1.一种实现均匀压印的纳米压印设备，包括中央控制单元，其特征在于：还包括放置模板或基板的托板、中间安装有透明模板的承压板，所述透明模板的上方设有紫外线照射灯，所述承压板置于所述托板的上方，所述托板的侧面安装有不少于三个支撑板，支撑板的端面和托板的端面平行，所述承压板的侧面安装有和支撑板相对应设置的直线位移传感器，直线位移传感器的检测杆与所述支撑板垂直，所述托板的底部安装有不少于三个用于带动所述托板做上下往复移动的上下移动装置，所述上下移动装置和所述支撑板对应设置；所述直线位移传感器和所述中央控制单元做电连接，所述上下移动装置和所述中央控制单元做电连接。
2.如权利要求1所述的一种实现均匀压印的纳米压印设备，其特征在于：所述托板上设有环形槽，所述环形槽和真空泵或抽气泵相接通。
3.如权利要求1所述的一种实现均匀压印的纳米压印设备，其特征在于：所述支撑板的数量为三个且沿所述托板均匀布置，所述直线位移传感器的数量为三个，所述上下移动装置的数量为三个且和所述支撑板对应设置。
4.如权利要求1所述的一种实现均匀压印的纳米压印设备，其特征在于：所述上下移动装置为伺服电动缸，所述伺服电动缸为直驱式，由伺服电机和滚珠丝杠组成。