基板及包含其的液晶显示面板的制作方法

本公开一般涉及显示技术，具体涉及触控显示技术，尤其涉及基板及包含其的液晶显示面板。

背景技术：

液晶显示面板中包括阵列基板、彩膜基板以及位于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层。阵列基板和彩膜基板可以简称为液晶显示面板的基板。

为了使液晶显示面板具有较优的响应速度及显示效果，通常为液晶层中的液晶分子设置一定的配向方向。

可以在上述基板的表面分别形成配向膜(alignmentlayer或orientationlayer)，通过在配向膜上形成配向槽来使液晶分子具有一定配向方向。

请参考图1a和图1b，图1a示出了液晶显示面板中现有基板的一种结构示意图；图1b示出了图1a所示基板沿bb’截得的剖面结构示意图以及涂布pi液后的示意图。

现有技术中可以利用转印版印刷方式或者喷墨方式在上述基板100的表面涂覆聚酰亚胺(polymidefilm，pi)液体材料，简称pi液(如图1b所示13)。然后将pi液13固化形成配向膜(alignmentlayer或orientationlayer)，再使用摩擦辊在配向膜上形成配向槽。

基板100可以包括围绕显示区101的非显示区102。为了使显示区101中的配向膜的厚度比较均匀，通常配向液涂布的区域103大于显示区101。也就说配向液13涂布的边界位于非显示区102。

在基板100上涂布配向液13以及对配向液13进行相应处理之后，显示区101的配向液13的厚度比较均匀。而冗余的配向液13则位于非显示区102中。冗余的配向液13通常在表面张力的作用下，堆积在非显示区102中。在非显示区102中堆积的配向液131有可能回流至显示区101，造成显示区101的配向膜厚度不均，从而造成液晶显示面板在显示画面时产生亮暗不均的现象。

技术实现要素：

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种基板及包含其的液晶显示面板，以解决背景技术中所述的至少部分技术问题。

第一方面，本申请提供了一种基板，基板包括显示区和围绕显示区的非显示区；基板包括衬底基板、设置于衬底基板之上的第一绝缘层；第一绝缘层覆盖显示区及至少部分非显示区；在非显示区，第一绝缘层设置有第一凹槽，第一凹槽包括一个第一子凹槽以及与第一子凹槽相连通的多个第二子凹槽；各第二子凹槽位于第一子凹槽与显示区之间，且第一子凹槽的延伸方向与第二子凹槽的延伸方向互相垂直。

第二方面，本申请还提供了一种液晶显示面板，包括如上的基板。

采用本申请的方案后，非显示区中冗余的配向液可以在毛细作用下沿第二子凹槽向第一子凹槽流动。因此，配向液不会在非显示区中形成堆积，进而不会发生非显示区的配向液回流至显示区的现象，从而可以改善由于非显区中的配向液堆积回流造成的显示区中的配向膜厚度不均的现象，进一步可以降低包括该基板的液晶显示面板的显示亮暗不均的不良发生率。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1a示出了液晶显示面板中现有基板的一种结构示意图；

