专利名称：具有擦洗辊的照相处理设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及照相处理设备的改进，更具体地说，涉及具有窄处理通道的照相处理设备。
为了保持对照相处理设备内的光敏材料进行高质量的处理，重要的是，要将光敏材料保持在它必须通过的每一种处理溶液内，并且保持一段预定的时间。非常希望能减少光敏材料在处理溶液内的时间，以便提高处理装置的生产率。然而，如果光敏材料没有得到正确的处理，例如清洗不当，那么材料的长期稳定性就会受到很大影响。在例如美国专利5,311,235、5,309,191、5,339,131、5,387,499、5,353,088以及5,387,499、5,420,658、5,381,203中描述的薄箱型处理设备中，由于可用的处理溶液的量减少，因而要减少时间就变得更加困难。
本发明可提供一种改进的处理设备，它可以减少光敏材料需保持在处理溶液内的时间，并且对处理质量和光敏材料都不会有不利的影响。
本发明旨在克服上述的一个或多个问题。简单地概括来说，根据本发明的一个方面，提供了一种用于处理光敏材料的处理设备，所述处理设备包括一供光敏材料通过的狭窄的处理通道；一驱动机构，用于将所述光敏材料传输通过所述处理通道；一擦洗辊，它横向延伸于从所述处理通道通过的光敏材料的至少一部分，所述擦洗辊被定位成能与通过的光敏材料接触，并且沿着与光敏材料行进方向相反的方向转动。
根据本发明的另一个方面，提供了一种用于在一处理设备内处理光敏材料的方法，所述设备具有一供光敏材料通过的狭窄的处理通道，所述方法包括如下步骤设置一擦洗辊，它横向延伸于从该处理通道通过的光敏材料的至少一部分，所述擦洗辊被定位成能与通过的光敏材料接触，并且沿着与光敏材料行进方向相反的方向转动；以及使光敏材料通过所述处理通道。
通过下面结合附图所作的详细描述，本发明的上述的和其它的目的、优点和新颖特征将变得更加清楚。
图1是根据本发明的一个处理设备的示意图；图2是图1设备的各处理段之一的剖示图；图3是图2所示处理段中的如线3-3所示的那一部分的放大视图；图4是沿图2中的线4-4剖取的处理段的剖示图；以及图5是将图2所示处理段部分切除后的立体图。
本说明书将具体地阐述构成本发明设备的一部分或与本发明协同工作的各元件。应该理解，本技术领域的熟练人员可以对没有图示或说明的元件采取各种形式。
参见图1，其中示出了一个根据本发明的用于处理光敏材料12的处理设备10。在所示的这一实施例中，光敏材料12从一个位于供给室16内的供给辊14上供给。该光敏材料12从供给辊14送出，经过多个处理工位18、20、22、24，在这些工位上经受不同的光敏处理溶液。在该实施例中，处理工位22是设计成能使光敏材料12受到一照相显影液的处理；处理工位20是设计成能使光敏材料12受到一照相漂洗/定影处理溶液的处理；处理工位22和24是设计成能使光敏材料12受到清洗/冲洗溶液的处理。当然，应该理解，可以根据被处理的不同光敏材料设置任何所需数量的处理工位。在该实施例中，光敏材料是照相纸，但本发明并不限于此。
光敏材料离开处理工位24之后，它经过一个将其干燥的干燥段26，随后继续前进通过出口29走出设备10，继而绕到一承绕辊28上。
每个处理工位18、20、22、24都是小容积薄箱型的，即，设置了一个狭窄的处理通道30来容纳让光敏材料通过的处理溶液。另外，在与各处理工位相关的各再循环系统32中，设置了极少量的处理溶液。
在该实施例中，设备10是以单独装置形式示出的，但本发明并不限于此。例如，设备10可以是一个小实验室型照相处理设备的一部分。
参见图2，其中更详细地示出了处理工位22和24的导条和箱的构造。为了清楚起见，将只对工位22作详细描述，应该理解，工位24的构造也是类似的。处理工作还应理解处理工位18和20也是类似构造的。工位22包括一处理箱34，该处理箱具有外壁36和一大致呈U形的内壁38，它们形成了腔室40。腔室40内设置有一导条42，该导条具有一外壁43，在导条42的外壁43与腔室40的内壁38之间形成了一个狭窄的处理通道30。在该实施例中，通道30包括一第一直线段45、一转向段47和一第二直线段49，通道30的直线段45和49具有一基本恒定的厚度T。在导条42的下端设置了一个形成所述转向段47的转向辊48。在该实施例中，设置了上驱动辊50和下驱动辊51，以便将光敏材料12传送通过设备10。一对上驱动辊50设置在处理通道30的入口52和出口53处。一对下驱动辊51压抵在转向辊48上。照相处理溶液60设置在形成于导条42和箱体34之间的处理通道30内。在该实施例中，处理工位22是设计成能接收整条的光敏材料，但也可以将各处理工位设计成可处理切割成一张一张的或其它形式的光敏材料。
