技术总结
本发明公开了一种光刻机检测用掩膜版，所述的掩膜版包含有主图形区及划片区：所述的主图形区为一种或多种尺寸图形的重复规则排列而成的图形区域，该区域几乎覆盖整块掩膜版；所述的划片区，即把主图形区均匀分割开的区域。划片区内包含有9个相同的CD Bar标记，所述9个CD Bar标记均匀分布在划片区上；划片区还包含两套OVL对准标记：其中一套为OVL自对准标记，包含4个OVL自对准标记，其位置放置在划片区的外围区域；另一套为OVL外对准标记，包含4个OVL外对准标记，其位置也放置在划片区的外围区域。本发明只用一块掩膜版就能实现对光刻机多种项目的检测。
技术研发人员：李伟峰
受保护的技术使用者：上海华虹宏力半导体制造有限公司
文档号码：201610874750
技术研发日：2016.09.30
技术公布日：2017.01.04