图1b示出了图1a所示基板沿bb’截得的剖面结构示意图以及涂布pi液后的示意图；

图2a示出了本申请实施例提供的一种基板的俯视结构示意图；

图2b示出了图2a所示基板的沿cc’截得的剖面结构示意图；

图3a示出了图2a所示基板在涂布配向液后，区域24的局部放大示意图；

图3b示出了配向液涂布在图2a所示基板上的一种平衡状态示意图；

图4a示出了图2a所示的一种第一凹槽向衬底基板的投影的局部放大示意图；

图4b示出了图2a所示的另一种第一凹槽向衬底基板的投影的局部放大示意图；

图5示出了本申请实施例提供的另一种基板的俯视结构示意图；

图6示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图；

图7示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图；

图8示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图；

图9示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图；

图10示出了当图2a所示基板为阵列基板时的沿cc’截得的剖面结构示意图；

图11示出了本申请实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

为了改善上述非显示区中堆积的配向液回流至显示区引起配向膜厚度不均的现象，本申请提出了以下改进的基板。

请结合图2a和图2b，图2a示出了本申请实施例提供的一种基板的俯视结构示意图；图2b示出了图2a所示基板的沿cc’截得的剖面结构示意图。

在本实施例中，基板200包括显示区201和围绕显示区201的非显示区202。

基板200包括衬底基板21、设置于衬底基板21之上的第一绝缘层22。第一绝缘层22覆盖显示区201及至少部分非显示区202。

在非显示区202，第一绝缘层22中设置有第一凹槽23，第一凹槽23可以包括一个第一子凹槽231以及与第一子凹槽231相连通的多个第二子凹槽232。

各第二子凹槽232位于第一子凹槽231与显示区201之间。假设第一子凹槽231的延伸方向为x，第二子凹槽232的延伸方向为y，则第一子凹槽231的延伸方向x与第二子凹槽232的延伸方向y互相垂直。

在本实施例中，在基板200上涂布配向液时，配向液涂布的区域203覆盖显示区201，并且配向液涂布的区域203的边界位于非显示区202中。

在本实施例中，任意一个第二子凹槽232向衬底基板的正投影与配向液涂布的区域203向衬底基板的正投影部分重叠。也就说，在基板200上涂布配向液时，配向液涂布的区域203可以覆盖第二子凹槽232远离第一子凹槽231的一端。

由于第二子凹槽232位于显示区201和第一子凹槽231之间，在涂布配向液时，配向液涂布区域203可以覆盖部分第二子凹槽232，这样配向液容易流入第二子凹槽232中。

请参考图3a，其示出了图2a所示基板在涂布配向液后，区域24的局部放大示意图。

配向液涂布区域覆盖第二子凹槽远离第一子凹槽的一端，在配向液涂布到基板上后，配向液比较容易流入第二子凹槽中。如图3a所示，流入第二子凹槽232中的配向液25与第二子凹槽232接触的位置受到第二子凹槽232的表面对配向液的作用力，简称固-液作用力；以及配向液分子之间的作用力，简称液-液作用力。通常，在基板上涂布的配向液25对于配向液25所接触的基板的表面来说是可以浸润的，这样有利于配向液25在基板上的扩展。也就是说，配向液25对于第二子凹槽232的表面来说是浸润的。也即，在本实施例中，第二子凹槽232对配向液25的作用力(固-液作用力)大于与第二子凹槽232接触位置处的配向液之间的作用力(液-液作用力)。

取如图3a所示的一小段配向液25’，对其受力进行分析。如图3a所示，配向液25’受到固-液作用力f1以及液-液作用力f2的合力作用。配向液25与第二子凹槽232表面之间的接触角例如可以为θ，θ＜90°。由上述分析可知f1>f2。分别对f1和f2进行分解，分别得到f1和f2在第二子凹槽232延伸方向上的分力fy1和fy2。

fy1＝f1×cosθ；

fy2＝f2×cosθ；

由于f1大于f2，因此fy1大于fy2。也就是说，配向液25’在第二子凹槽232中y方向上受到合力的方向为指向第一子凹槽231的方向。因此配向液25在第二子凹槽232中可以沿着第二子凹槽232的表面向第一子凹槽231流动。上述过程可以视为毛细作用。

在一些应用场景中，非显示区202中冗余的配向液涂布较多，请参考图3b，其示出了配向液涂布在图2a所示基板上的一种平衡状态示意图。如图3b所示，在基板200上涂布的配向液25，其在非显示区202中冗余的部分在毛细作用下可以经过第二子凹槽232流至第一子凹槽231中。

这样，由于在基板的非显示区中设置第一凹槽，且配向液涂布的区域可以覆盖部分第一凹槽的第二子凹槽，即便基板上非显示区中存在冗余的配向液，配向液可以在毛细作用下沿第二子凹槽向第一子凹槽流动。因此，冗余的配向液不会在非显示区中堆积，不会发生配向液回流至显示区中的现象。改善了由于非显区中的配向液堆积造成的显示区中的配向膜的厚度不均的现象，从而可以改善包括该基板的液晶显示面板在显示画面时的亮暗不均的现象。

