一种用于制备显示基板的曝光系统及曝光控制方法与流程

本发明涉及液晶显示器制备领域，特别是涉及一种用于制备显示基板的曝光系统及曝光控制方法。

背景技术：

在彩色滤光片基板的生产工艺中，曝光机(Scanner)是实现彩色滤光片基板高精度曝光的关键设备。其中，在材料的配合下，曝光机可以实现4μm以下的BM CD(Critical Dimension，线宽)的高精细产品生产，但是，在高精度产品的生产过程中对产品的TP(Total Pitch)数据的要求很高。但是曝光机的曝光精度极易受温度、湿度、玻璃基板(Glass)变形等因素而发生变化，因此需要实时测量TP数据并进行及时补正。其中，检测设备(TTP)是测量曝光机曝光完成后的TP数据以反映曝光精度的设备，检测设备测量的TP数据将直接用于曝光机的参数的调整以控制曝光机曝光出的产品的TP数据在预定范围内。

为了对TP数据进行补正，目前的做法是：采用手动的方法来进行TP数据的补正，即TTP设备测完TP数据后，需要人员手动去取出此数据，然后人员手动计算产品的实测TP数据与标准TP数据之间的差值，再手动按照曝光机要求的格式将此差值补正进曝光机。由于全程采用手动操作，存在补正的不及时性。进一步，当发生TP数据异常的时候，由于补正的不及时可能会造成几十甚至几百张产品的不良(NG)，从而造成巨大损失。

当然，对于需要进行曝光处理的其它基板也具有同样的问题。

技术实现要素：

本发明提供一种用于制备显示基板的曝光系统及曝光控制方法，能够自动地对曝光机的运行参数进行及时校正，进而保证曝光机能够实现高精度产品的生产。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种用于制备显示基板的曝光系统，该曝光系统包括曝光设备、检测设备以及分别与曝光设备和检测设备进行通讯的用户主机，其中检测设备用于对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机，用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将校正数据发送到曝光设备，曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正，进而使得经校正后的曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标更接近标准指标。

其中，用户主机进一步从曝光设备获取与显示基板对应的曝光流程的标识，并将标识发送至检测设备，检测设备进一步将标识与检测的显示基板的产品指标进行关联后发送回用户主机，用户主机进一步将校正数据与标识进行关联后发送到曝光设备，以使曝光设备能够根据校正数据对标识所对应的曝光流程的运行参数进行调整。

其中，显示基板为彩色滤光片基板，产品指标为设置于彩色滤光片基板的显示区域外围的至少两个标记点的坐标或者至少两个标记点之间的间距。

其中，用户设备进一步判断检测的显示基板的产品指标与标准指标之间的差异是否在预设误差许可范围内，若在预设误差许可范围内，则不发送校正数据到曝光设备，若超出预设误差许可范围，则发送校正数据到曝光设备。

其中，校正数据至少包括产品指标与标准指标之间的差值。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种用于制备显示基板的曝光控制方法，该方法包括以下步骤：在用户主机与曝光设备和检测设备之间建立通讯连接；由检测设备对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机；由用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将发送到曝光设备；由曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正，进而使得经校正后的曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标更接近标准指标。

其中，在由检测设备对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机步骤之前，进一步包括：由用户主机从曝光设备获取与显示基板对应的曝光流程的标识，并将标识发送至检测设备；由检测设备对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机的步骤包括：由检测设备将标识与检测的显示基板的产品指标进行关联后发送回用户主机；由用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将发送到曝光设备的步骤包括：由用户主机将校正数据与标识进行关联后发送到曝光设备；由曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正的步骤包括：由曝光设备根据校正数据对标识所对应的曝光流程的运行参数进行调整。

其中，显示基板为彩色滤光片基板，产品指标为设置于彩色滤光片基板的显示区域外围的至少两个标记点的坐标或者至少两个标记点之间的间距。

其中，由用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将发送到曝光设备的步骤包括：由用户设备进一步判断检测的显示基板的产品指标与标准指标之间的差异是否在预设误差许可范围内；若在预设误差许可范围内，则不发送校正数据到曝光设备；若超出预设误差许可范围，则发送校正数据到曝光设备。

其中，校正数据至少包括产品指标与标准指标之间的差值。

本发明实施例的有益效果是：区别于现有技术，本发明的用于制备显示基板的曝光系统及曝光控制方法通过设置分别与曝光设备和检测设备进行通讯的用户主机，其中检测设备用于对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机，用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将校正数据发送到曝光设备，曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正。通过上述方式，本发明能够自动地对曝光机的运行参数进行及时校正，进而保证曝光机能够以高曝光精度实现高精度产品的生产，防止出现校正不及时导致大规模产品不良的情况。

