显示基板及显示装置的制作方法

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显示基板及显示装置的制造方法

本实用新型涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示基板及显示装置。



背景技术:

偏光片是液晶显示器的关键部件,是目前业界投资最为热门的行业之一,其成本约占面板原材料制造成本的11%左右。偏光板的主要作用是可以将不具偏极性的自然光转化为偏极光,使与电场呈垂直方向的光线通过,让LCD面板能正常显示影像。

但是,现有技术中,偏光片贴合在面板的外侧,使得显示模组的厚度较厚,不利于减薄产品的厚度。



技术实现要素:

本实用新型提供一种显示基板及显示装置,用以解决偏光片贴合在面板的外侧,不利于减薄产品的厚度的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型实施例中提供一种显示基板,所述显示基板包括:

设置在一基底上的保护薄膜;

固定在所述基底和保护薄膜之间的偏光薄膜,显示用光线通过所述偏光薄膜后形成线性偏振光。

如上所述的显示基板,优选的是,所述基底为柔性基底。

如上所述的显示基板,优选的是,所述基底由塑料材料制得。

如上所述的显示基板,优选的是,所述基底由聚酯材料制得。

如上所述的显示基板,优选的是,所述偏光薄膜通过透明粘接层固定在所述基底上,所述保护薄膜设置在所述偏光薄膜的背离所述基底的表面上。

如上所述的显示基板,优选的是,所述显示基板为阵列基板或彩膜基板。

如上所述的显示基板,优选的是,当所述显示基板为彩膜基板,包括公共电极时,由所述公共电极形成所述保护薄膜。

如上所述的显示基板,优选的是,当所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板时,所述保护薄膜由透明导电材料制得。

本实用新型实施例中还提供一种显示装置,包括如上所述的显示基板。

如上所述的显示装置,优选的是,所述显示装置包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板;

所述阵列基板采用如上所述的显示基板,所述彩膜基板采用如上所述的显示基板。

本实用新型的上述技术方案的有益效果如下:

上述技术方案中,通过在显示基板的基底上设置保护薄膜,并将偏光薄膜固定在所述基底和保护薄膜之间,所述基底和保护薄膜能够起到保护偏光薄膜的作用,不需要单独在偏光薄膜的两侧增加保护基板,能够减薄显示模组的厚度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1表示本实用新型实施例中显示基板的局部结构示意图;

图2和图3表示本实用新型实施例中显示基板的制作过程示意图;

图4和图5表示本实用新型实施例中液晶显示装置的制作过程示意图。

具体实施方式

现有的偏光片由两个保护膜(一般为醋酸纤维素膜,简称TAC)和设置在所述两个保护膜之间的偏光薄膜形成,呈三明治结构,两个保护膜起到保护偏光薄膜的作用,并将偏光片贴合在显示面板外侧,提供偏振光。但是,这种贴合的方式不利用实现显示模组的薄型化。

为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种显示基板,通过在显示基板的基底上设置保护薄膜,并将偏光薄膜固定在所述基底和保护薄膜之间,所述基底和保护薄膜能够起到保护偏光薄膜的作用,不需要单独在偏光薄膜的两侧增加保护膜,能够减薄显示模组的厚度。

下面将结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

实施例一

如图1所示,本实用新型实施例中提供一种显示基板,包括基底100和设置在基底100上的保护薄膜2。还包括固定在基底100和保护薄膜2之间的偏光薄膜1,显示用光线通过偏光薄膜1后形成线性偏振光。

上述技术方案中,基底100和保护薄膜2能够起到保护偏光薄膜1的作用,不需要单独在偏光薄膜1的两侧增加保护膜,实现偏光薄膜1内嵌在显示基板上,能够减薄显示模组的厚度,有利于实现产品的薄型化,并简化产品的结构。

其中,偏光薄膜1可以为碘系偏光薄膜或染料系偏光薄膜。碘系偏光薄膜容易获得高透过率、高偏振度的光学特性,但耐高温高湿的能力较差。染料系偏光薄膜不容易获得高透过率、高偏振度的光学特性,但耐高温高湿的能力较好。对应的染色方法为碘染色法和染料染色法。碘染色法是指在聚乙烯醇(PVA)薄膜染色、拉伸过程中,使用碘和碘化钾作为二向性介质使PVA薄膜产生极性化偏光特性。这种染色方法的优点是比较容易获得99.9%以上的高偏光度和42%以上高透过率的偏光特性,但是由于碘的分子结构在高温高湿的条件下易于破坏,因此使用碘染色工艺生产的偏光薄膜的耐久性较差。染料染色法是将具有二向色性的有机染料吸着在PVA薄膜上,并加以延伸定向,使之具有偏旋光性能。这种染色方法不容易获得高透过率、高偏振度的光学特性,其偏光度一般不超过90%、透过率不超过40%,但耐高温高湿的能力较好利用二向性染料进行偏光片染色,且价格昂贵。