在本实施例中，第一凹槽23可以设置在如图2a所示的显示区201的上侧，可以理解的是，第一凹槽23还可以设置在显示区201的任意一侧。

在本实施例的一些可选实现方式中，如图2b第二子凹槽232靠近显示区201的深度h2’小于第二子凹槽232靠近第一子凹槽231的深度h2。也就是说，第二子凹槽232靠近显示区201的深度h2’可以设置得较浅。这样，在向基板200涂布配向液时，涂布配向液的工具(例如转印版)可以与第二子凹槽232底部接触，有利于将配向液压入第二子凹槽232中，进一步有利于配向液沿着第二子凹槽232在毛细作用下流向第一子凹槽231。

在一些应用场景中，位于基板200的非显示区202中的第一绝缘层中设置有用于阻断水汽的凹槽，这时，可以将原有的阻断水汽的凹槽作为第一凹槽23中的第一子凹槽231，这样可以降低制作第一凹槽23的工艺复杂度。

在本实施例的一些可选实现方式中，第一绝缘层22包括平坦化层。当基板200为彩膜基板时，上述平坦化层可以为设置在彩色滤光片远离衬底基板一侧的有机材料层。当基板200为阵列基板时，上述平坦化层例如可以为设置在薄膜晶体管阵列之上的有机材料层。可以在上述平坦化层中设置第一凹槽。

在本实施例的一些可选实现方式中，第一子凹槽231的深度h1大于等于第二子凹槽的最大深度h2。第一子凹槽231的深度h1设置得大于第二子凹槽232的深度，一方面可以容纳较多的配向液，另一方面可以阻止配向液由第一子凹槽231经第二子凹槽232回流。

在本实施例的一些可选实现方式中，请参考图4a，图4a示出了图2a所示的一种第一凹槽向衬底基板的投影的局部放大示意图。

如图4a所示，第一凹槽向衬底基板的正投影23’中，第二子凹槽向衬底基板的正投影232’的各处的宽度w相等。在本实施例中，第二子凹槽向衬底基板的正投影的宽度，可以等于形成第二子凹槽的第一绝缘层远离衬底基板的表面的开口的宽度。

较优的，第二子凹槽向衬底基板的正投影232’的各处的宽度w可以在10μm～20μm之间。当在基板200上涂布配向液时，例如使用转印版向基板200上印刷配向液时，转印版上的凸起部可以与第二子凹槽的底部接触，有利于将转印版上的配向液压入第二子凹槽中。进而有利于配向液沿第二子凹槽流动。

在本实施例的一些可选实现方式中，请参考图4b，图4b示出了图2a所示的另一种第一凹槽向衬底基板的投影的局部放大示意图。

如图4b所示，第一凹槽向衬底基板的正投影23’中，第一子凹槽向衬底基板的正投影231’的宽度不变。第二子凹槽向衬底基板的正投影232’的宽度沿第一方向逐渐增大。这里，第一方向为垂直于第一子凹槽且靠近所述第一子凹槽的方向。这样设置第二子凹槽的形状，一方面有利于配向液沿第二子凹槽向第一子凹槽流动，另一方面可以增加配向液由第一子凹槽经第二子凹槽回流的难度。

请继续参考图5，其示出了本申请实施例提供的另一种基板的俯视结构示意图。

与图2a和图2b所示的基板相同，图5所示的基板300包括显示区201和围绕显示区201的非显示区202。

基板300包括衬底基板、设置于衬底基板之上的第一绝缘层。第一绝缘层覆盖显示区201及至少部分非显示区202。在非显示区202，第一绝缘层中设置有第一凹槽23。

同样，在基板300中，配向液涂布区域203覆盖显示区201，且配向液涂布区域203的边界位于非显示区202中。

第一凹槽23同样可以包括第一子凹槽231和第二子凹槽232。

第二子凹槽232位于第一子凹槽231与显示区201之间，且第二子凹槽232的延伸方向与第一子凹槽231的延伸方向互相垂直。

同样，在本实施例中，在涂布配向液时，配向液涂布区域可以覆盖部分第二子凹槽232，这样配向液容易流入第二子凹槽232中。

与图2a所示实施例不同的是，基板300中，显示区201的上下相对两侧的非显示区202中分别设置第一凹槽23。当基板300为阵列基板时，这里的显示区201的上下相对的两侧中一侧的非显示区202中可以设置用于向数据线提供显示信号的集成电路。