附图说明

图1是本发明实施例的用于制备显示基板的曝光系统的结构示意图；

图2是显示基板上的四个标记点的结构示意图；

图3是本发明第一实施例的用于制备显示基板的曝光控制方法的流程图；

图4是本发明第二实施例的用于制备显示基板的曝光控制方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1是本发明实施例的用于制备显示基板的曝光系统的结构示意图。如图1所示，曝光系统包括曝光设备11、检测设备12以及分别与曝光设备11和检测设备12进行通讯的用户主机13。

其中，用户主机13通过HSMS协议与曝光设备11和检测设备12进行通信。具体来说，HSMS的全称是High-speed SECS Message Services，其中SECS是Semiconductor Equipment Communication Standard的缩写，SECS是半导体及面板行业普遍应用的设备间的自动通信协议，HSMS实际为SECS的高速信息服务加强版。

在本实施例中，检测设备12用于对经曝光设备11曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机13。用户主机13根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将校正数据发送到曝光设备11。曝光设备11根据校正数据对曝光设备11的运行参数进行校正，进而使得经校正后的曝光设备11曝光后形成的显示基板的产品指标更接近标准指标。

具体来说，用户主机13从曝光设备11获取与显示基板对应的曝光流程的标识，并将标识发送至检测设备12。其中，曝光流程的标识可以为曝光编号(Scanner Recipe No.)或掩膜名称(Mask Name)等等。检测设备12对经曝光设备11曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，将标识与检测的显示基板的产品指标进行关联后发送回用户主机13。用户主机13根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，将校正数据与标识进行关联后发送到曝光设备11，以使曝光设备11能够根据校正数据对标识所对应的曝光流程的运行参数进行调整。

优选地，用户主机13进一步用于判断检测的显示基板的产品指标与标准指标之间的差异是否在预设误差许可范围内，若在预设误差许可范围内，则不发送校正数据到曝光设备，若超出预设误差许可范围，则发送校正数据到曝光设备11。

优选地，显示基板为彩色滤光片基板，产品指标为设置于彩色滤光片基板的显示区域外围的至少两个标记点的坐标或者至少两个标记点之间的间距。

优选地，校正数据至少包括产品指标与标准指标之间的差值。

具体来说，当产品指标为至少两个标记点的坐标时，校正数据为至少两个标记点的坐标差值也即至少两个标记点对应的短寸TP数据。当产品指标为至少两个标记点之间的间距时，校正数据为至少两个标记点的间距差值也即至少两个标记点对应的长寸TP数据。

以标记点为四个标记点为例来说，请一并参考图2，图2是显示基板上的四个标记点的结构示意图。如图2所示，四个标记点呈矩形设置，且上下左右对称分布。四个标记点分别为位于左上的第一标记点shot1、右上的第二标记点shot2、右下的第三标记点shot3和左下的第四标记点shot4。

其中，每个标记点包括八个坐标点，八个坐标点设置在矩形的顶点和每条边的中点位置。八个坐标点按照顺时针方向分别记为第一坐标点1、第二坐标点2……、第八坐标点8，其中，第一坐标点1位于各标记点的左上角。

其中，短寸TP数据包括32个坐标值的差值，其具体为32个坐标点对应的检测到的坐标值和标准坐标值的差值。长寸TP数据包括6个距离数据的差值，其分别为第一标记点shot1的第一坐标点1和第二标记点shot2的第三坐标点3的距离、第一标记点shot1的第一坐标点1和第四标记点shot4的第七坐标点7的距离、第一标记点shot1的第一坐标点1与第三标记点shot3的第五坐标点5的距离，第二标记点shot2的第三坐标点3和第三标记点shot3的第五坐标点5的距离，第四标记点shot4的第七坐标点7和第三标记点shot3的第五坐标点5的距离以及第四标记点shot4的第七坐标点7和第二标记点shot2的第三坐标点3的距离的检测值与标准距离值的差值。

图3是本发明第一实施例的用于制备显示基板的曝光控制方法的流程图。如图3所示，该方法包括步骤：

步骤S101：在用户主机与曝光设备和检测设备之间建立通讯连接。

在步骤S101中，用户主机分别与曝光设备和检测设备连接，其中，用户主机通过HSMS协议与曝光设备和检测设备进行通信。

其中，HSMS的全称是High-speed SECS Message Services，其中SECS是Semiconductor Equipment Communication Standard的缩写，SECS是半导体及面板行业普遍应用的设备间的自动通信协议，HSMS实际为SECS的高速信息服务加强版。