参见图1，处理溶液通过每个处理工位18、20、22和24的处理通道30而再循环。具体地说，处理溶液是被从处理通道30经出口62抽出，并通过一适当的管道64引至再循环泵66。泵66使溶液通过管道68、过滤器组件70，再通过管道72到达设置在导条42内的入口74。每个入口74又连接于一对细喷管76，这对喷管横穿过导条(参见图5)，以使处理溶液对通过处理通道30的直线段45、49的光敏材料进行冲击。为了产生处理溶液通过细喷管的有效流动，希望各喷管能按照下列关系来喷出处理溶液0.6＜F/A＜23其中F是溶液流过喷管的流量，以升/分钟为单位；以及A是喷管76的横截面积，以cm2为单位。
按照上述关系来设置一喷管可以确保处理溶液能恰当地冲击光敏材料。
处理工位22是小容积薄箱型构造的。即，在处理通道30和再循环系统32中只有相对少量的处理溶液。这是通过设置相对较窄的处理通道并使流过再循环系统的处理溶液的量为最少而实现的。为了实现本发明的目的，一个薄的处理通道应该考虑是这样的通道，即，其厚度T等于或小于通过该设备的光敏材料的厚度的100倍，并且最好是等于或小于光敏材料厚度的50倍。最好是将该处理设备设计成这样，即，在处理照相纸时，使厚度T等于或小于照相纸厚度的大约10倍，在处理照相胶片时，使厚度T等于或小于胶片厚度的大约18倍。为了实现本发明的目的，一个小容积薄箱型处理设备是这样的，即，处理溶液的总体积(即处理通道内的和再循环系统内的处理溶液之和)与可以处在处理通道内的光敏材料的最大面积之比小于35dm3/mm2。较佳的是，这个比率小于11dm3/mm2，最好是大约3dm3/mm2。处理通道30内的处理溶液的总体积最好是这样的，即，处理通道30内的处理溶液的体积是在处理通道30和再循环系统32内的可用处理溶液总体积的大约30％或更多一些。较佳的是，这个比率至少是50％。该处理设备是设计成无需任何处理溶液容器，并使整个系统内的处理溶液的量为最少。美国专利5,294,956、5,179,404和5,270762；欧洲专利559025、559026和559027；PCT申请92/10790、92/17819、93/04404、92/17370、91/19226、91/12567、92/07302、93/00612和92/07301中都描述了小容积薄箱型处理系统的例子。
如前所述，处理工位22和24是清洗/冲洗工位，在这些工位对光敏材料进行清洗，以便除去光敏材料上可能留下的任何显影剂和/或漂洗/定影剂，就像通常在已有技术的装置中所作的一样。本申请人提供了一种改进结构，它可大大减少对光敏材料清洗所需的时间。参见图2-图5，其中示出了设置在处理通道30内的多个擦洗辊80。在图示的这一实施例中，设置了四个擦洗辊80，其中两个在直线段45上，另两个在直线段49上。擦洗辊80是设计成能与光敏材料12接触，并且向着与光敏材料行进方向相反的方向转动(由箭头82标识)。重要的是，擦洗辊80应不会影响光敏材料通过处理工位22的正常运动。因此，擦洗辊80不应该对通过的光敏材料施加过大的力，但还是应与光敏材料12有足够的接触以清扫其表面，从而更有效地除去光敏材料的表面上的不希望有的显影剂和漂洗/定影剂，在减短的时间内加强清洗溶液对光敏材料12的搅动，并除去材料表面的任何松脱的颗粒。用于驱动辊子50和51的适当的驱动器应可以很容易地克服由擦洗辊80产生的任何运动阻力。擦洗辊80这样地安装于薄箱体34，它们转动而允许光敏材料贴着其通过，还对光敏材料12有一相对恒定的接触力。在该实施例中，各辊子80的横向两端90、92可转动地安装于薄箱体34，并且受到分别位于辊子80的两横向端90、92的一对弹簧86、88的弹性偏压而倾向于离开薄箱体34靠向光敏材料12。申请人业已发现，在一个根据本发明制成的处理设备中，光敏材料通过清洗和/或冲洗段所需的时间从大约90秒降低到少于60秒，明显地节省了时间。
可设置一个适当的驱动器(未图示)来使辊子80沿所需的方向转动。例如，可以通过适当的传动机构将一驱动电机连接于辊子，但并不限于此。每个辊子具有一接触段94，以便接触光敏材料12的表面95。较佳的是，各辊子80的转动速度高于光敏材料12通过处理工位22的线速度。在该实施例中，辊子80在光敏材料12表面处的速度是光敏材料12之速度的大约2倍。
接触段94的长度W最好等于或大约光敏材料12的宽度W1。接触段94是用不会对光敏材料12产生不利影响的材料制成。用于接触表面94的合适材料可以是例如硅酮、EPDM闭孔/开孔泡沫、马海毛和各种塑料。在该特定实施例中，表面94是用丢洛氏硬度大约为30的硅酮制成的。