本实施例提供的基板300，可以使显示区201上下相对两侧的非显示区202中冗余的配向液沿第二子凹槽流向第一子凹槽。从而可以减少非显示区202中的配向液回流引起的显示区201上下边界附近的配向膜厚度不均。可以进一步改善包括上述基板300的液晶显示面板在显示画面时的亮暗不均的现象。

请继续参考图6，其示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图。

与图5所示的基板300相同，图6所示的基板400包括显示区201和围绕显示区201的非显示区202。基板400同样可以包括衬底基板，设置于衬底基板之上的第一绝缘层。第一绝缘层覆盖显示区201及至少部分非显示区202。在非显示区202，第一绝缘层中设置有第一凹槽23。

同样，在基板400中，配向液涂布区域203覆盖显示区201，且配向液涂布区域203的边界位于非显示区202中。

第一凹槽23同样可以包括第一子凹槽231和第二子凹槽232。

第二子凹槽232位于第一子凹槽231与显示区201之间，且第二子凹槽232的延伸方向与第一子凹槽231的延伸方向互相垂直。

与图5所示实施例不同的是，在基板400中，显示区201的左右相对两侧的非显示区202中分别设置第一凹槽23。当基板400为阵列基板时，这里的显示区201的左右相对的两侧中至少一侧的非显示区202中可以设置用于向扫描线提供驱动信号的移位寄存单元。

通常，图6所示的显示区201的左右相对两侧的非显示区202相对较窄，配向液涂布区域在显示区左右两侧的边界距离显示区201也较近，假设在显示区201的左右相对两侧没有设置第一凹槽23，则在显示区201的左右相对两侧非显示区202中配向液容易回流至显示区201，造成显示区201配向膜厚度不均。

由于在本实施例中，在显示区201的左右相对两侧的非显示区202中设置第一凹槽23，这样，显示区201左右两侧的非显区202中冗余的配向液在毛细作用下沿第二子凹槽232可以流入第一子凹槽231。这样可以改善包括基板400的液晶显示面板在显示画面时左右两侧亮暗不均的现象，从而可以提高液晶显示面板的显示效果。

请继续参考图7，其示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图。

与图2a所示的基板200、图5所示的基板300和图6所示的基板400相同，图7所示的基板500包括显示区201和围绕显示区201的非显示区202。基板500同样可以包括衬底基板和设置在衬底基板之上的第一绝缘层。在第一绝缘层中设置第一凹槽23。

第一绝缘层覆盖显示区201及至少部分非显示区202。在非显示区202，第一绝缘层中设置有第一凹槽23。

同样，在基板500中，配向液涂布区域203覆盖显示区201，且配向液涂布区域203的边界位于非显示区202中。

第一凹槽23同样可以包括第一子凹槽231和第二子凹槽232。

第二子凹槽232位于第一子凹槽231与显示区201之间，且第二子凹槽232的延伸方向与第一子凹槽231的延伸方向互相垂直。

同样，在本实施例中，在涂布配向液时，配向液涂布区域203可以覆盖部分第二子凹槽232。

与图2a、图5和图6所示基板不同的是，本实施例提供的基板500中，第一凹槽23环绕显示区201。这样，在显示区201的周围的非显区202中均设置第一凹槽23，可以使得在任意一个位置的非显示区202中堆积的配向液都可以沿着第二子凹槽232流如第一子凹槽231中。从而可以进一步改善由于配向液堆积回流导致的显示区201任意一侧的配向膜的厚度不均匀的现象。从而可以进一步改善包括基板500的液晶显示面板的显示画面质量。

请继续参考图8，其示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图。

与图7所示基板500相同，图8所示基板600同样包括显示区201和围绕显示区201的非显示区202。基板600包括衬底基板、设置于衬底基板之上的第一绝缘层。第一绝缘层覆盖显示区201及至少部分非显示区202。在非显示区202，第一绝缘层中设置有第一凹槽23。