步骤S102：由检测设备对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机。

在步骤S102中，显示基板为彩色滤光片基板，产品指标为设置于彩色滤光片基板的显示区域外围的至少两个标记点的坐标或至少两个标记点之间的间距。

步骤S103：由用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将发送到曝光设备。

在步骤S103中，校正数据至少包括产品指标与标准指标之间的差值。具体来说，当产品指标为至少两个标记点的坐标时，校正数据为至少两个标记点的坐标差值也即至少两个标记点对应的短寸TP数据。当产品指标为至少两个标记点之间的间距时，校正数据为至少两个标记点的间距差值也即至少两个标记点对应的长寸TP数据。

步骤S104：由曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正，进而使得经校正后的曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标更接近标准指标。

在步骤S104中，当曝光设备接收到用户主机发送的校正数据后，曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正，从而使得曝光设备能够以高曝光精度实现高精度产品的生产。

图4是本发明第二实施例的用于制备显示基板的曝光控制方法的流程图。如图4所示，该方法包括步骤：

步骤S201：在用户主机与曝光设备和检测设备之间建立通讯连接。

步骤S202：由用户主机从曝光设备获取与显示基板对应的曝光流程的标识，并将标识发送至检测设备。

在步骤S202中，曝光流程的标识可以为曝光编号(Scanner Recipe No.)或掩膜名称(Mask Name)等等。

其中，显示基板可以为彩色滤光片基板，也可以为其它基板。本领域的技术人员可以理解，不同的基板在生产过程中的曝光流程不同，同一基板在生产的过程中也可能需要多个不同的曝光流程，不同的曝光流程对应不同的标识。

步骤S203：由检测设备对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，由检测设备将标识与检测的显示基板的产品指标进行关联后发送回用户主机。

在步骤S203中，当检测设备完成对曝光设备曝光后的显示基板的检测后，将显示基板对应的曝光流程的标识与检测出的产品指标进行关联后发送给用户主机。

本领域的技术人员可以理解，由于检测设备需要对不同的显示基板或者显示基板形成的不同阶段进行检测，将标识与产品指标进行关联后发送给用户主机，可以防止产品指标与曝光流程出现不对应的情况。

步骤S204：由用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据。

在步骤S204中，校正数据至少包括产品指标与标准指标之间的差值。具体来说，当产品指标为至少两个标记点的坐标时，校正数据为至少两个标记点的坐标差值也即至少两个标记点对应的短寸TP数据。当产品指标为至少两个标记点之间的间距时，校正数据为至少两个标记点的间距差值也即至少两个标记点对应的长寸TP数据。

步骤S205：由用户设备判断检测的显示基板的产品指标与标准指标之间的差异是否在预设误差许可范围内，若超出预定误差许可范围，则执行步骤S206，否则执行步骤S208。

步骤S206：由用户主机将校正数据与标识进行关联后发送到曝光设备。

在步骤S206中，当步骤S205判断检测的显示基板的产品指标与标准指标之间的差异超出预定误差许可范围时，由用户主机将校正数据与标识进行关联后发送到曝光设备。

步骤S207：由曝光设备根据校正数据对标识所对应的曝光流程的运行参数进行调整。

在步骤S207中，当曝光设备接收到用户主机发送的校正数据后，曝光设备根据校正数据对对标识所对应的曝光流程的运行参数进行调整，从而使得曝光设备能够以高曝光精度实现高精度产品的生产。

步骤S208：用户主机不发送校正数据到曝光设备。

在步骤S208中，当步骤S205判断检测的显示基板的产品指标与标准指标之间的差异在预定误差许可范围内时，用户主机不发送校正数据到曝光设备，也就是说，曝光设备不需要对曝光流程的运行参数进行调整。

本发明实施例的有益效果是：区别于现有技术，本发明的用于制备显示基板的曝光系统及曝光控制方法通过设置分别与曝光设备和检测设备进行通讯的用户主机，其中检测设备用于对经曝光设备曝光后形成的显示基板的产品指标进行检测，并发送到用户主机，用户主机根据检测的显示基板的产品指标与标准指标计算校正数据，并将校正数据发送到曝光设备，曝光设备根据校正数据对曝光设备的运行参数进行校正。通过上述方式，本发明能够自动地对曝光机的运行参数进行及时校正，防止出现校正不及时导致大规模产品不良的情况。换个角度来说，本发明能够保证自动化实现显示基板的产品指标的测量、校准数据的计算以及校准数据的补正，从而保证曝光机能够以告曝光精度实现高精度产品的生产。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。