小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽的制作方法
【专利摘要】本实用新型实施例公开了一种小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽，所述容置框架用于容置3英寸至5英寸的小铬版，主体为框体，框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应。本实用新型实施例通过采用框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应的技术手段，从而可对多片小铬版竖直放置且同时进行后制程，达到了提高生产效率，节约人力成本，提升制品品质的技术效果。
【专利说明】小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及小铬版后制程【技术领域】，尤其涉及一种小铬版容置框架及后制程 用显影槽和蚀刻槽。
【背景技术】
[0002] 小铬版1 (即3英寸至5英寸的铬版）经过光刻机曝光后，接着进行后制程的操作， 即显影、蚀刻和脱膜，现有的主要做法是：
[0003] 1、显影。如图1所示，操作员一手拿着秒表计时，另一只手拿着小铬版1斜插入并 平放在显影槽2中开始显影，膜面朝上观察光刻胶的变化，并注意处理膜面上的气泡，达到 预定的时间后将小络版1拿出冲水；
[0004] 2、蚀刻。操作员一只手拿着小铬版1在蚀刻液中不停晃动，观察铬膜的变化，达到 预定的时间后将小络版1拿出冲水。
[0005] 做完整个后制程，一片小铬版1的耗用时间7分钟左右。
[0006] 现有后制程操作存在以下诸多的问题，具体表现如下：
[0007] 1)耗时长，易造成制品积压，影响整体生产效率。现有的光刻机一次能同时曝光几 十片小铬版，使用时间大概在5分钟至15分钟，而小铬版是一片一片地进行后制程操作，每 片耗时7分钟，因而势必会在该制程环节消耗大量工时，且易造成制品积压，影响整体生产 效率。
[0008] 2)人力成本高。为充分利用光刻机效率，把光刻完的小铬版及时进行后制程操作， 就必须是多人配合同时进行光刻机曝光和后制程操作。
[0009] 3)易产生气泡，严重影响制品品质。小铬版平放的显影方式极易产生气泡，当铬版 膜面朝上放入显影槽时，液体迅速没过小铬版，在小铬版和液体最后结合处很容易形成气 泡，导致该处显影不充分而形成铬残，这对小铬版的品质造成很大的影响。 实用新型内容
[0010] 本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提高生产效率，节约人力成本，提升 制品品质的小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽。
[0011] 为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提出了一种小铬版容置框架，用于容 置3英寸至5英寸的小铬版，所述容置框架的主体为框体，框体相对的内壁上沿竖直方向 一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版 的宽度相适应。
[0012] 进一步地，所述卡槽的横截面为口大底小的等腰梯形，相邻两个卡槽的槽壁的横 截面为等腰三角形。
[0013] 进一步地，所述框体的底部与所述卡槽一一对应地设有用于卡持小铬版边缘的固 定槽。
[0014] 进一步地，所述框体的容置腔的高度小于小铬版长度。
[0015] 相应地，本实用新型实施例还提供了一种后制程用显影槽，所述显影槽的槽体底 部设有如上所述的小铬版容置框架，所述显影槽用于盛放淹没所述小铬版的显影液进行显 影。
[0016] 进一步地，所述显影槽上设有计时器。
[0017] 相应地，本实用新型实施例又提供了一种后制程用蚀刻槽，所述蚀刻槽的槽体底 部设有如上所述的小铬版容置框架，所述蚀刻槽用于盛放淹没所述小铬版的蚀刻液进行蚀 刻。
[0018] 进一步地，所述蚀刻槽上设有计时器。
[0019] 进一步地，所述蚀刻槽还包括连接并驱动小铬版容置框架运动以使蚀刻液充分作 用的动力源。
[0020] 本实用新型实施例的小铬版容置框架及后制程用显影槽和蚀刻槽的有益效果是： 通过采用框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘的卡槽， 且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应的技术手段，从而可对多片小铬版竖 直放置且同时进行后制程，达到了提高生产效率，节约人力成本，提升制品品质的技术效 果。
【专利附图】
【附图说明】
[0021] 图1是现有的后制程操作过程示意图。
[0022] 图2本实用新型实施例的结构示意图。
