技术总结
本发明公开了一种掩膜板和阵列基板。该掩膜板包括相连的第一区和第二区；第一区整体设置遮挡光线；第二区设置包括相对设置的第一端和第二端，第二区的第一端与第一区连接为一体；第二区开设有多条贯穿第一端和第二端的狭缝；狭缝满足W2‑W1＝tanα·y；其中，W1为狭缝在第一端的宽度和，W2为狭缝在第二端的宽度和，α为待刻蚀的目标坡面的坡角，y为第一端与第二端的间距。在有机绝缘膜的生产过程中，通过符合设定规则的狭缝的宽度变化控制参与光刻的光强，而光线透过狭缝后的衍射又能使得正对狭缝之间遮挡区域的有机膜层被光照射到，在该有机膜层进行ITO光刻时，光线的入射方向上光刻胶的厚度变小，光刻时能够有效避免光刻胶的残留，改善金属残留提高良品率。
技术研发人员：沈柏平;潘朝煌;张沼栋
受保护的技术使用者：厦门天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司
文档号码：201611183429
技术研发日：2016.12.20
技术公布日：2017.05.17