所述第二电极图案电绝缘， 该制造方法包含： 将权利要求1?4中任一项所述的感光性膜的着色层转印于所述前面板的非接触侧而 至少形成所述（1)装饰层的工序。
6. 根据权利要求5所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容型输 入装置还具有： (6) 与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一 透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件。
7. 根据权利要求5或6所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述第二电极图 案为透明电极图案。
8. 根据权利要求5?7中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中， 在所述（1)装饰层的与所述前面板相反侧的面上还设置（2)掩模层。
9. 根据权利要求8所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中， 将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一遍及所述前面板的非接触 面、以及所述掩模层的与所述前面板相反侧的面这两个区域而设置。
10. 根据权利要求8或9所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述静电电容 型输入装置还具有： (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一 透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件， 且将所述（6)其它的导电性元件至少设置于所述掩模层的与前面板相反侧的面侧。
11. 根据权利要求5?10中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中， 以覆盖所述（1)及（3)?（5)的元件的全部或一部分的方式进一步设置透明保护层。
12. 根据权利要求11所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中， 使用依次具有临时支撑体、热塑性树脂层和光固化性树脂层的感光性膜形成所述透明 保护层。
13. 根据权利要求5?12中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述 静电电容型输入装置还具有： (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一 透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件， 所述第二电极图案为透明电极图案， 通过使用由依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及光固化性树脂层的感光性膜所形成 的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明 电极图案及所述导电性元件中的至少之一。
14. 根据权利要求5?13中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述 静电电容型输入装置还具有： (6)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少之一电连接、且与所述第一 透明电极图案及所述第二电极图案不同的其它导电性元件， 所述第二电极图案为透明电极图案， 将依次具有临时支撑体、热塑性树脂层及导电性光固化性树脂层的感光性膜的该导电 性固化性树脂层进行转印，以形成所述第一透明电极图案、所述第二透明电极图案及所述 导电性元件中的至少之一。
15. 根据权利要求5?14中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中， 对所述前面板的非接触面进行表面处理， 在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置权利要求1?4中任一项所述 的感光性膜。
16. 根据权利要求15所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，在所述前面板的 表面处理中使用硅烷化合物。
17. 根据权利要求5?16中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，所述 前面板在至少一部分具有开口部。
18. -种静电电容型输入装置，其是按照权利要求5?17中任一项所述的静电电容型 输入装置的制造方法制造的。
19. 一种图像显示装置，其具备权利要求18所述的静电电容型输入装置作为构成元 件。
【文档编号】G03F7/004GK104246607SQ201380014203
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2013年3月12日 优先权日:2012年3月15日
【发明者】后藤英范, 吉成伸一 申请人:富士胶片株式会社