同样，在基板600中，配向液涂布区域203覆盖显示区201，且配向液涂布区域203的边界位于非显示区202中。

第一凹槽23同样可以包括第一子凹槽231和第二子凹槽232。

第二子凹槽232位于第一子凹槽231与显示区201之间，且第二子凹槽232的延伸方向与第一子凹槽231的延伸方向互相垂直。

同样，在本实施例中，在涂布配向液时，配向液涂布区域可以覆盖部分第二子凹槽232。

与图2a不同的是，本实施例提供的基板600中，在非显示区202中，第一凹槽23中的第一子凹槽231可以分为多段。每一段第一子凹槽231可以对应一个第一区域204。在第一区域204中还设置多个第二子凹槽232。

也就是说，非显示区202可以划分为多个第一区域204，可以在容易堆积配向液的第一区域204中设置第一凹槽23。

本实施例提供的基板中，第一凹槽23可以根据配向液的堆积情况，例如经过多个基板制作经验得出基板600的某几个第一区域204中容易堆积配向液，则可在非显示区202的这几个第一区域204中设置第一凹槽。

本实施例提供的基板，由于可以针对具体情况来设置第一凹槽，在改善由于在非显示区堆积的配向液回流而引起的显示区的配向膜厚度不均的现象的同时，简化制作工艺。

请继续参考图9，其示出了本申请实施例提供的又一种基板的俯视结构示意图。

与图2a所示基板200相同，图9所示基板700同样包括显示区201和围绕显示区201的非显示区202。基板700包括衬底基板、设置于衬底基板之上的第一绝缘层。第一绝缘层覆盖显示区201及至少部分非显示区202。在非显示区202，第一绝缘层22中设置有第一凹槽23。

同样，在基板700中，配向液涂布区域203覆盖显示区201，且配向液涂布区域203的边界位于非显示区202中。

第一凹槽23同样可以包括第一子凹槽231和第二子凹槽232。

第二子凹槽232位于第一子凹槽231与显示区201之间，且第二子凹槽232的延伸方向与第一子凹槽231的延伸方向互相垂直。

同样，在本实施例中，在涂布配向液时，配向液涂布区域可以覆盖部分第二子凹槽232。

与图2a不同的是，本实施例提供的基板700中，第一凹槽23还包括第三子凹槽233。第三子凹槽233设置于第一子凹槽231与显示区201之间，且第三子凹槽233的延伸方向与第一子凹槽231的延伸方向相同。第三子凹槽233与各第二子凹槽232连通。

在本实施例中，第三子凹槽233的深度可以小于等于第一子凹槽231的深度。

进一步可选地，第三子凹槽233向衬底基板的正投影可以覆盖配向液涂布区域向衬底基板的正投影的边界。

在第一凹槽23中设置与第一子凹槽231同向延伸的第三子凹槽233，且第三子凹槽233与各第二子凹槽232连通。在向基板上涂布配向液时，例如使用转印版向基板700印刷配向液时，转印版的凸起部可以与第三子凹槽233接触，便于将配向液压入第三子凹槽233中。在第三子凹槽233中，配向液在毛细作用下可以流入第二子凹槽232中。进一步地，配向液在毛细作用下由第二子凹槽232流入第一子凹槽231。这样，可以更加有利于改善由于配向液在非显示区堆积引起配向液回流至显示区引起的配向膜厚度不均的现象。

可以理解的是，图9所示的包括第三子凹槽233的第一凹槽23还可以设置在基板中显示区201的任意一侧、任意相对两侧，包括第三子凹槽233的第一凹槽23还可以环绕显示区201，此外包括第三子凹槽233的第一凹槽23还可以设置在非显示区202的任意一段区域中。