参见图3，其中示出了一个辊子80附近的处理通道30的放大剖视图。内壁38的与辊子80相对的那一部分的形状最好是作成使光敏材料12和内壁38的这一部分之间不发生接触或接触为最小，以便不会限制光敏材料12的运动或损坏光敏材料12。特别是，设置了一个凹部96，其形状基本上对应于相邻辊子的形状，并且其尺寸定为使空间97的宽度Wc大于光敏材料12的厚度。较佳的是，如图所示，凹部96的半径Rc等于或大约辊子80的半径Rr。还是如图3所示，在辊子80背后设置了一个凹部98，以允许辊子80移向或移离光敏材料12。辊子80是安装成其总的移动量由弹簧86和88限制为一个预定量，以使光敏材料12不会被夹紧在凹部96内，使对光敏材料的任何潜在损害变得最小。
为了使光敏材料12的前边缘被卡在辊子80上的可能性为最小，在每个辊子80的上游设置了一个引导件99，而且使辊子与引导件99之间的距离D尽量小。距离D可以根据通过处理设备10的光敏材料12的物理特性来改变。在该实施例中，D是大约1mm。
处理通道30的靠近辊子80出口侧的那一部分设置了一个斜面段100，因而使光敏材料12的前边缘不会卡在通道30内。斜面段100的特定角度和尺寸也应根据光敏材料12的特定物理性质来改变。
在所述的较佳实施例中，辊子80是安装于第一部分(薄箱体34)，凹部96是设置在第二部分(导条)内。然而，本发明并不限于此，可以根据需要将凹部和辊子换过来分别设在第一和第二部分上。
权利要求
1.一种用于处理光敏材料的处理设备，所述处理设备包括一供光敏材料通过的狭窄的处理通道；一驱动机构，用于将所述光敏材料传输通过所述处理通道；一擦洗辊，它横向延伸于从所述处理通道通过的光敏材料的至少一部分，所述擦洗辊被定位成能与通过的光敏材料接触，并且沿着与光敏材料的行进方向相反的方向转动。
2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述擦洗辊是安装成其可以对贴着其通过的光敏材料施加一个预定的最大的力。
3.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述通道是由第一和第二段构成，所述擦洗辊与所述第一段相关，所述第二段具有一与所述擦洗辊相对的凹部，其形状基本上与所述擦洗辊的外形相一致。
4.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述通道是由第一和第二段构成，所述擦洗辊弹性地安装于所述第一段，并朝着所述光敏材料。
5.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述通道是由第一和第二段构成，所述第一段具有一用于接纳所述擦洗辊的凹部。
6.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备是小容积型处理设备。
7.一种用于在一处理过程中处理光敏材料的方法，所述处理过程的设备具有一供光敏材料从中通过的狭窄的处理通道，所述方法包括如下步骤设置一擦洗辊，它横向延伸于从所述处理通道通过的光敏材料的至少一部分，所述擦洗辊被定位成能与通过的光敏材料接触，并且沿着与光敏材料行进方向相反的方向转动；以及使光敏材料通过所述处理通道。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，该方法还包括如下步骤向所述处理通道引入一种对所述光敏材料的进行冲洗处理的溶液。
9.一种用于处理光敏材料的处理设备，所述处理设备包括一供光敏材料从中通过的狭窄的处理通道；一驱动机构，用于将所述光敏材料传输通过所述处理通道；一擦洗辊，它横向延伸于从所述处理通道通过的光敏材料的至少一部分，所述擦洗辊弹性地安装于所述处理设备，且与贴着其通过的光敏材料接触，并且沿着与光敏材料行进方向相反的方向转动。
10.如权利要求9所述的设备，其特征在于，所述擦洗辊的转速高于光敏材料的行进速度。
全文摘要
用于处理光敏材料的设备和方法。设备包括一供光敏材料从中通过的狭窄的处理通道。一驱动机构可将所述光敏材料传输通过所述处理通道,一擦洗辊横向延伸于从所述处理通道通过的光敏材料的至少一部分。所述擦洗辊被定位成能与贴着其通过的光敏材料接触,并且沿着与光敏材料行进方向相反的方向转动。
文档编号G03D3/13GK1260517SQ9912283
公开日2000年7月19日 申请日期1999年11月29日 优先权日1998年12月29日
发明者R·L·小皮奇尼诺, K·H·布莱克利, R·T·福尔图纳托 申请人:伊士曼柯达公司