[0023] 图3是图2所示的小铬版容置框架同时装载多片小铬版时的结构示意图。
【具体实施方式】
[0024] 需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相 互结合，下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
[0025] 请参考图2至图3,本实用新型实施例提供了一种小铬版容置框架10,用于容置 3英寸至5英寸的小铬版20,所述容置框架的主体为框体，框体相对的内壁上沿竖直方向 一一对应地设有多个用于卡持小铬版20边缘的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小 铬版20的宽度相适应，因而所述小铬版20可以顺着卡槽插入小铬版容置框架10中，并保 持竖直状态。
[0026] 所述卡槽的横截面为口大底小的等腰梯形，相邻两个卡槽的槽壁的横截面为等腰 三角形。当然，本领域技术人员可以理解的是，所述横截面还可为其他如矩形等形状。作为 一种实施方式，所述框体的底部与所述卡槽一一对应地设有用于卡持小铬版20边缘的固 定槽，因而，所述固定槽与所述卡槽一一对应连通，以利于对小铬版20更稳固地容置固定。
[0027] 所述框体的容置腔的高度小于小铬版20长度，即所述小铬版20的一端露出所述 容置腔，更利于小铬版20和后制程用化学液体的充分接触并反应，提升后制程的效率和品 质。
[0028] 本实用新型实施例还提供了一种后制程用显影槽（图未示出），所述显影槽的槽 体底部设有如上所述的小铬版容置框架10,所述显影槽用于盛放淹没所述小铬版20的显 影液进行显影。优选地，所述显影槽上设有计时器，从而操作人员无需手持计时器，解放了 操作人员的手以进行其他操作，提升后制程效率。
[0029] 本实用新型实施例又提供了一种后制程用蚀刻槽（图未示出），所述蚀刻槽的槽 体底部设有如上所述的小铬版容置框架10,所述蚀刻槽用于盛放淹没所述小铬版20的蚀 刻液进行蚀刻。优选地，所述蚀刻槽上设有计时器。从而操作人员无需手持计时器，解放了 操作人员的手以进行其他操作，提升后制程效率。
[0030] 作为一种实施方式，所述蚀刻槽还包括连接并驱动小铬版容置框架10运动以使 蚀刻液充分作用的动力源。优选地，所述动力源为直线电机或气缸。
[0031] 优选地，所述显影槽和蚀刻槽还包括匹配覆盖于槽口的盖体和设于槽体两端的握 持部。
[0032] 本实用新型实施例后制程操作过程为：
[0033] 第一步：显影一片小络版20,并确定显影时间。
[0034] 第二步：将多片相同配置相同胶型曝光的小铬版20竖直放置于小铬版容置框架 10中，后将小铬版容置框架10浸入显影槽并开始计时，到第一步确定的时间后拿出冲水。
[0035] 第三步：将小铬版容置框架10浸入蚀刻槽中并开始计时，不停的晃动小铬版容置 框架10使小铬版20和蚀刻液充分反应，到预定时间后拿出冲水。
[0036] 第四步：将所有小铬版20放入脱膜槽进行脱膜，后冲水干净完成后制程。
[0037] 采用本实用新型实施例的后制程用显影槽和蚀刻槽与现有的后制程操作结果的 比较可用表格体现出来，具体如下：
[0038]
【权利要求】
1. 一种小铬版容置框架，用于容置3英寸至5英寸的小铬版，其特征在于，所述容置框 架的主体为框体，框体相对的内壁上沿竖直方向一一对应地设有多个用于卡持小铬版边缘 的卡槽，且两相对应的卡槽的槽底距离与小铬版的宽度相适应。
2. 如权利要求1所述的小铬版容置框架，其特征在于，所述卡槽的横截面为口大底小 的等腰梯形，相邻两个卡槽的槽壁的横截面为等腰三角形。
3. 如权利要求1所述的小铬版容置框架，其特征在于，所述框体的底部与所述卡槽 一一对应地设有用于卡持小铬版边缘的固定槽。
4. 如权利要求1所述的小铬版容置框架，其特征在于，所述框体的容置腔的高度小于 小络版长度。
5. -种后制程用显影槽，其特征在于，所述显影槽的槽体底部设有如权利要求1至4中 任一项所述的小铬版容置框架，所述显影槽用于盛放淹没所述小铬版的显影液进行显影。
6. 如权利要求5所述的后制程用显影槽，其特征在于，所述显影槽上设有计时器。
7. -种后制程用蚀刻槽，其特征在于，所述蚀刻槽的槽体底部设有如权利要求1至4中 任一项所述的小铬版容置框架，所述蚀刻槽用于盛放淹没所述小铬版的蚀刻液进行蚀刻。
8. 如权利要求7所述的后制程用蚀刻槽，其特征在于，所述蚀刻槽上设有计时器。
9. 如权利要求7所述的后制程用蚀刻槽，其特征在于，所述蚀刻槽还包括连接并驱动 小铬版容置框架运动以使蚀刻液充分作用的动力源。
【文档编号】G03F7/30GK204215148SQ201420694115
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年11月18日 优先权日:2014年11月18日
【发明者】杜武兵, 林伟, 吕振群 申请人:深圳市路维光电股份有限公司