在实际应用过程中,偏光薄膜1可以根据实际需要选择合适类型的偏光薄膜。

本实施例中,偏光薄膜1可以通过第一透明粘接层10固定在基底100上,并通过成膜工艺在偏光薄膜1的背离基底100的表面上形成保护薄膜2,即,保护薄膜2设置在偏光薄膜1的背离基底100的表面上,从而基底100、偏光薄膜1和保护薄膜2固定组装,实现偏光薄膜1内嵌在显示基板上。

保护薄膜2可以由透明导电材料(如:氧化铟锡、氧化铟锌)制得,具有成膜厚度小的优点,有利于减薄产品的厚度。保护薄膜2具体可以复用显示基板已有的薄膜。例如:当所述显示基板为彩膜基板,包括公共电极时,可以由公共电极形成保护薄膜2。当然,也可以通过单独的制作工艺形成透明导电薄膜,并由所述透明导电薄膜形成保护薄膜2。

为了保证偏光薄膜1的性能,设置整个偏光薄膜1的一面与基底100接触设置,相对的另一面与保护薄膜2接触设置,保证整个偏光薄膜1位于同一平面内,且基底100、偏光薄膜1、保护薄膜2呈三明治结构,基底100和保护薄膜2起到保护偏光薄膜1的作用。

柔性显示定义为利用很薄的柔性基底制作成的平面显示,它能弯曲到曲率半径只有几厘米或更小而不会损害其功能。柔性显示技术具有超薄、质量轻、耐用、储存量大、设计自由、可收卷等优点。

本实用新型的技术方案也适用于柔性显示技术,则,所述显示基板的基底100采用柔性基底。柔性基底主要包括:塑料、金属箔片、超薄玻璃和纸质基底、生物复合薄膜基底。其中,塑料作为柔性基底被认为具有广阔的前景,因为塑料基底具备透明性、柔性、质量轻、耐用、价格便宜等优点,有助于有源矩阵薄膜晶体管阵列的生长和印刷,为大规模整合柔性电子装置提供了成本效益、和量产加工的可能性。

本实施例中,基底100选择塑料基底,由塑料材料制得。

进一步地,基底100可以由聚酯(PET)材料制得,聚酯材料是塑料材料的一种。由PET材料制得的基底100,具有良好透明性、简单的加工过程、良好的力学性能、较高的阻隔氧气和水汽渗透性能等优点。相对于现有技术中利用TAC膜来保护偏光薄膜,能够进一步提高显示模组的光线透过率,降低功耗和成本。

但是,PET材料不耐高温,低温沉积保护薄膜2时,器件性能降低。而温度升高时,PET基底收缩,保护薄膜2容易从基底上脱落。

为了解决上述技术问题,结合图2和图3所示,本实施例中,首先在偏光薄膜1表面通过沉积保护薄膜2,并通过第一透明粘接层10固定在PET基底100上;之后在40℃-70℃的温度条件下对PET基底100进行加热,以增强PET基底100的强度。为了进一步防止PET基底100形变,还可以通过第二透明粘接层20将PET基底100固定在玻璃基底101上,进行冷却;最后,在PET基底100进行其他膜层(图中未示出)的制作,如:所述显示基板为彩膜基板时,进行黑矩阵、滤光层、取向膜等的制作。所述显示基板为薄膜晶体管阵列基板时,进行薄膜晶体管、显示用电极等的制作。至于具体的制作过程参见现有技术,在此不再详述。

在完成显示基板的所有膜层的制作后,可以去除所述玻璃基底。

进一步地,对于液晶显示面板,在对盒形成显示面板时,为了避免加热影响偏光薄膜的光线透过率,采用紫外线对封框胶进行固化,来密封对盒阵列基板和彩膜基板。

当阵列基板和彩膜基板均采用上述显示基板时,可以在完成阵列基板和彩膜基板的对盒后,去除玻璃基底,获得盒内设置偏光薄膜的柔性显示面板。

实施例二

本实用新型实施例中还提供一种显示装置,包括如上所述的显示基板,将偏光薄膜内嵌在显示基板上,不需要单独在偏光薄膜的两侧增加保护膜,能够减薄显示模组的厚度,有利于实现产品的薄型化,并简化产品的结构。

