技术特征：
技术总结
本发明提供一种相移掩模坯板，抑制制作相移掩模时的蚀刻液的消耗量，且用于得到精细且高精度的图案和不产生凹缺陷的相移掩模。相移掩模坯板(10)在透明基板(11)上将相移膜(12)、蚀刻阻止膜(13)、遮光膜(14)依次形成，相移膜(12)由含有铬和选自氧、氮、碳、氟中的至少一种的铬化合物构成，蚀刻阻止膜(13)由含有金属和硅的金属硅化物构成，相移膜(12)和遮光膜(14)是能够用同一蚀刻液A进行蚀刻的材料，且调整为蚀刻液A对遮光膜(14)的湿法蚀刻速度比蚀刻液A对相移膜(12)的湿法蚀刻速度更快，蚀刻阻止膜(13)是对于遮光膜(14)的蚀刻液A具有耐蚀刻性的材料，且调整蚀刻阻止膜(13)的膜厚、材料、组成比，以使蚀刻阻止膜(13)被能够蚀刻蚀刻阻止膜(13)的蚀刻液B剥离为止所需的时间成为15分钟以下。
技术研发人员：牛田正男;坪井诚治
受保护的技术使用者：HOYA株式会社
技术研发日：2017.03.22
技术公布日：2017.10.03