具体地，可以根据具体的需要在非显示区中设置图9所示的第一凹槽。

请继续参考图10，其示出了当图2a所示基板为阵列基板时的沿cc’截得的结构示意图。

如图10所示，当基板200为液晶显示面板的阵列基板时，基板200可以包括衬底基板21，设置在衬底基板21之上的第一金属层222，第一金属层222之上的第二金属层224。阵列基板还包括设置在衬底基板21与第一金属层222之间的第二绝缘层221、设置在第一金属层222与第二金属层224之间的第二绝缘层223，以及设置在第二金属层224之上的平坦化层225。平坦层225的材料例如可以为有机物。其中，第一金属层222例如可以与显示区201中的薄膜晶体管的栅极同层，第二金属层224例如可以与显示区201中的薄膜晶体管的源/漏电极同层。

基板200中的第一绝缘层22例如可以包括平坦化层225、第二绝缘层221和第二绝缘层223。

在一些应用场景中，如图10所示，基板200中设置在非显示区202中的第一凹槽23的第二子凹槽232可以由平坦化层225和第二绝缘层223及第二绝缘层221形成。

在另外一些应用场景中，基板200中设置在非显示区202的第一凹槽23的第二子凹槽232还可以设置在上述第二绝缘层221和/或第二绝缘层223中。

可以理解的是，第一子凹槽可以设置在平坦化层中，例如使用掩膜版在第一子凹槽的位置处将平坦化层刻穿，形成第一子凹槽。此外，第一子凹槽还可以形成在上述平坦化层、第二绝缘层组成的复合层中。

在基板中形成第二子凹槽的时候，可以采用半色调掩膜版在平坦化层或者第二绝缘层中形成多个第二子凹槽。

另外还可是使用光学邻近效应修正(opticalproximitycorrection,opc)方法在平坦化层和/或第二绝缘层中形成上述第二子凹槽。

值得指出的是，虽然本申请的实施例中以配向液在第二子凹槽中时，在毛细作用下向第一子凹槽流动，配向液在毛细作用下沿由两个子凹槽之间的凸起向第一子凹槽流动的情况也在本申请保护的范围之内。

请继续参考图11，其示出了本申请实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图。

如图11所示，液晶显示面板800包括阵列基板81、与阵列基板81相对设置的彩膜基板82，用于粘接阵列基板81与彩膜基板82的封装胶83，以及设置在阵列基板81与彩膜基板82之间的液晶84。

在本实施例中，阵列基板81和彩膜基板82中的至少一个为如图图2a、图5、图6、图7、图8或图9所示的基板。图11中所示的阵列基板81和彩膜基板82均为图2a、图5、图6、图7、图8或图9所示的基板。

在一些应用场景中，阵列基板81可以为图2a、图5、图6、图7、图8或图9所示的基板。阵列基板可以包括衬底基板811以及设置在衬底基板811之上的第一绝缘层812以及设置在第一绝缘层之上的配向膜813。在一些应用场景中，上述第一绝缘层可以为设置在衬底基板之上的平坦化层。在阵列基板81的非显区na中可以设置第一凹槽814。

在另外一些应用场景中，彩膜基板82可以为图2a、图5、图6、图7、图8或图9所示的基板。彩膜基板可以包括衬底基板821以及设置在衬底基板821之上的第一绝缘层822，以及设置在第一绝缘层之上的配向膜823。这里，第一绝缘层822例如可以为设置在各彩色滤光片远离衬底基板一侧的平坦化层。在彩膜基板的非显示区na的第一绝缘层中可以设置第一凹槽824。

此外，本领域技术人员可以明白，本申请的液晶显示面板除了包括图11所示的阵列基板81和彩膜基板82之外，还可以包括其它的一些公知的结构，例如用于向阵列基板提供显示信号的集成电路等等。为了不模糊本申请的重点，将不再对这些公知的结构进行进一步的描述。

值得指出的是，包括图11所示的液晶显示面板可以应用于各种电子设备中，例如智能手机、平板电脑、电子书阅读器、mp3播放器(movingpictureexpertsgroupaudiolayeriii，动态影像专家压缩标准音频层面3)、mp4(movingpictureexpertsgroupaudiolayeriv，动态影像专家压缩标准音频层面4)播放器、膝上型便携计算机和台式计算机等等。

以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。