1.一种彩膜基板，包括第一透明基板，设置于所述第一透明基板上的彩膜以及设置于所述彩膜上的公共电极层，其特征在于，
所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；
所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所有所述第二子电极电连接。
5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板，其特征在于，还包括设置于所述第一透明基板与所述公共电极层之间的遮光条，所述遮光条具有多个开口区域，所述彩膜形成于所述遮光条的开口区域。
6.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在第一透明基板上形成彩膜，所述彩膜包括对应每个像素区域的亚像素彩膜；其中，至少一个所述亚像素彩膜具有镂空区域；
在所述彩膜上形成公共电极层，所述公共电极层包括第一子电极和第二子电极，所述第一子电极和所述第二子电极绝缘；所述第一子电极与所述亚像素彩膜的非镂空区域对应；所述第二子电极与所述亚像素彩膜的镂空区域对应。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，每个所述亚像素彩膜均具有所述镂空区域。
8.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述镂空区域位于所述亚像素彩膜的中部。
9.根据权利要求6-8任一项所述的制作方法，其特征在于，形成所述彩膜具体包括：
在所述第一透明基板上对应每个像素区域的亚像素彩膜；
采用一次构图工艺，在至少一个所述亚像素彩膜中形成所述镂空区域。
10.根据权利要求6-8任一项所述的制作方法，其特征在于，形成所述公共电极层包括：
采用一次构图工艺，形成所述第一子电极和所述第二子电极。