1.一种矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)确定理论膜系，根据超窄带带通滤光片预先要求的性能参数确定滤光片的膜系结构；
(2)使用全自动镀膜机，根据上述获得的理论膜系结构，制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件；
(3)在镀膜机内装入选定的镀膜材料，采用偏心监控的控制方式，镀膜机按选定的模板控制文件自动完成滤光片的制作。
2.如权利要求1所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤(1)中，以多腔滤光片的典型膜系结构为基础，选取Ta2O5作为高折射率材料，SiO2为低折射率材料，分别定义Ta2O5和SiO2在λ/4的单位光学厚度为H和L。
3.如权利要求2所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤(2)中，全自动镀膜机具有石英晶体振荡膜厚控制仪、高精度光学膜厚控制仪和射频离子源辅助镀膜。
4.如权利要求3所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述矩形深截止超窄带带通滤光片工作于1064nm，典型半宽5.2nm。
5.如权利要求4所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述超窄带带通滤光片预先要求的性能参数包括：理论半宽，分布值为5～5.4nm，通带平均透过率大于或等于95％的区域，其宽度不小于3nm。
6.如权利要求5所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤(1)中，在计算机上，使用膜系设计软件TFC Calc对上述H和L进行模拟，根据超窄带带通滤光片要求的性能参数确定滤光片的膜系结构。
7.如权利要求6所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述膜系结构为：基板/(HLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL)(HLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL)(HLHLHLHLH4LHLHLHLHL0.6H0.8L)/空气。
8.如权利要求7所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述膜系结构中的典型膜系结构为：基板/(HL)^a H bL(HL)^(a+1)(HL)^c H dL(HL)^(c+1)……(HL)^m H nL(HL)^(m+1)/空气，实际镀制时腔的数量和每个腔的具体参数由所需产品的性能参数决定。
9.如权利要求8所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤(3)中，偏心监控方式的监控点的选择以获得尽可能大的镀膜有效面积为目的。
10.如权利要求9所述的矩形深截止超窄带带通滤光片的制作方法，其特征在于，偏心监控方式中，选定离工件载盘中心半径为22mm的圆周上一点为监控点，通过监控基板上该点的透射光强度来控制镀膜进程实现的。