一种移相装置以及定位方法与流程

文档序号:12062349阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种移相装置,其特征在于,包括:

光程匹配模块和移相模块;

所述光程匹配模块包括第一光纤、第一透镜、第二光纤、第二透镜

和电机;

所述第一光纤、第一透镜、第二光纤和第二透镜依次设置在同一光轴上;

所述电机驱动第二光纤和第二透镜沿光轴方向移动;

所述移相模块包括光楔对和移相器,所述移相器驱动光楔对中的一块光楔沿垂直于光轴的方向移动。

2.如权利要求1所述的移相装置,其特征在于,所述光楔对包括第一光楔和第二光楔,所述第一光楔与第二光楔是两块完全一样的光楔。

3.如权利要求2所述的移相装置,其特征在于,所述第一光楔与第二光楔的楔角γ大小范围为1~10度。

4.如权利要求2所述的移相装置,其特征在于,所述第一光楔的第一面与第二光楔的第一面平行,两个平行面之间的距离为d,第一透镜的光轴分别垂直于第一光楔和第二光楔的第一面。

5.如权利要求4所述的移相装置,其特征在于,所述第一光楔和第二光楔的楔角为γ,光程改变量ΔOPD与移相器的移动量ΔL和光楔的折射率n之间的关系满足以下公式:

ΔOPD=(n-1)*ΔL*tanγ

6.如权利要求2所述的移相装置,其特征在于,所述第一光楔的一个面与第二光楔的一个面平行,且两个平行面之间的距离为d,从第一透镜出射的平行光波分别垂直于第一光楔和第二光楔的第一面。

7.如权利要求6所述的移相装置,其特征在于,所述第一光楔和第二光楔的楔角为γ,光程改变量ΔOPD与移相器的移动量ΔL和光楔的折射率n之间的关系满足以下公式:

ΔOPD=(n-1)*ΔL*tanγ

且移相器的移动量ΔL满足公式:

<mrow> <mi>&Delta;</mi> <mi>L</mi> <mo>&lt;</mo> <mfrac> <mi>d</mi> <mrow> <mi>sin</mi> <mi>&gamma;</mi> </mrow> </mfrac> </mrow>

8.如权利要求5或7所述的移相装置,其特征在于,所述移相量的计算公式为

<mrow> <mi>&Delta;</mi> <mi>&theta;</mi> <mo>=</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mi>&pi;</mi> <mo>*</mo> <mi>&Delta;</mi> <mi>O</mi> <mi>P</mi> <mi>D</mi> </mrow> <mi>&lambda;</mi> </mfrac> <mo>=</mo> <mfrac> <mrow> <mn>2</mn> <mi>&pi;</mi> <mo>*</mo> <mrow> <mo>(</mo> <mi>n</mi> <mo>-</mo> <mn>1</mn> <mo>)</mo> </mrow> <mo>*</mo> <mi>&Delta;</mi> <mi>L</mi> <mo>*</mo> <mi>t</mi> <mi>a</mi> <mi>n</mi> <mi>&gamma;</mi> </mrow> <mi>&lambda;</mi> </mfrac> </mrow>

其中,λ为移相干涉仪工作波长。

9.一种标定方法,其特征在于,包括步骤:

S1,启动移相干涉仪和如权利要求1所述的移相装置,调节被测光学元件至干涉条纹清晰,等候移相干涉仪的光源稳定;

S2,采集一幅移相干涉图,采集完成后驱动移相器推动光楔对中的一个光楔移动,并采集干涉图;

S3,重复步骤S2,先后采集四幅干涉图;

S4,对采集的五幅移相干涉图进行处理计算,得到移相量为θ;

S5,将计算得到的移相量θ与理想移相量θ′相比,得到移相器线性移相误差的标定系数k,实现移相器的标定。

10.如权利要求9所述的标定方法,其特征在于,所述步骤S1中的干涉条纹为3~5根。

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