所述显示装置可以为液晶显示装置、有机电致发光显示装置或其他使用偏光薄膜的显示装置。

如图4所示,对于液晶显示装置,包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,所述偏光薄膜包括上偏光薄膜11和下偏光薄膜12。所述阵列基板采用如上所述的显示基板,即,所述阵列基板包括第二基底300和设置在第二基底300上的公共电极13,由公共电极13形成第一保护薄膜。还包括设置在公共电极13的背离第二基底300的表面上的滤光层3、黑矩阵4和第一取向膜15等。上偏光薄膜11接触设置在第二基底300上,并位于第二基底300和公共电极13之间。其中,第二基底300可以选择PET基底,实现柔性显示技术,还能够增加产品的光线透过率,降低能耗。进一步地,为了防止第二基底300发生形变,将公共电极13沉积在上偏光薄膜11上,然后将上偏光薄膜11通过第一透明粘接层10固定在第二基底300上。在公共电极13上形成滤光层3、黑矩阵4和第一取向膜15等结构之前,还可以通过第二透明粘接层20将第二基底300固定在第一玻璃基底101上,进一步防止第二基底300发生形变。

所述阵列基板也采用如上所述的显示基板,即,所述阵列基板包括第一基底200和设置在第一基底200上的第二保护薄膜14。还包括设置在第二保护薄膜14的背离第一基底200的表面上的薄膜晶体管(图中未示出)、像素电极5、栅线6和数据线(图中未示出)等。下偏光薄膜12接触设置在第一基底200上,并位于第一基底200和第二保护薄膜14之间。进一步地,为了防止第一基底200发生形变,将第二保护薄膜14沉积在下偏光薄膜12上,然后将下偏光薄膜12通过第三透明粘接层31固定在第一基底200上。在第二保护薄膜14上形成滤光层3和黑矩阵4等结构之前,还可以通过第四透明粘接层32将第一基底200固定在第二玻璃基底201上,进一步防止第一基底200发生形变。

上述技术方案,将液晶显示装置的上偏光薄膜内嵌在彩膜基板上,下偏光薄膜内嵌在阵列基板上,实现盒内设置上偏光薄膜和下偏光薄膜,减薄了产品的厚度。进一步地,第一基底200和第二基底300采用PET基底,还能够增加产品的光线透过率,降低能耗。

对于柔性液晶显示装置,以彩膜基板为例,其具体制作过程为:首先在上偏光薄膜11上形成公共电极13,并将上偏光薄膜11通过第一透明粘接层10固定在第二基底300上,第二基底300可以为柔性基底,具体为PET基底,公共电极13复用为第一保护薄膜;之后通过第二透明粘接层20将第二基底300固定在玻璃基底101上,第一玻璃基底101能够防止第二基底300发生形变;最后在公共电极13上形成滤光层3、黑矩阵4和取向膜15,至此完成彩膜基板的制作。当公共电极不设置在彩膜基板上时,也可以单独制作透明导电薄膜,并由所述透明导电薄膜形成第一保护薄膜13,用于保护上偏光薄膜11。

至于阵列基板的制作过程,与彩膜基板的制作过程类似,不同的是,在保护薄膜上形成的是薄膜晶体管、像素电极、栅线和数据线等结构。

在制作完成彩膜基板和阵列基板后,通过封框胶30密封对盒所述彩膜基板和阵列基板,并通过紫外线固化封框胶30,以免影响偏光薄膜的性能。

具体在对盒彩膜基板和阵列基板后,去除彩膜基板和阵列基板的第一玻璃基底101和第二玻璃基底201,形成柔性显示面板,结合图4和图5所示。

对于有机电致发光显示装置,包括对盒的阵列基板和封装基板。在面板的显示侧可以设置偏光薄膜和位于偏光薄膜的显示侧的四份之一波片。偏光薄膜和四份之一波片形成圆偏光,用于吸收反射光,降低反射环境光线造成的干扰,同时还能够增强对比度。其中,所述封装基板采用如上所述的显示基板,即,所述封装基板包括基底,所述偏光薄膜固定在所述基底上,所述偏光薄膜位于所述基底和四份之一波片之间,由所述四份之一波片形成保护薄膜,用于保护所述偏光薄膜。

对于其他显示装置,只要将偏光薄膜设置在显示基板的基底和保护薄膜之间,至于其它结构与现有技术相同。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和替换,这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。

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